专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]托烷衍生物,其制备和应用-CN97192505.4无效
  • J·谢尔-克鲁格;P·默德特;F·瓦特津 - 神经研究公司
  • 1997-02-21 - 2002-01-09 - C07D451/02
  • ;R3是-CH2-X-R’,其中X是O、S或NR”,其中R”是氢或烷基而R’是烷基、链烯基、炔基、环烷基、环烷基烷基、或-CO-烷基;R4是苯基,它可被取代一次或多次,取代基选自卤素、CF3、CN、烷氧基、环烷氧基、烷基、环烷基、链烯基、炔基、氨基、硝基、杂基和基;3,4-亚氧基苯基;苄基,它可被取代一次或多次,取代基选自卤素、CF3、CN、烷氧基、环烷氧基、烷基、环烷基、链烯基、炔基、氨基、硝基、杂基和基;杂基可被取代一次或多次,取代基选自卤素、CF3、CN、烷氧基、环烷氧基、烷基、环烷基、链烯基、炔基、氨基、硝基、杂基和基;或萘基,它可被取代一次或多次,取代基选自卤素、CF3、CN、烷氧基、环烷氧基、烷基、环烷基、链烯基、炔基、氨基、硝基、杂基和基。
  • 衍生物制备应用
  • [发明专利]光记录材料和光记录介质-CN96191531.5无效
  • 木村秀一;小川但;坂本希 - 东洋油墨制造株式会社
  • 1996-12-24 - 2001-09-12 - B41M5/26
  • 一种下式(1)的光记录材料和具有优异记录灵敏度,耐光性和耐用性的光记录介质,所述介质含有含上述材料的记录层,$式(1),$其中各X#-[1]-X#-[4]为氢原子,烷基,基,脂环残基,烷基,杂环,烷氧基氧基或烷基硫代基,各Y#-[1]-Y#-[4]为氢原子,卤原子,硝基,邻苯二酰亚胺甲基或砜酰胺基,各R#-[1]和R#-[2]为氢原子,卤原子,羟基,烷基,基,烷基,烷氧基氧基,烷基硫代基,基硫代基,烷基氨基,二烷基氨基,基氨基或二基氨基,M为Al,Ga,In,Si,Ge或Sn,Z为偶氮化合物,蒽醌化合物或金属配位化合物,n#-[1]-n#-[4]为1—4的整数,m#-[1]-m#
  • 记录材料介质

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