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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]图案描绘装置及图案描绘方法-CN200910006446.4无效
发明人：井上正雄;小八木康幸 -专利权人：大日本网屏制造株式会社
申请日： 2009-02-18 - 公布日： 2009-09-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：提供一种图案描绘装置及图案描绘方法，目的在于即使在以具有多个描绘对象区域的基板为对象时也能够减少曝光扫描的次数，并能够在感光材料上容易地描绘多种规则图案和宽度。在曝光头(30a～30d)分别对第一扫描区域(As1)至第四扫描区域(As4)进行曝光扫描时，预先在掩模上形成宽度与各扫描区域的描绘对象区域的宽度分别对应的单位图案组(SLG)。结果，即使在一个扫描区域(As)内包含一个扫描对象区域(At)的一部分，也不需要像以往那样使用各种机构进行调整，并且，即使在一个扫描区域内包含相邻的两个扫描对象区域各自的一部分(即在一个扫描区域中包含整个间隙区域)，也不需要对同一扫描区域进行两次曝光扫描。
图案描绘装置方法

[发明专利]描绘系统、描绘装置及描绘方法-CN200810109454.7无效
发明人：雨森清忠;生藤邦夫;小八木康幸;小川秀明;安福孝次 -专利权人：大日本网目版制造株式会社
申请日： 2008-06-12 - 公布日： 2008-12-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种描绘系统、描绘装置及描绘方法，其能够在多台描绘装置或多个描绘处理部中，使用来自一个光源的光同时进行描绘处理和其它处理，能够提高激光的工作率和基板的制造效率。描绘系统(100)将从激光振荡器(110)射出的脉冲光分割为主脉冲光和副脉冲光，将主脉冲光和副脉冲光交替分配给第一描绘装置(1a)和第二描绘装置(1b)。因此，能够在两台描绘装置(1a、1b)中，并行交替地进行使用了主脉冲光的描绘处理和使用了副脉冲光的校准处理。由此，能够提高激光振荡器(110)的工作率和基板(9)的制造效率。
描绘系统装置方法

[发明专利]描画装置以及对位方法-CN200710142398.2无效
发明人：谷口慎也;和田康之;林秀树;小八木康幸 -专利权人：大日本网目版制造株式会社
申请日： 2007-08-22 - 公布日： 2008-02-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种即使不对对位摄像机使用高性能的驱动机构，在光照射部和对位摄像机的位置关系发生了变化时，也能够在基板上的正确的位置进行描画的图案描画装置以及对位方法。图案描画装置(1)检测出各对位摄像机(41～44)相对于从光学头(32)照射的脉冲光的相对位置的偏移量，并根据该偏移量来修正基板(9)的对位量以及基板(9)的描画开始位置。由此，即使从光学头(32)照射的脉冲光与各对位摄像机(41～44)的位置关系发生了变化，也可以在修正该变化量的同时进行描画处理。因此，图案描画装置(1)能够在基板(9)上的正确位置进行描画。
描画装置以及对位方法

[发明专利]布图图案形成装置及布图图案形成装置的制造方法-CN200610078521.4无效
发明人：奥村胜弥;矢部学;小八木康幸;原田宗生;清元智文 -专利权人：奥克泰克有限公司;大日本网目版制造株式会社;东京毅力科创株式会社
申请日： 2006-05-08 - 公布日： 2006-11-08 - 主分类号： B41J2/16 文献下载
摘要：本发明提供了一种高精度且低成本的布图图案形成装置。该装置以(100)晶向的单晶硅为母材，通过光刻工序形成具有斜面部和布图材料导引槽的梳齿部。以与形成导引槽相同的工序形成该梳齿部的各个梳齿共用的储存布图材料的储液部。在形成斜面部时，可以通过进行湿式各向异性蚀刻，利用基于晶向的蚀刻速度之差来相对于晶向(100)高精度且容易地形成具有(111)晶向的斜面部，此外还可以通过各向异性干蚀刻来形成槽部，从而以高精度形成直到斜面部的、具有垂直侧壁的布图材料导引槽。
图案形成装置制造方法

