“阻蚀量”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果1310418个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]阻焊桥的良品率预测方法-CN201810143268.9有效
发明人：廉泽阳;李娟;李艳国 -专利权人：广州兴森快捷电路科技有限公司;深圳市兴森快捷电路科技股份有限公司;天津兴森快捷电路科技有限公司
申请日： 2018-02-11 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： G06F30/32 文献下载
摘要：本发明涉及一种阻焊桥的良品率预测方法，包括以下步骤：根据预设要求获取阻焊桥的设计桥宽；根据预设条件获取预设下桥宽最小值、预设上桥宽最小波动值；根据预设条件获取预设侧蚀量均值和预设侧蚀量标准差；根据第一方程式确定预设最大侧蚀量；根据第二方程式确定阻焊桥加工的良品率。桥宽由侧蚀量的变化决定，侧蚀量的变化遵循正态分布，因此，通过综合考虑设计桥宽、预设下桥宽最小值、预设上桥宽最小波动值、预设侧蚀量均值及预设侧蚀量标准差多个因素，建立第一方程组得到侧蚀量的最大值，并建立关于侧蚀量的标准正态分布函数，通过对其积分得到对应的概率值，也即阻焊桥加工的良品率，以提供阻焊桥加工的良品率预测方法。
阻焊桥良品率预测方法

[发明专利]一种基于钻孔中低阻矿化蚀变带延伸方向探测方法及系统-CN202011201131.8在审
发明人：段书新;汪硕;乔宝强;刘祜;程纪星 -专利权人：核工业北京地质研究院
申请日： 2020-11-02 - 公布日： 2021-02-05 - 主分类号： G01V3/08 文献下载
摘要：本发明提供了一种基于钻孔中低阻矿化蚀变带延伸方向探测方法及系统，方法包括：首先采集钻孔中不同深度位置的三分量磁场变化率；其次对不同深度位置的三分量磁场变化率进行旋转校正取平均，获得钻孔中不同深度位置对应的井中瞬变电磁三分量响应；然后从钻孔中不同深度位置对应的井中瞬变电磁三分量响应中提取低阻矿化蚀变带异常响应；最后根据低阻矿化蚀变带异常响应确定低阻矿化蚀变带的延伸方向。本发明基于提取低阻矿化蚀变带异常响应定位低阻矿化蚀变带中心的方位，进而准确推测出低阻矿化蚀变带的延伸方向，深度挖掘了钻孔地质信息，为下一步工程布钻提供地球物理依据。
一种基于钻孔中低阻矿化蚀变带延伸方向探测方法系统

[发明专利]一种PCB阻焊层显影效果的监测方法-CN201110410147.4有效
发明人：薛松 -专利权人：北大方正集团有限公司;杭州方正速能科技有限公司
申请日： 2011-12-09 - 公布日： 2013-06-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明实施例涉及PCB制造技术领域，特别涉及一种PCB阻焊层显影效果的监测方法，用于解决现有技术中针对非透明的阻焊油墨，很难在显影后确定侧蚀程度的问题。本发明实施例的一种PCB阻焊层显影效果的监测方法，包括：采用测试菲林底片对印制电路板PCB上的阻焊油墨进行曝光；对曝光后的PCB进行显影处理；根据显影处理后与测试菲林底片上的测试阻焊条位置对应的PCB上的阻焊条是否脱落，确定PCB阻焊层的侧蚀量的范围。本发明实施例中采用测试阻焊条监测PCB阻焊层的显影处理后的侧蚀量的范围，可对非透明的阻焊层的侧蚀进行监测，并根据得到的PCB阻焊层侧蚀量的范围及时调整显影处理的各项参数，提高了生产效率和产品品质。
一种 pcb 阻焊层显影效果监测方法

[发明专利]一种改善PCB减铜均匀性的方法-CN201510849051.6有效
发明人：刘大辉 -专利权人：北大方正集团有限公司;珠海方正科技多层电路板有限公司
申请日： 2015-11-27 - 公布日： 2018-08-03 - 主分类号： H05K3/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种改善PCB减铜均匀性的方法，包括以下步骤：在PCB板表层和孔壁上形成第一铜层；在所述PCB板表层的除孔环的部分上形成第一阻蚀层；在所述第一阻蚀层和所述孔壁上形成第二铜层；去除所述第一阻蚀层上的第二铜层；去除所述第一阻蚀层。由此，通过一次形成表面铜，多次形成孔铜，能够通过以第一阻蚀层的形成来控制减铜量，通过第一阻蚀层的刻蚀控制减铜的均匀性，有效保证了表面铜的厚度和均匀性，操作方便，简单易行。
一种改善 pcb 均匀方法

