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- [发明专利]稀土硼钒碳共渗剂-CN201110230923.2无效
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李华平
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李华平
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2011-08-12
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2011-12-07
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C23C12/02
- 一种颗粒状稀土硼钒碳共渗剂,包含碳化硼、氧化钒、氟硼酸钾、稀土硅铁合金、木炭、活性炭、氯化铵、氟化钠、绿碳化硅,用于对工件进行稀土硼钒碳共渗处理,本发明共渗层与基体结合牢固,工件表面渗层主要由铁硼化合物、碳钒化合物,铁碳化合物构成,渗层深度200μm-600μm(视工艺温度时效不同而变动)。渗层组织致密,其耐磨性、耐蚀性增强,共渗层具有高的韧性和很高的耐磨粒磨损性、抗蚀性、抗静载、动载磨损、抗高温浸蚀。
- 稀土硼钒碳共渗剂
- [发明专利]离子氮碳共渗磁场辅助设备、处理系统及方法-CN202110872451.4有效
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何永勇;张哲浩
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清华大学
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2021-07-30
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2023-08-29
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C23C8/38
- 本公开提出了一种离子氮碳共渗磁场辅助设备、处理系统及方法,设备包括:绝缘壳体,适于放置于离子扩渗炉内且位于工件台的下方,绝缘壳体为密闭壳体,用于屏蔽离子扩渗炉内的高压电场;和多个绕线方式相同且沿所述绝缘壳体的周向均布于绝缘壳体内的电磁铁,通过多个电磁铁在离子扩渗炉内形成可控的磁场,以改变金属工件表面电子的运动轨迹和金属工件的磁畴。系统包括:离子扩渗炉、离子氮碳共渗磁场辅助设备、变压器、真空泵、供气瓶和电气控制柜。方法包括控制向炉体内通入含有氮、碳元素的气体,并控制向金属工件提供间断的磁场。本公开可提高离子扩渗炉内的离子体密度,有效增加扩渗层厚度,以此提高扩渗质量。
- 离子氮碳共渗磁场辅助设备处理系统方法
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