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[发明专利]一种焦面位置测试掩膜版及确定焦面位置的方法-CN201510474182.0有效
发明人：董立松;韦亚一;宋之洋 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2015-08-05 - 公布日： 2019-12-13 - 主分类号： G03F1/44 文献下载
摘要：本发明提供了一种焦面位置测试掩膜版及确定焦面位置的方法，包括：阻光区，包括具有设定宽度的至少一个阻光图形；透光区，包括具有设定宽度的至少一个透光图形；测试图形区，包括至少两种测试图形，所述测试图形为具有设定深度及设定宽度的图形，使得通过所述测试图形的透射光与通过所述透光区的透射光之间的相位差为90°的整数倍，且透射光相应负一级和负二级衍射光的振幅为0；所述阻光区、测试图形区、透光区依序相连，形成于透明基板上。
一种位置测试掩膜版确定方法装置

[实用新型]COF Film生产用狭缝式挤压光阻涂布结构-CN201921722612.6有效
发明人：薛红伟;陈杰 -专利权人：合肥奕斯伟材料技术有限公司
申请日： 2019-10-15 - 公布日： 2020-04-17 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种COF Film生产用狭缝式挤压光阻涂布结构，属于COF Film生产领域，包括滚筒(4)，所述COF Film生产用狭缝式挤压光阻涂布结构还包括光阻挤出结构(2)，该光阻挤出结构(2)包括光阻挤出通道(3)，该光阻挤出通道(3)一端为光阻挤出口(6)，光阻挤出口(6)与滚筒(4)的边缘之间形成间隙(7)。本实用新型的COF Film生产用狭缝式挤压光阻涂布结构有效避免光阻厚度周期性波动的状况，从而减少对后续显影工序和刻蚀工序的影响，不但降低了线粗线细导致的报废率，还杜绝了断胶，以及提高了涂布精度，减少了光阻消耗
cof film 生产狭缝压光阻涂布结构

[发明专利]阻光性食品容器-CN03121376.6无效
发明人：欧锦绸;王灯辉 -专利权人：统一企业股份有限公司;永裕塑胶工业股份有限公司
申请日： 2003-03-25 - 公布日： 2004-09-29 - 主分类号： B65D81/30 文献下载
摘要：一种阻光性食品容器。
阻光性食品容器

[发明专利]晶圆侧边去光阻方法-CN201711392379.5有效
发明人：周世均;陈力钧;朱骏 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2017-12-21 - 公布日： 2020-12-18 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种晶圆侧边去光阻方法，提供晶圆，所述晶圆具有相对的正面和背面以及连接所述正面和所述背面的侧边，所述晶圆上形成有光阻层；提供光源，使光至少照射到所述侧边且不照射到所述正面，引起光阻层的光学反应；最后去除反应掉的所述光阻层。该方法使用光学原理，通过调整所述晶圆侧边被光照射到的范围，以此来达到调整所述晶圆侧边高度，最后去除反应掉的所述光阻，从而到达高精度控制光阻在晶圆侧边形貌的能力，而且，即使晶圆侧边位置有偏移，但只要光的方向不变这种方法形成的光阻在晶圆侧边位置的准确性和边缘的均一性非常好。
侧边去光阻方法

[发明专利]一种负阻型压控振荡电路及压控振荡器-CN201910083068.3有效
发明人：潘权;朱俊桦;郭宇浩;邵理阳 -专利权人：南方科技大学
申请日： 2019-01-25 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： H03B5/06 文献下载
摘要：一种负阻型压控振荡电路及压控振荡器，包括选频模块、负阻差分对模块以及阻抗模块。选频模块用于接收直流电信号、产生第一阻抗并确定环路的振荡频率；负阻差分对模块用于产生负阻；阻抗模块用于产生第二阻抗，以使第二阻抗与第一阻抗进行叠加后，增大环路的增益，以确保电路能够起振。上述的负阻型压控振荡电路及压控振荡器，通过增设阻抗模块，为电路提供第二阻抗，与选频模块提供的第一阻抗叠加后，再与负阻差分对模块提供的负阻进行增益运算，增大了环路的增益，确保电路能够起振，解决了传统的负阻型振荡电路存在的由于环路增益无法达到电路的起振条件而导致整个电路无法起振并输出具有目标振荡频率的交流电的问题
一种负阻型压控振荡电路压控振荡器