[发明专利]一种采油用缓蚀阻垢清蜡剂及其制备方法-CN201610876860.0在审
发明人：商芳;杜清珍;谢刚;姜伟祺;闫暄崎;魏爱军;张伟;刘志刚 -专利权人：中国石油天然气股份有限公司
申请日： 2016-09-30 - 公布日： 2018-04-06 - 主分类号： C09K8/524 文献下载
摘要：本发明公开了一种采油用缓蚀阻垢清蜡剂。每100重量份采油用缓蚀阻垢清蜡剂包括5‑15重量份的油酸基羟乙基咪唑啉；15‑20重量份的十二烷基二甲基苄基氯化铵；0.5‑5重量份的羟基乙叉二膦酸；0.5‑2重量份的氨基三甲叉膦酸；0.5‑5重量份的乙二胺四乙酸；15‑20重量份的四乙烯五胺聚氧丙烯聚氧乙烯醚；0.2‑1重量份的氟碳类表面活性剂；1‑3重量份的乙二醇；余量为水。本发明提供的一种采油用缓蚀阻垢清蜡剂，该药剂不但配伍性好，既满足了油井对缓蚀阻垢的要求，又满足了油井对清蜡降粘的要求，而且稳定性高。
一种采油用缓蚀阻垢清蜡剂及其制备方法

[发明专利]一种阻蚀型弹性粘接防护组合物以及防护材料-CN202210975542.5在审
发明人：张燕红;佘安宇;白慧;张敬轩;戴润达;薛宪政;袁培峰;焦振峰;宫祥怡;王玉美;周自强;文功启;苏国明 -专利权人：郑州中原思蓝德高科股份有限公司;中铁山桥集团有限公司;郑州思蓝德新材料科技有限公司;株洲中原思蓝德新材料科技有限公司;中铁第五勘察设计院集团有限公司
申请日： 2022-08-15 - 公布日： 2022-10-25 - 主分类号： C09D181/04 文献下载
摘要：一种阻蚀型弹性粘接防护组合物以及防护材料，该组合物包含：液态聚硫橡胶，其数均分子量为2500～7500，交联度为0～2；交联剂；阻蚀剂；活性硅灰石粉；防老剂。由本申请组合物得到的抗疲劳阻蚀型弹性粘接防护材料具有良好的触变性、化学惰性、耐热性、耐紫外辐照性和抗疲劳性，可有效防护电化学腐蚀；并且，本申请所述的阻蚀型弹性粘接防护材料具有优异的密封性、耐腐蚀性，可以有效隔离环境中水汽、酸、碱、盐等腐蚀源；保证在桥梁工程涉及的老化工况下，与金属钢结构可持久粘接牢固，实现对金属钢结构的长效阻蚀防护，所述金属钢结构包括桥梁主缆、焊缝等。
一种阻蚀型弹性接防组合以及防护材料

[发明专利]一种桥梁缆索、锚头用高滴点阻蚀密封蜡及其制备方法-CN201911157362.0有效
发明人：袁友;庞忠华;陈竞;杨立中;杨赓;王晓琳;赵泽文;韦福堂;周庠天;李居泽;区锡祥;陆绍辉 -专利权人：柳州欧维姆结构检测技术有限公司
申请日： 2019-11-22 - 公布日： 2021-08-10 - 主分类号： C09D123/30 文献下载
摘要：一种桥梁缆索、锚头用高滴点阻蚀密封蜡，是由以下组分组成的混合物，混合物中，各组分材料的含量按重量份数计算为：氧化聚乙烯蜡35～60重量份，小烛树蜡8～22重量份，油酸4～12重量份，聚烯烃树脂10～35重量份，相容剂2～7重量份，凡士林5～15重量份，液体橡胶3～20重量份，抗氧化剂2～6重量份，消泡剂1～5重量份，防锈剂4～15重量份。该桥梁缆索、锚头用高滴点阻蚀密封蜡具有消泡性好、滴点高、耐高温、密封性强、收缩率低、附着力高、耐候性佳和阻蚀期长的特点；对桥梁锚头、缆索及其它钢制品构件具有长期的防护性，延长其使用寿命。
一种桥梁缆索锚头用高滴点密封及其制备方法

