专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体发光元件-CN201410587684.X有效
  • 高尾将和;酒井光彦;千田和彦 - 罗姆股份有限公司
  • 2008-04-11 - 2017-05-31 - H01L33/06
  • 本发明提供一种使用不透明的半导体衬底形成金属反射的高亮度的半导体光学元件。其特征在于,由GaAs衬底结构和发光二极管结构构成,该GaAs衬底结构具备GaAs(3)、在GaAs的表面上配置的第一金属缓冲(2)、在第一金属缓冲配置的第一金属(1)、在GaAs的背面配置的第二金属缓冲(4)和第二金属(5),该发光二极管结构配置在GaAs衬底上并具备第三金属(12)、在第三金属配置金属接触(11)、在金属接触配置的p型包覆层(10)、在p型包覆层上配置的多重量子阱(9)、在多重量子阱配置的n型包覆层(8)、在n型包覆层上配置的窗口(7),使用第一金属(1)及第三金属(12),将GaAs衬底结构和发光二极管结构粘贴。
  • 半导体发光元件
  • [发明专利]电阻整合式气体传感器-CN201910870056.5有效
  • 骆玠錞 - 新唐科技股份有限公司
  • 2019-09-16 - 2023-02-17 - G01N27/12
  • 本发明提供了一种电阻整合式气体传感器,包括基板、第一金属氧化物,绝缘,接触金属,接触空穴,第二金属氧化物以及指叉状电极。第一金属氧化物配置于基板中。绝缘配置于基板及第一金属氧化物上。接触金属及接触空穴配置于绝缘中。第二金属氧化物配置于绝缘上。指叉状电极的一部分配置于绝缘上,另一部分配置于第二金属氧化物中。接触金属及接触空穴连接第一金属氧化物与指叉状电极
  • 电阻整合气体传感器
  • [发明专利]半导体发光元件及其制造方法-CN200880019938.0有效
  • 高尾将和;酒井光彦;中田俊次 - 罗姆股份有限公司
  • 2008-06-06 - 2010-03-24 - H01L33/00
  • 该半导体发光元件使用不透明的半导体衬底形成金属反射且具有高亮度。该半导体发光元件由GaAs衬底结构和发光二极管结构构成。所述GaAs衬底结构具有:GaAs(3)、配置在GaAs的表面的第一金属缓冲(2)、配置于第一金属缓冲上的第一金属(1)、配置于GaAs的背面的第二金属缓冲(4)和第二金属(5);所述发光二极管结构配置于所述GaAs衬底结构上,其具有:第三金属(12)、配置于第三金属上的金属接触(11)、配置金属接触上的p型包层(10)、配置于p型包层的多量子阱(9)、配置于多量子阱上的n型包层(8)、配置于n型包层上的窗(7);使用第一金属(1)及第三金属(12),将发光二极管结构与GaAs衬底结构粘合在一起。
  • 半导体发光元件及其制造方法
  • [发明专利]半导体发光元件及其制造方法-CN200880012118.9无效
  • 高尾将和;酒井光彦;千田和彦 - 罗姆股份有限公司
  • 2008-04-11 - 2010-02-24 - H01L33/00
  • 本发明提供一种使用不透明的半导体衬底形成金属反射的高亮度的半导体光学元件及其制造方法。其特征在于,由GaAs衬底结构和发光二极管结构构成,该GaAs衬底结构具备GaAs(3)、在GaAs的表面上配置的第一金属缓冲(2)、在第一金属缓冲配置的第一金属(1)、在GaAs的背面配置的第二金属缓冲(4)和第二金属(5),该发光二极管结构配置在GaAs衬底上并具备第三金属(12)、在第三金属配置金属接触(11)、在金属接触配置的p型包覆层(10)、在p型包覆层上配置的多重量子阱(9)、在多重量子阱配置的n型包覆层(8)、在n型包覆层上配置的窗口(7),使用第一金属(1)及第三金属(12),将GaAs衬底结构和发光二极管结构粘贴。
