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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]图案化方法-CN201810342023.9有效
发明人：张峰溢;李甫哲;蒋欣妤 -专利权人：联华电子股份有限公司;福建省晋华集成电路有限公司
申请日： 2018-04-17 - 公布日： 2022-03-15 - 主分类号： H01L21/033 文献下载
摘要：本发明公开一种图案化方法，其包括下列步骤，在第一掩模层上形成第二掩模层。对第一掩模层以及第二掩模层进行图案化制作工艺。第一掩模层被图案化成为第一掩模图案，且第二掩模层被图案化成为第二掩模图案。第二掩模图案形成于第一掩模图案上。对第二掩模图案进行等离子体处理。第二掩模图案的一部分被等离子体处理转换成被处理层。移除被处理层，用以使第二掩模图案的宽度小于第一掩模图案的宽度。
图案方法

[发明专利]图案描绘装置-CN201911069205.4有效
发明人：铃木智也;奈良圭;加藤正纪;渡辺智行;鬼头义昭;堀正和;林田洋祐;小宫山弘树 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2016-02-26 - 公布日： 2021-07-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种基板处理装置，具备：旋转圆筒DR，以既定速度往与基板P宽度方向交叉的搬送方向搬送；描绘装置11，具有多个描绘模块UW1～UW5，将投射于基板P的描绘光束沿着基板P的描绘线扫描以将既定图案描绘于基板P上，以通过多个描绘模块UW1～UW5的各个而描绘于基板P上的图案彼此在宽度方向相接合的方式，将彼此在宽度方向相邻的描绘线于搬送方向配置成相隔既定间隔；调整机构24，调整描绘线相对于基板P宽度方向的倾斜；
图案描绘装置

[发明专利]图案描绘装置-CN201910841697.8有效
发明人：铃木智也;加藤正纪;小宫山弘树 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2016-03-18 - 公布日： 2022-04-01 - 主分类号： G02B26/12 文献下载
摘要：本发明的光束扫描装置(MD)，是一边将光束(LB)的点光(SP)投射于对象物(FS)的被照射面、一边进行该点光(SP)于该被照射面上沿扫描线(SLn)的一维扫描，其具备：射入光束(LB)的入射光学构件(M10)、将来自入射光学构件(M10)的光束(LB)为进行扫描而加以偏向的扫描用偏向构件(PM)、射入经偏向的光束(LB)后投射于被照射面的投射光学系统(FT)、以及支承入射光学构件(M10)、扫描用偏向构件(PM)及投射光学系统(FT)、可绕与照射中心轴(Le)在既定容许范围内成同轴的第1旋转中心轴(Mrp)旋转的支承架(40)，该照射中心轴相对该被照射面垂直通过以该点光(SP)的扫描在该被照射面上形成的扫描线(SLn)的中点。
图案描绘装置

[发明专利]图案描绘装置-CN202010601959.6有效
发明人：小宫山弘树 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2016-06-17 - 公布日： 2023-06-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明的图案描绘装置及图案描绘方法，稳定地维持描绘超详细图案所需的扫描线的配置精度或光学性能。图案描绘装置(EX)，使基板(P)上所聚光的光点(SP)沿着描绘线(SL)进行主扫描，并且使基板(P)进行副扫描，藉此于基板(P)上描绘既定图案；该图案描绘装置(EX)使由多面镜(PM)反射的第1光束(
图案描绘装置

[发明专利]图案化方法-CN202010504341.8有效
发明人：张峰溢;李甫哲 -专利权人：联华电子股份有限公司;福建省晋华集成电路有限公司
申请日： 2018-03-23 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明公开一种图案化方法，其中该图案化方法包括下列步骤。在材料层上形成掩模层。以第一光刻制作工艺于掩模层中形成第一开孔。在第一开孔中形成第一掩模图案。以第二光刻制作工艺于掩模层中形成第二开孔。在形成第一间隙壁之后，在第二开孔中形成第二掩模图案。第一间隙壁于第二开孔中围绕第二掩模图案。移除掩模层以及第一间隙壁。以蚀刻制作工艺将第一掩模图案以及第二掩模图案的图形转移至材料层。
图案方法

[发明专利]图案描绘装置-CN201880052782.X有效
发明人：鬼头义昭;加藤正纪 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2018-09-06 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明的图案描绘装置(EX)，将作为点光(SP’)投射于基板(P)的描绘光束(LBn)的强度，一边根据以多数个像素(PIC)规定的图案的描绘数据进行调变、一边将点光(SP’)的投射位置在基板(P)上沿像素图案描绘装置(EX)，具备：根据描绘数据，对相对扫描中点光(SP’)照射的曝光像素的各个射出作为描绘光束以既定周期(Tf)振荡的脉冲光的既定数，对相对扫描中不被点光(SP’)照射的非曝光像素的各个则中断既定数脉冲光的射出的光源装置(LS)，以及根据描绘数据，以使对曝光像素中对应图案边缘部的边缘部曝光像素(PIC’)射出的脉冲光的数量，相对既定数增减的方式控制光源装置(LS)的描绘控制装置(200)。
图案描绘装置

[发明专利]图案形成装置-CN201780032851.6有效
发明人： G·F·J·沙斯富特;P·德格罗特;M·Y·斯德拉科夫;M·P·J·M·迪克斯;J·M·芬德尔斯;彼得-詹·范兹沃勒;J·J·M·巴塞曼斯;S·鲍默;L·C·德温特;W·J·恩格伦;M·A·范德柯克霍夫;R·J·伍德 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2017-05-30 - 公布日： 2022-11-15 - 主分类号： G03F1/24 文献下载
摘要：一种图案形成装置，包括反射式标识，其中所述标识包括：多个反射区域，被配置为优先反射具有给定波长的辐射；多个吸收区域，被配置为优先吸收具有所述给定波长的辐射；其中所述吸收区域和反射区域被布置成形成在用辐射照射所述标识时从所述标识反射的图案化辐射束
图案形成装置