[发明专利]改善关键尺寸均匀性的方法-CN201410222757.5在审
发明人：孙超;李斌生;张英男;丁超;钟鑫生 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2014-05-23 - 公布日： 2015-11-25 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种改善关键尺寸均匀性的方法，至少包括以下步骤：S1：提供一表面形成有光阻层的晶圆，进行曝光及显影以在所述光阻层中形成若干开口；S2：对所述晶圆进行电浆预处理以去除所述开口底部残留的光阻；S3：对所述晶圆进行Ar/O₂电浆处理以进一步对所述光阻层进行刻蚀，并调节Ar与O₂的流量比例，使得晶圆边缘部位的光阻刻蚀速率大于晶圆中间部位的光阻刻蚀速率；S4：以Ar/O₂电浆处理后的光阻层为掩模对所述晶圆进行刻蚀。本发明在电浆预处理后再经过一步Ar/O₂电浆处理，并调节Ar与O₂的流量比例，使得晶圆边缘部位的光阻刻蚀速率大于晶圆中间部位的光阻刻蚀速率，从而调节晶圆边缘部位及晶圆中间部位的光阻开口尺寸，改善刻蚀后通孔关键尺寸的均匀性。
改善关键尺寸均匀方法

[发明专利]一种去除光阻的方法-CN200910130070.8无效
发明人：郁新举;黄志刚 -专利权人：和舰科技(苏州)有限公司
申请日： 2009-04-03 - 公布日： 2010-10-06 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明提出了一种去除光阻的方法，其特征在于包括以下步骤：步骤1，提供一层衬底；步骤2，在不需要植入离子的部位涂覆光阻并进行光照处理；步骤3，在步骤2所得到的结构中植入离子，此时，未被光阻覆盖的部分中具有被植入的离子，同时光阻表面也因为植入大量离子而产生硬化，形成硬壳；步骤4，降低温度后，去除硬壳部，而后升高温度，去除光阻；或者利用紫外光照射，使得光阻全部硬化，而后升高温度，去除光阻。本发明的有益效果在于，通过对光阻进行处理，降低了光阻内外差异，从而减小了光阻喷溅的危险性，提高产生的晶片的质量。
一种去除方法

[发明专利]变压器功率合成器-CN200910118960.7有效
发明人：赖玠玮 -专利权人：联发科技股份有限公司
申请日： 2009-03-10 - 公布日： 2009-11-04 - 主分类号： H02M5/10 文献下载
摘要：本发明涉及一种变压器功率合成器，变压器功率合成器包含多个输入端以及一个输出端，还包含多个主绕阻导体，分别电性连接至多个输入端，其中多个主绕阻导体的每一主绕阻导体电性连接于对应输入端的正端与负端之间；以及多个次绕阻导体，分别磁性耦接至多个主绕阻导体，其中，多个次绕阻导体配置为拓扑结构，拓扑结构包含输出端的正端以及负端之间的串联以及并联。本发明通过新颖的次绕阻导体之间的拓扑结构，可以使得每个功率放大器的输入阻抗基本相同的，从而达到高功率合成效率及系统稳定性。
变压器功率合成器

[实用新型]基于微分负阻NDR特性的三值T触发器电路-CN201620019105.6有效
发明人：林弥 -专利权人：杭州电子科技大学
申请日： 2016-01-08 - 公布日： 2016-07-06 - 主分类号： H03K3/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种基于微分负阻NDR特性的三值T触发器电路。本实用新型包括三值三轨输出结构的NDR文字（literal）电路、基于微分负阻NDR特性的与非运算单元、基于微分负阻NDR特性的或非运算单元以及基于微分负阻NDR特性的MOBILE反相器单元。微分负阻器件可以用共振隧穿二极管RTD实现，也可以由晶体管构成的MOS-NDR等效网络来模拟微分负阻NDR特性。本实用新型提供了一种全新的三值T触发器结构类型。
基于微分 ndr 特性触发器电路

[发明专利]对称微分负阻特性的氮化物共振隧穿二极管及制作方法-CN202310465347.2在审
发明人：薛军帅;袁金渊;李泽辉;吴冠霖;张进成;郝跃 -专利权人：西安电子科技大学
申请日： 2023-04-26 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： H01L29/88 文献下载
摘要：本发明公开了一种对称微分负阻特性的氮化物共振隧穿二极管，主要解决现有无极化氮化镓共振隧穿二极管可靠性和一致性差、峰值谷值电流比低的问题。栅极偏压为正时，底部共振隧穿二极管导通出现微分负阻效应而顶部共振隧穿二极管截止；栅极偏压为负时，顶部共振隧穿二极管导通出现微分负阻效应而底部共振隧穿二极管截止。本发明的微分负阻特性对称，性能一致性高，可用于高速数字电路。
对称微分特性氮化物共振二极管制作方法