[发明专利]一种用含聚环氧琥珀酸的缓蚀阻垢水处理方法-CN200310101837.7无效
发明人：熊蓉春;周庆;魏刚 -专利权人：北京化工大学
申请日： 2003-10-20 - 公布日： 2005-04-27 - 主分类号： C02F5/10 文献下载
摘要：本发明一种用含聚环氧琥珀酸的缓蚀阻垢水处理方法，是单独使用聚环氧琥珀酸或聚环氧琥珀酸与葡糖酸或葡糖酸盐和锌盐(Zn²⁺)配合使用的缓蚀阻垢方法。用分子量为400～1000的聚环氧琥珀酸作缓蚀阻垢剂，用量为90～120mg/L。用分子量为400～1000的聚环氧琥珀酸与A组分和锌盐组成三元缓蚀阻垢剂；聚环氧琥珀酸的用量在30～50mg/L，A组分的用量在5～8mg/L，锌盐的Zn²⁺的用量在5～8mg/L是一种环境友好的缓蚀阻垢水处理方法。
一种用含聚环氧琥珀酸缓蚀阻垢水处理方法

[发明专利]一种厚铜板选择性表面精细处理的阻焊制备工艺-CN202111615383.X有效
发明人：卢海航;徐巧丹;柯木真;刘涛;陈文德 -专利权人：百强电子（深圳）有限公司
申请日： 2021-12-27 - 公布日： 2022-07-05 - 主分类号： H05K3/28 文献下载
摘要：本发明公开了一种厚铜板选择性表面精细处理的阻焊制备工艺，在进行阻焊油墨印刷前，先采用补蚀剂对厚铜板表面进行处理，大大减少了假性露铜的问题。本发明所制得的补蚀剂采用粘度低、疏水性强、分子量小的有机硅改性乙烯基苯酚环氧树脂，并和高环氧值环氧树脂、润湿剂、纳米填料、固化剂混合，能够有效填补侧蚀造成的缺陷，并且契合阻焊油墨的印刷，得到了性能优异的印刷电路板
一种铜板选择性表面精细处理制备工艺

[发明专利]一种缓蚀阻垢剂及其制备方法-CN202110804397.X在审
发明人：陈君;姚建涛;张贵泉 -专利权人：西安热工研究院有限公司
申请日： 2021-07-16 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： C02F5/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种缓蚀阻垢剂及其制备方法，缓蚀阻垢剂由按重量份数计的以下原料制得：聚天冬氨酸10份，氨基三甲叉膦酸40—45份，2‑膦酸丁烷‑1，2，4‑三羧酸10份，锌盐4—5份和纯水30—36份。本发明的缓蚀阻垢剂可阻碳酸钙垢、硫酸钙垢、硫酸钡垢等多种垢型，适用于工业循环冷却水系统，具有优异的缓蚀、阻垢效果，因产品含磷量低，减少了磷的排放，具有较好的环保性。
一种缓蚀阻垢剂及其制备方法

[发明专利]一种侧蚀量可控的锗蚀刻液-CN202111503295.0有效
发明人：尹印;陈小超;万杨阳;贺兆波;张庭;余迪;彭浩;冯凯;王书萍 -专利权人：湖北兴福电子材料股份有限公司
申请日： 2021-12-09 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： C23F1/14 文献下载
摘要：本发明属于电子化学品领域，具体涉及一种侧蚀量可控的锗蚀刻液及其制备方法。所述蚀刻液主要用于蚀刻晶圆上的锗膜层，并控制光阻结构下方的侧蚀量，组成包括氧化剂、氟离子源、粘度调节剂、pH调节剂和高纯水。氧化剂将锗氧化，且不损伤硅衬底；氟离子源主要起到络合溶解锗的氧化物的作用；粘度调节剂用于控制蚀刻液粘度，改善侧向钻蚀能力；锗膜层上方光阻对pH值非常敏感，pH调节剂可以避免pH过低时导致光阻剥离。
一种侧蚀量可控蚀刻