[发明专利]图案化工艺-CN201210284795.4无效
发明人：陈逸男;徐文吉;叶绍文;刘献文 -专利权人：南亚科技股份有限公司
申请日： 2012-08-10 - 公布日： 2014-02-12 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供一种图案化工艺，包括在一待定义层上形成一具有多个第一开口部的第一掩模层。在第一掩模层上及第一开口部内顺应性形成一第二掩模层。本发明所提供的图案化工艺具有较大的工艺弹性。此外，本发明所提供的工艺可与现行工艺相容，且可在无须使用电子束直写、软X射线、极紫外光等方法的条件下制作出小于关键尺寸的图案，故可节省时间及生产成本，也可避免光学效应不理想的问题。
图案化工

[发明专利]图案核对设备-CN97117675.2无效
发明人：中岛宽;小林孝次 -专利权人：株式会社山武
申请日： 1997-08-26 - 公布日： 2002-12-04 - 主分类号： G06K9/78 文献下载
摘要：一种图案核对设备，用于在登记图案与核对图案之间有转动偏移的情况下识别该登记图案与该核对图案是否相等的图案。在核对处理中，从该登记付里叶图象数据以图案为单位读出登记付里叶图象数据，且每一个登记付里叶图象数据都与核对付里叶图象数据相合成，从而进行登记指纹与核对指纹之间的核对。
图案核对设备

[发明专利]图案制作设备-CN94100198.9无效
发明人：于君 -专利权人：于君
申请日： 1994-01-17 - 公布日： 1994-09-21 - 主分类号： G05B15/02 文献下载
摘要：图案制作设备可在大面积墙体表面印刷彩色画面。
图案制作设备

[发明专利]图案制造方法-CN200610146781.0无效
发明人：小岛隆 -专利权人：富士通株式会社
申请日： 2006-11-24 - 公布日： 2008-01-09 - 主分类号： H01L43/08 文献下载
摘要：本发明提供了一种图案制造方法。该图案制造方法可高精度地控制将读取端子形成为预定图案的光刻胶掩模的形状，使得提高了读取端子的形成精度，并提高了磁头的成品率。该图案制造方法包括如下步骤：在基板上形成要构图的层；在所述要构图的层上形成第一掩模层；在所述第一掩模层上形成第二掩模层，该第二掩模层在干法刻蚀工艺期间具有比所述第一掩模层低的刻蚀速率；对所述第二掩模层进行曝光和显影
图案制造方法

[发明专利]图案检查装置-CN200810178239.2无效
发明人：野本宪太郎;松田僚三 -专利权人：优志旺电机株式会社
申请日： 2008-11-17 - 公布日： 2009-05-27 - 主分类号： G01N21/956 文献下载
摘要：本发明提供一种图案检查装置，其不会降低图案检查的处理量，可进行反射照明机构的照度测定，且不会遗漏凹坑的存在。该图案检查装置，其摄像单元(51)于工件(W)的宽度方向进行扫描，以摄像单元接收被反射照明机构(21)照明了的配线图案像，以未图示的控制部予以存储。另外，若反射构件的辉度为下限照度的辉度以上的话，控制部(4)进行所拍摄的配线图案的检查。
图案检查装置

[发明专利]图案的形成-CN200410088187.1无效
发明人： R·K·巴尔;P·D·克努森;T·C·舒特 -专利权人：罗姆和哈斯电子材料有限责任公司
申请日： 2004-10-14 - 公布日： 2005-04-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：除去所述排斥阻挡组合物从而在所述基质上形成图案。
图案形成

[发明专利]图案绘制装置-CN200410031310.6无效
发明人：小八木康幸 -专利权人：大日本网目版制造株式会社
申请日： 2004-03-26 - 公布日： 2005-02-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种图案绘制装置(1)，具有保持基板(9)的台(32)；将台(32)移动的台移动机构(2)；向基板(9)射出光的光射出部(51)；掩模部(52)，该掩模部(52)具有形成多个开口的第1掩模(53)和第2在该图案绘制装置(1)中，通过改变第1掩模(53)和第2掩模(54)的开口的重合部分、以及光学组件(58)的倍率，可容易改变所绘制的图案的宽度和间距，可以较高分辨率在基板(9)上的感光材料上高速地绘制条带状的图案
图案绘制装置

[实用新型]隐形图案镜片-CN201520457601.5有效
发明人：白丰;李云锦;李云棉;陈金清 -专利权人：瑞安市嘉崎偏光镜片有限公司
申请日： 2015-06-30 - 公布日： 2015-11-18 - 主分类号： G02C7/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种可在镜片上添加图案用于展示个性或者用于防伪目的的眼镜镜片。该隐形图案镜片，包括有透光镜片，其特征在于：所述透光镜片上设有镀膜层，所述镀膜层上设有形成图案的镂空，所述镀膜层上还设有CLEAR隐形材料层，CLEAR隐形材料层只覆盖在除镂空图案外的其他区域。按照本实用新型提供的隐形图案镜片，在透光镜片上镀有镀膜层，通过雕刻图案的模具在镀膜层上雕刻出图案，然后在镀膜层上涂上隐藏材料，这时候还不能看到图案，要看到图案只需要通过擦拭掉镀膜层上的隐藏材料即可。
隐形图案镜片

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