[实用新型]光阻喷嘴装置-CN201920414839.8有效
发明人：李明欣;张祥平;古哲安;黄志凯;叶日铨 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-03-28 - 公布日： 2019-09-24 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本实用新型提供一种光阻喷嘴装置，所述光阻喷嘴装置包括：喷嘴，通过所述喷嘴向晶圆喷涂光阻溶液；供料结构，所述供料结构包括供料控制阀，所述供料结构与所述喷嘴相连接，通过所述供料结构为所述喷嘴提供所述光阻溶液本实用新型的光阻喷嘴装置，通过清洗结构，可去除位于所述喷嘴中的光阻溶液及光阻溶液的凝结物，从而可提高光阻喷涂均匀性、减少喷涂不良，以减少rework，降低成本，提高成品率；且通过回吸结构的回吸及移动式光阻喷嘴装置
喷嘴供料光阻喷嘴光阻溶液清洗结构本实用新型回吸喷涂清洗控制阀产品良率喷涂均匀喷嘴装置清洗溶液移动式光成品率可去除控制阀凝结物光阻晶圆

[发明专利]基于超材料的光忆阻片-CN201410852437.8在审
发明人：周济;吴红亚 -专利权人：清华大学
申请日： 2014-12-31 - 公布日： 2015-06-03 - 主分类号： H01L45/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于超材料的波导式光忆阻片。该光忆阻片，包括光忆阻和填充介质；其中，所述光忆阻位于所述填充介质内；所述光忆阻的个数至少为一个。该波导式光忆阻片的透射率在电磁场的加载下表现出有高低透射率的变化，并具有记忆效应。该波导式光忆阻片可以用作一种光学元器件，使现有的光路设计更富有功能性，能使光学产品，如矢量网络分析仪等，向功能更丰富的方向发展，且便于插取。该波导式光忆阻片的制造方法简单，成本低，具有重要的应用价值。
基于材料光忆阻片

[发明专利]光阻剥离液组成物及使用其剥离光阻的方法-CN201080034160.8有效
发明人：朴勉奎;金泰熙;金正铉;李承傭;金炳默 -专利权人：东友FINE-CHEM股份有限公司
申请日： 2010-08-10 - 公布日： 2012-05-23 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及一种光阻剥离液组成物及使用其剥离光阻的方法。该光阻剥离液组成物具有很好的移除光阻图案及干式蚀刻和湿式蚀刻残渣的能力，并且，由于该光阻剥离液组成物含有特定的多元醇化合物，其对包括铝及/或铜的金属配线具有优异的抗蚀性。另外，该光阻剥离液组成物，由于含有特定的酰胺化合物，可处理许多的基板，因此非常有助于降低成本。
剥离组成使用方法

[实用新型]一种自生成负栅压的驱动电路及电磁炉-CN202222048516.6有效
发明人：胡志;吴杨洪 -专利权人：中山爱它电器科技有限公司
申请日： 2022-08-04 - 公布日： 2023-01-13 - 主分类号： H05B6/06 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种自生成负栅压的驱动电路及电磁炉，包括开关管驱动模块以及负栅压生成模块，开关管驱动模块至少包括第一开关管单元，第一开关管单元用于与负载连接以构成至少部分供电支路，负栅压生成模块至少包括第一负栅压生成单元，第一负栅压生成单元包括第一储能部件以及第一阻性件，第一储能部件的一端分别与第一阻性件的一端以及第一开关管单元的源极连接，第一阻性件的另一端分别与第一开关管单元的栅极以及控制信号源的一极连接，第一储能部件的另一端与控制信号源的另一极连接，本设计根据控制信号即可自生成负栅压以控制开关管驱动模块运行，提高开关管驱动模块的通断效率。
一种生成负栅压驱动电路电磁炉

[发明专利]加热厚膜的制造方法-CN202110817275.4在审
发明人：胡志升;胡旭 -专利权人：深圳瑞森特电子科技有限公司
申请日： 2021-07-19 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请公开了一种加热厚膜的制造方法，包括：在衬底基材上依次设置导电浆料层和光阻层；利用光罩对光阻层进行曝光处理，光罩的透光区允许光透过并照射至光阻层上、非透光区用于阻止光透过；对经过曝光处理的光阻层进行显影处理，去除光阻层中被光照射的部分、而保留未被光照的部分；对导电浆料层进行刻蚀处理，去除导电浆料层中未被光阻层遮挡的部分、而保留被光阻层遮挡的部分；去除剩余的光阻层；对导电浆料层进行烧结，形成发热件；在发热件上设置绝缘层本申请可以提高发热件的成型精度及厚度均匀性，有利于控制加热效率，改善加热不均匀等问题。
加热制造方法