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- [发明专利]托烷衍生物,其制备和应用-CN97192505.4无效
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J·谢尔-克鲁格;P·默德特;F·瓦特津
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神经研究公司
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1997-02-21
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2002-01-09
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C07D451/02
- ;R3是-CH2-X-R’,其中X是O、S或NR”,其中R”是氢或烷基而R’是烷基、链烯基、炔基、环烷基、环烷基烷基、或-CO-烷基;R4是苯基,它可被取代一次或多次,取代基选自卤素、CF3、CN、烷氧基、环烷氧基、烷基、环烷基、链烯基、炔基、氨基、硝基、杂芳基和芳基;3,4-亚甲二氧基苯基;苄基,它可被取代一次或多次,取代基选自卤素、CF3、CN、烷氧基、环烷氧基、烷基、环烷基、链烯基、炔基、氨基、硝基、杂芳基和芳基;杂芳基可被取代一次或多次,取代基选自卤素、CF3、CN、烷氧基、环烷氧基、烷基、环烷基、链烯基、炔基、氨基、硝基、杂芳基和芳基;或萘基,它可被取代一次或多次,取代基选自卤素、CF3、CN、烷氧基、环烷氧基、烷基、环烷基、链烯基、炔基、氨基、硝基、杂芳基和芳基。
- 衍生物制备应用
- [发明专利]光记录材料和光记录介质-CN96191531.5无效
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木村秀一;小川但;坂本希
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东洋油墨制造株式会社
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1996-12-24
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2001-09-12
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B41M5/26
- 一种下式(1)的光记录材料和具有优异记录灵敏度,耐光性和耐用性的光记录介质,所述介质含有含上述材料的记录层,$式(1),$其中各X#-[1]-X#-[4]为氢原子,烷基,芳基,脂环残基,芳烷基,杂环,烷氧基,芳氧基或烷基硫代基,各Y#-[1]-Y#-[4]为氢原子,卤原子,硝基,邻苯二甲酰亚胺甲基或砜酰胺基,各R#-[1]和R#-[2]为氢原子,卤原子,羟基,烷基,芳基,芳烷基,烷氧基,芳氧基,烷基硫代基,芳基硫代基,烷基氨基,二烷基氨基,芳基氨基或二芳基氨基,M为Al,Ga,In,Si,Ge或Sn,Z为偶氮化合物,蒽醌化合物或金属配位化合物,n#-[1]-n#-[4]为1—4的整数,m#-[1]-m#
- 记录材料介质
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