专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]成膜装置以及成膜方法-CN201980028062.4有效
  • 藤井博文 - 株式会社神户制钢所
  • 2019-04-23 - 2022-09-23 - C23C14/24
  • 本发明提供一种能够精确地控制形成于工件上的覆膜在周向上的膜厚分布的成膜装置以及成膜方法。所述成膜方法以及装置包含以使形成于工件的被成膜面的覆膜中通过从第一蒸发源的射出面飞出的粒子而形成的部分比通过从第二蒸发源的射出面飞出的粒子而形成的部分厚的方式,在形成覆膜的期间使施加于第一蒸发源的电能的总量大于施加于第二蒸发源的电能的总量的情况。
  • 装置以及方法
  • [发明专利]成膜装置以及成膜物的制造方法-CN201880010245.9有效
  • 藤井博文 - 株式会社神户制钢所
  • 2018-01-30 - 2021-07-30 - C23C14/54
  • 本发明提供能够控制工件的周向的膜厚分布的成膜装置。成膜装置包括:工件旋转装置(5),保持多个工件(100)并使其自转公转;具有出射面(3a)的靶材(3),从出射面(3a)飞出用于对工件(100)的外周面进行成膜的材料的粒子;电源(4),将用于粒子从靶材(3)飞出的电弧电流供应给靶材(3);以及控制部(23),以在自转的工件(100)的特定部分(102)朝向出射面(3a)的期间的至少一部分即特定期间,使电弧电流成为比基准输出高的输出的方式控制电源(4)。
  • 装置以及成膜物制造方法
  • [发明专利]成膜装置、使用该成膜装置的成膜物的制造方法以及冷却板-CN201780075888.7有效
  • 藤井博文;铃木毅 - 株式会社神户制钢所
  • 2017-11-16 - 2021-05-25 - C23C14/54
  • 本发明提供一种具有简单且小型的结构的成膜装置(1)。成膜装置(1)包括:具有与基材(W)相向的相向面的至少一个靶材(4);分别将所述靶材(4)装拆自如地保持的多个靶材保持部(5);冷却所述多个靶材保持部(5)的冷却部(6);以及至少一个冷却板(7)。所述至少一个冷却板(7)具有:装拆自如地保持在靶材保持部(5)的被保持部(7d);以及具有受热面(7e)的受热部(7b),其中,该受热面(7e)在该被保持部(7d)被保持在所述靶材保持部(5)的状态下与基材(W)相向且接收从该基材(W)释放出的辐射热。所述被保持部(7d)进行从所述受热面(7e)向所述靶材保持部(5)的传热。各靶材保持部(5)择一地保持所述靶材(4)或所述冷却板(7)。
  • 装置使用成膜物制造方法以及冷却
  • [发明专利]电弧蒸发装置-CN201780007847.4有效
  • 藤井博文;龟泽英明;谷藤信一;白根英树 - 株式会社神户制钢所
  • 2017-01-06 - 2020-09-29 - C23C14/24
  • 本发明提供一种能够长期准确地进行靶材是否存在于规定的位置的检测的电弧蒸发装置。电弧蒸发装置(1)包括:具有远端面(3a)和与其连续地沿轴向延伸的侧面(3b),通过电弧放电从远端面(3a)起熔解并蒸发的棒状的靶材(3);电弧电源(8);让靶材(3)在远端面(3a)前进的输送方向上沿轴向移动的靶材输送部(4);在靶材(3)的输送方向上的规定的位置,呈可从与输送方向交叉的交叉方向接触于靶材(3)的侧面(3b)的形状的点火杆(6);让点火杆(6)以从退避位置沿交叉方向进入到靶材(3)被送入的搬送区域的方式移动的旋转致动器(7),其中,该退避位置是从侧面(3b)向交叉方向离开的位置;以及在点火杆(6)的移动过程中,检测点火杆(6)是否接触于靶材(3)的侧面(3b)的检测部(9)。
  • 电弧蒸发装置
  • [发明专利]PVD处理装置以及PVD处理方法-CN201480016804.9有效
  • 藤井博文 - 株式会社神户制钢所
  • 2014-03-03 - 2018-05-18 - C23C14/50
  • 本发明提供一种PVD处理装置(1)以及方法,通过基材的自转以及公转,能够在基材的外周面形成具有周向上的均匀性优良的膜厚的复合皮膜。PVD处理装置(1)具备:真空腔室;使多个基材(W)在真空腔室内绕公转轴(7)公转的公转台;使各基材(W)在公转台上绕平行于公转轴(7)的自转轴(8)自转的自转台(4);在公转台的径向外侧被设置在互相在周向上分离的位置的多种靶材(5);在基材(W)通过从各靶材(5)的中央向包络各自转台(4)的圆弧引出的两个切线(L1、L2)之间的期间,使自转台(4)以180°以上的角度自转的台旋转机构(6)。
  • pvd处理装置以及方法
  • [发明专利]成膜装置以及使用该成膜装置的成膜方法-CN201480030615.7有效
  • 濑川利规;石山敦;藤井博文 - 株式会社神户制钢所
  • 2014-05-15 - 2017-08-04 - C23C14/50
  • 本发明提供一种制冷剂泄漏的风险大幅度降低且能够提高冷却效率的成膜装置以及成膜方法。成膜装置(1)包括冷却部(4)、旋转台主体(11)、升降机构(5)以及制冷剂配管(6),其中,冷却部(4)在腔室(2)的空间(2e)内冷却工件(W),旋转台主体(11)在工件(W)被载置的状态下以垂直轴为中心旋转,且具有载置冷却部(4)的冷却部载置部(21)和被配置成包围该冷却部载置部(21)的周围且载置工件(W)的工件载置部(22),升降机构(5)使冷却部(4)在空间(2e)内在第一位置与第二位置之间升降,第一位置是冷却部(4)被载置于旋转台主体(11)位置,第二位置是冷却部(4)从该旋转台主体(11)向上方隔开距离且与被载置于工件载置部(22)的工件(W)的侧面相向的位置,制冷剂配管(6)被安装于腔室(2),且以能够装拆的方式连接于冷却部(4),向该冷却部(4)供给制冷剂。
  • 装置以及使用方法
  • [发明专利]成膜装置-CN201380059564.6有效
  • 藤井博文 - 株式会社神户制钢所
  • 2013-11-13 - 2017-02-22 - C23C14/24
  • 提供一种对基材(W)的表面进行PVD处理而形成被膜、并且能够提高其厚度的均匀性的成膜装置(1)。该装置具备收容基材(W)的真空腔室(2)、设在其内壁面上的多个蒸发源、和一边支承多个基材(W)一边使上述基材(W)在真空腔室(2)内移动的基材支承部件(3)。多个蒸发源配置为在沿着台旋转中心轴的方向上排列,包括第1蒸发源和在其内侧相邻的第2蒸发源(4b、4c),所述第1蒸发源是与基材(W)的两端侧对置的蒸发源(4a、4d)中的至少一方。第1蒸发源配置为,比第2蒸发源更向基材(W)侧突出。
  • 装置

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