  • 半导体发光元件及其制造方法
  • [发明专利]热敏打印头及其制造方法-CN202210099308.0在审
  • 仲谷吾郎 - 罗姆股份有限公司
  • 2022-01-27 - 2022-07-29 - B41J2/335
  • 本发明提供一种热敏打印头及其制造方法,其能够抑制金属膏的流动,能够将配线宽度形成得较细。本实施方式的热敏打印头包括:基板;配置在基板上的第一蓄热;配线,其具有配置在第一蓄热上的第一金属,和配置在第一蓄热上的与第一金属隔开间隔地配置的第二金属;以及配置在第一蓄热上的与第一金属和第二金属电连接的发热电阻
  • 热敏打印头及其制造方法
  • [发明专利]探测垫结构及其制造方法-CN200810131289.5有效
  • 李秋德 - 和舰科技(苏州)有限公司
  • 2008-08-04 - 2010-02-10 - H01L23/544
  • 本发明揭示一种探测垫结构及其制造方法,此探测垫结构适于配置在晶圆的切割道区,具有凹槽及较小截面积,并提供探针较长的滑行距离。探测垫结构包括基底、至少一导电以及保护。基底具有凹槽。导电配置于基底上,且导电包括第一金属与第二金属。第一金属配置于凹槽上。第二金属配置于第一金属上,并延伸至凹槽以外的基底上。保护配置于基底上,保护具有开口,且开口对应凹槽的位置而配置
  • 探测结构及其制造方法
  • [发明专利]电子元件及其制法-CN201410298600.0有效
  • 颜精一;蔡武卫;高伟程;陈韦翰 - 财团法人工业技术研究院
  • 2014-06-26 - 2018-05-18 - H01L23/528
  • 本发明有关于一种电子元件及其制法,该电子元件包括承载板、第一金属、介电、半导体、软质、至少一第一开孔与至少一第二金属。第一金属配置于承载板上。介电配置于第一金属上,第一金属与介电的图案一致。半导体配置于介电上。软质配置于承载板上,以包覆第一金属、介电与半导体,软质的杨氏系数小于40十亿帕斯卡。第一开孔贯穿软质。第二金属配置于软质上与第一开孔中,以电性连接半导体
  • 电子元件及其制法
  • [发明专利]电阻式随机存取存储器-CN201911219661.2在审
  • 许博砚;吴伯伦;王炳琨;林铭哲;陈侑廷;白昌宗;廖绍憬;刘奇青 - 华邦电子股份有限公司
  • 2019-12-03 - 2021-06-04 - H01L45/00
  • 本发明提供一种电阻式随机存取存储器,包括第一电极、第二电极、可变电阻、第一金属、第二金属及电阻稳定。第二电极配置于第一电极上。可变电阻配置于第一电极与第二电极之间。第一金属配置于可变电阻与第二电极之间。第二金属配置于第一金属与第二电极之间。电阻稳定配置于第一金属与第二金属之间。可变电阻的氧含量高于第一金属的氧含量,第一金属的氧含量高于电阻稳定的氧含量,电阻稳定的氧含量高于第二金属的氧含量。所述电阻式随机存取存储器具有良好的耐久性、重置特性以及数据保持能力。
  • 电阻随机存取存储器
  • [发明专利]三维电感器-电容器装置和制备方法-CN201880081096.5有效
  • 刘屿春;A·拉温德兰 - 高通股份有限公司
  • 2018-11-08 - 2023-10-13 - H01L23/522
  • 一些方面涉及包括以螺旋形状来配置的多个堆叠金属的装置。多个堆叠金属包括:第一金属,包括第一电感器;第二金属,包括多个第一焊盘和多个第二焊盘;第三金属,包括多个第三焊盘和多个第四焊盘;第四金属,包括第二电感器;多个第一过孔,被配置为将第一金属耦合至第二金属;多个第二过孔,被配置为将第二金属耦合至第三金属;多个第三过孔,被配置为将第三金属耦合至第四金属;以及至少部分地包围装置的电介质
  • 三维电感器电容器装置制备方法

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