[实用新型]牙面酸蚀模板-CN202222251362.0有效
发明人：李俊生 -专利权人：上海时代天使医疗器械有限公司
申请日： 2022-08-25 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： A61C7/16 文献下载
摘要：本实用新型提供一种牙面酸蚀模板，其包括：柔性阻胶垫，所述柔性阻胶垫具有阻胶口；固定件，所述固定件用以将所述柔性阻胶垫固定至牙齿上，且所述固定件具有酸蚀口；在所述牙面酸蚀模板安装至牙齿上后，所述固定件使所述柔性阻胶垫上阻胶口的周缘贴合于牙齿上，且所述酸蚀口位于所述阻胶口处，位于阻胶口处的牙面自所述酸蚀口向外暴露；能够仅酸蚀位于所述阻胶口处的牙面，精确地定位牙面的酸蚀面积以及位置，有利于后续附件或托槽的精确黏贴。
牙面酸蚀模板

[发明专利]一种高效低磷阻垢缓蚀剂及其制备方法-CN202011341708.5有效
发明人：郭翠娟;刘文峰;张留成;胡文翠;梁清雷;梁新新;耿俊玲;高云峰;郑萍;范春燕 -专利权人：山东天庆科技发展有限公司
申请日： 2020-11-26 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： C02F5/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种高效低磷阻垢缓蚀剂及其制备方法，该低磷阻垢缓蚀剂包括以下重量份数的原料：有机膦3～15重量份、有机胺10～25重量份、含氮多元醇膦酸酯2～10重量份、磺酸盐共聚物5～20重量份、唑类衍生物1～3重量份、渗透剂0.25～1.0重量份、醇类化合物10～20重量份、去离子水10～70重量份。本发明以醇类化合物为溶剂，引入有机胺大大提高了缓蚀剂的缓蚀性能；本发明公开的高效低磷阻垢缓蚀剂具有少量高效的特点；适用于高硬度、高碱度、高pH、有化工泄漏的石油化工类循环冷却水系统，对碳钢、不锈钢、铜材质设备都具有优异的缓蚀性能
一种高效低磷阻垢缓蚀剂及其制备方法

[发明专利]一种埋电阻软硬结合板的制作方法-CN201810183382.4有效
发明人：陈来春;李红娇;彭卫红;孙保玉 -专利权人：深圳崇达多层线路板有限公司
申请日： 2018-03-06 - 公布日： 2020-10-02 - 主分类号： H05K1/16 文献下载
摘要：本发明在制作埋阻芯板时通过先采用酸性蚀刻制作内层线路，再采用碱性蚀刻除去开窗处的铜层而形成埋阻，可避免在内层线路制作过程中对镍磷合金层造成损伤而影响埋阻的阻值。开窗的尺寸考虑埋阻碱性蚀刻的侧蚀量及埋阻芯板进行棕化时的微蚀量，及通过测量埋阻的实际阻值而相应调整其它埋阻芯板进行埋阻碱性蚀刻时的蚀刻速度，可提高所制作形成的埋阻的阻值精度。通过本发明方法可制作埋阻阻值精度高且内层金手指电金品质优良的软硬结合板。
一种电阻软硬结合制作方法

[发明专利]利用纳米压印技术制备面发射表面等离子体激光器的方法-CN200910079801.0无效
发明人：宋国峰;张宇;汪卫敏;陈熙 -专利权人：中国科学院半导体研究所
申请日： 2009-03-11 - 公布日： 2010-09-15 - 主分类号： H01S5/18 文献下载
摘要：一种利用纳米压印技术制备面发射表面等离子体激光器的方法，其特征在于，该方法包括如下步骤：步骤1：在激光器的出光面上制作一层金属薄膜；步骤2：在金属薄膜上涂敷一层液态阻蚀剂；步骤3：把压印模板上的纳米图案压在液态阻蚀剂上；步骤4：采用压印技术，使液态阻蚀剂固化；步骤5：脱模，把纳米图案转移到阻蚀剂上；步骤6：等离子体刻蚀多余阻蚀剂，在金属薄膜表面形成由阻蚀剂构成的纳米图案；步骤7：反应离子刻蚀，把纳米图案转移到金属薄膜上；步骤8：去除剩余的阻蚀剂，完成制备。
利用纳米压印技术制备发射表面等离子体激光器方法

1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
下一页»
尾页
共 100000 条