[发明专利]探针板的底板、检查装置、光制造装置及光制造方法-CN200480012573.0有效
发明人： 小八木康幸;下妻央子;田边隆喜;八代隆郎 -专利权人：大日本网目版制造株式会社;JSR株式会社
申请日： 2004-05-10 - 公布日： 2006-06-07 - 主分类号： G01R1/073 文献下载
摘要：一种光制造装置(1)，包括：平台(2)，用于在其上固定基板(9)；送料部件(3)，用于将光敏材料送到基板(9)上；层形成部件(4)，用于均匀地涂布光敏材料以形成材料层；以及光发射部件(5)，用于将空间调制的光束发射到材料层上。光制造装置(1)通过重复材料的形成和发光，在基板9上以高的位置准确性并在很小的范围内形成大量的用于细探针的弹性显微结构并以极小的间隔排列这些显微结构。这些显微结构通过后面处理中的电镀而成为弹性探针。
探针底板检查装置制造方法

[发明专利]投影光学系统和图形描画装置-CN200510065570.X无效
发明人： 小八木康幸 -专利权人：大日本网目版制造株式会社
申请日： 2005-04-18 - 公布日： 2005-12-07 - 主分类号： G02B27/18 文献下载
摘要：投影光学系统(6)包括把以焦点(P1)为中心的凹面镜(611)作为背面镜而形成的凹凸透镜612即第一反射镜构件(61)和把在基准点(P1)与第一反射镜构件(61)之间并大致以基准点(P1)为中心的凸面镜(621)作为背面镜而形成的凹凸透镜(622)即第二反射镜构件(62)。来自物体侧的光与中心轴(J1)平行地入射在第一反射镜构件(61)上被凹面镜(611)，凸面镜(621)、凹面镜(611)反射后被与中心轴(J1)平行地引导出后形成像。借此可以使在凹面镜与凸面镜之间反射3次的投影光学系统(6)中通过凹面镜(612、622)抑制像差。
投影光学系统图形描画装置

[发明专利]图形描绘装置-CN200510004307.X无效
发明人：水端稔;小八木康幸;井上正雄 -专利权人：大日本网目版制造株式会社
申请日： 2005-01-14 - 公布日： 2005-08-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种图形描绘装置(1)，包括：保持基板(9)的平台单元(3)；在X方向上移动平台单元(3)的平台移动机构(2)；水银灯(512)；具有光闸开口的光闸；具有多个掩模组开口的掩模组；在X方向上移动光闸的X方向移动机构，扫描通过了光闸开口和掩模组开口的光被引导到的光照射区域而描绘图形。在图形描绘装置(1)中，在图形的描绘开始点附近和描绘结束点附近，按照与平台单元(3)的移动速度相等的移动速度，在X方向上移动光闸，改变光照射区域的长度，调整图形的端部的累积光量，使之与图形上的其他部位的累积光量相等。
图形描绘装置

[发明专利]图案绘制装置-CN200410031310.6无效
发明人： 小八木康幸 -专利权人：大日本网目版制造株式会社
申请日： 2004-03-26 - 公布日： 2005-02-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种图案绘制装置(1)，具有保持基板(9)的台(32)；将台(32)移动的台移动机构(2)；向基板(9)射出光的光射出部(51)；掩模部(52)，该掩模部(52)具有形成多个开口的第1掩模(53)和第2掩模(54)；光学组件(58)，该光学组件(58)对照射有通过掩模部(52)的光的基板(9)上的光照射区域进行放大、缩小。在该图案绘制装置(1)中，通过改变第1掩模(53)和第2掩模(54)的开口的重合部分、以及光学组件(58)的倍率，可容易改变所绘制的图案的宽度和间距，可以较高分辨率在基板(9)上的感光材料上高速地绘制条带状的图案。
图案绘制装置

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