专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]从锌置换渣中回收的方法-CN201910001498.6有效
  • 张志峰;李艳玲;唐平江 - 建水正业矿冶有限公司
  • 2019-01-02 - 2021-03-30 - C22B58/00
  • 本发明涉及从锌置换渣中回收的方法,具体涉及采用1‑(2‑乙基己氨基)丙基膦酸二(2‑乙基己)酯(DEHAPP)作为萃取剂从锌置换渣硫酸浸出液中萃取回收的方法,包括:(1)将锌置换渣硫酸浸出液与包含1‑(2‑乙基己氨基)丙基膦酸二(2‑乙基己)酯的萃取体系接触进行萃取,得到含和锌的萃取液和萃取余液;(2)将含和锌的萃取液用洗涤剂进行洗涤,得到含萃取液和含锌洗涤液;(3)将含萃取液用反萃剂进行反萃,得到含反萃液。本发明所用的萃取剂性质稳定、易于合成,并且可以很好的实现从含Ga、Ge、In、Zn的锌置换渣硫酸浸出液中回收
  • 置换回收方法
  • [发明专利]氮化发光二极管的快速退火-CN201210300599.1有效
  • 王耘;A·M·霍利鲁克 - 超科技公司
  • 2012-08-22 - 2013-03-06 - H01L21/324
  • 氮化发光二极管的快速退火。本发明公开一种在形成氮化(GaN)发光二极管(LED)时所执行的快速退火的方法,以及使用所述快速退火方法所形成的氮化发光二极管。一种例示性方法包含形成氮化多层结构,其具有n型氮化层与p型氮化层,且所述n型氮化层与p型氮化层之间夹入激活层。该方法还包含使用激光器或闪光灯对p型氮化层执行快速退火。该方法还包含在氮化多层结构上形成透明导电层,且将p型接触添加至透明导电层上及将n型接触添加至n型氮化层上。所得氮化发光二极管具有增强的输出功率、更低的接通电压及减低的串联电阻。
  • 氮化发光二极管快速退火
  • [发明专利]氮化功率二极管及其制作方法-CN201611258251.5有效
  • 康玄武;刘新宇;黄森;王鑫华;魏珂 - 中国科学院微电子研究所
  • 2016-12-30 - 2019-12-03 - H01L29/861
  • 本发明提供一种氮化功率二极管及其制作方法,在重掺杂N型氮化衬底上方生长第一轻掺杂N型氮化外延层;在第一轻掺杂N型氮化外延层上方生长P型氮化外延层;对P型氮化外延层和第一轻掺杂N型氮化外延层进行刻蚀,以形成贯穿于P型氮化外延层或贯穿于P型氮化外延层并伸入第一轻掺杂N型氮化外延层的刻蚀图形;在含有刻蚀图形的P型氮化外延层上方生长第二轻掺杂N型氮化外延层;制作阳极和阴极,以形成氮化功率二极管本发明采用外延法替代离子注入法来形成氮化功率二极管中的P型掺杂结构,杂质有效激活率高,避免了依靠退火技术来提高离子注入中杂质有效激活率的问题,降低了工艺实现的难度。
  • 氮化功率二极管及其制作方法
  • [发明专利]砷化半导体器件的制造方法-CN202011468551.2有效
  • 于良成;白龙刚;杨国文;赵卫东 - 度亘激光技术(苏州)有限公司
  • 2020-12-15 - 2021-03-23 - H01L21/02
  • 本发明提供一种砷化半导体器件的制造方法,涉及半导体器件制备技术领域。本发明提供的砷化半导体器件的制造方法包括:将砷化基底放入酸溶液中进行清洗;向经过清洗的砷化基底表面通入流动的氨气,并使氨气进行等离子反应,以去除砷化基底表面的氧化物;在砷化基底上制备氮化硅保护膜本发明提供的砷化半导体器件的制造方法,在砷化基底上制备氮化硅保护膜之前,利用氨气的等离子反应去除砷化基底表面的氧化物,并在砷化基底上形成完整的氮氢化学键,从而可以得到表面粗糙的稳态砷化基底,使得制备在砷化基底上的氮化硅保护膜不易于脱落,提高了产品良率。
  • 砷化镓基半导体器件制造方法

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