专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]铜-催化的碳-杂原子键和碳-碳键的形成-CN200610082481.0有效
  • S·L·布克瓦德;A·克拉帕斯;J·C·安蒂拉;G·E·乔布;M·沃尔特;F·Y·邝;G·诺尔德曼;E·J·亨尼斯 - 麻省理工学院
  • 2002-04-24 - 2006-11-01 - C07D205/08
  • 在某些具体方案中,本发明涉及铜-催化的酰胺或胺基团的氮原子与,杂,或乙烯卤化物或磺酸的活性炭之间的碳-氮键的合成方法。在另外的具体方案中,本发明涉及铜-催化的酰肼的氮原子与,杂,或乙烯卤化物或磺酸的活性炭之间的碳-氮键的合成方法。在其他具体方案中,本在其他具体方案中,一发明涉及铜-催化的含氮杂,例如,吲哚,吡唑,和吲唑的氮原子与,杂,或乙烯卤化物或磺酸的活性炭之间的碳-氮键的合成方法。在某些具体方案中,本发明涉及铜催化的醇的氧原子与,杂,或乙烯卤化物或磺酸的活性炭之间的碳-氧键的合成方法。本发明也涉及铜-催化的包含亲核碳原子的反应剂,例如,烯醇盐或丙二酸盐阴离子,与,杂,或乙烯卤化物或磺酸的活性炭之间的碳-碳键的合成方法。
  • 催化原子形成
  • [发明专利]铜-催化的碳-杂原子键和碳-碳键的形成-CN02812587.8有效
  • S·L·布克瓦德;A·克拉帕斯;J·C·安蒂拉;G·E·乔布;M·沃尔特;F·Y·邝;G·诺尔德曼;E·J·亨尼斯 - 麻省理工学院
  • 2002-04-24 - 2004-08-04 - C07C209/06
  • 在某些具体方案中,本发明涉及铜-催化的酰胺或胺基团的氮原子与,杂,或乙烯卤化物或磺酸的活性炭之间的碳-氮键的合成方法。在另外的具体方案中,本发明涉及铜-催化的酰肼的氮原子与,杂,或乙烯卤化物或磺酸的活性炭之间的碳-氮键的合成方法。在其他具体方案中,本在其他具体方案中,一发明涉及铜-催化的含氮杂,例如,吲哚,吡唑,和吲唑的氮原子与,杂,或乙烯卤化物或磺酸的活性炭之间的碳-氮键的合成方法。在某些具体方案中,本发明涉及铜催化的醇的氧原子与,杂,或乙烯卤化物或磺酸的活性炭之间的碳-氧键的合成方法。本发明也涉及铜-催化的包含亲核碳原子的反应剂,例如,烯醇盐或丙二酸盐阴离子,与,杂,或乙烯卤化物或磺酸的活性炭之间的碳-碳键的合成方法。
  • 催化原子形成
  • [发明专利]用于形成高分子化合物的化合物-CN201510737645.8在审
  • 吉村研;大家健一郎 - 住友化学株式会社
  • 2010-10-29 - 2016-05-25 - C07F7/22
  • DDA0000837848230000011.GIF" wi="1412" he="546" />式中,R52和R53相同或不同,表示氢原子、卤原子、烷基、烷基氧基、烷基硫氧基、烷基、烷基氧基、烷基硫、酰、酰氧基、酰胺基、酰亚胺基、氨基、取代氨基、取代甲硅烷基、取代甲硅烷基氧基、取代甲硅烷基硫、取代甲硅烷基氨基、1价的杂环、杂环氧基、杂环硫、羧基或氰,W1和W2相同或不同,表示氢原子、卤原子、烷基磺酸磺酸烷基磺酸、硼酸残基、锍甲基、鳞甲基、膦酸酯甲基、单卤代甲基、硼酸残基、甲酰、乙烯或有机锡残基。
  • 用于形成高分子化合物化合物
  • [发明专利]磺酸衍生香料-CN96199913.6无效
  • M·R·斯维克;F·A·哈特曼 - 普罗格特-甘布尔公司
  • 1996-11-26 - 2001-09-12 - C07C309/73
  • 本发明涉及以醇的香气为基础的新型磺酸磺酸如通式(Ⅰ)(Ⅱ)所示$其中R和Z各自选自非离子或阴离子,取代或未取代的C#-[1]-C#-[30]直链、支链或环状烷基、烯、炔、烷、或;Y是当所述磺酸水解时能形成沸点(760mmHg)低于约300℃有香味的醇的基团,但其中不包括甲磺酸香叶和橙花。优选将这些磺酸酯化合物掺入洗涤剂和清洁剂组合物中。$#!
  • 磺酸酯衍生香料
  • [发明专利]用于形成高分子化合物的化合物-CN201510736720.9在审
  • 吉村研;大家健一郎 - 住友化学株式会社
  • 2010-10-29 - 2015-12-30 - C07D519/00
  • DDA0000837855250000011.GIF" wi="1677" he="561" />式中,R62~R65相同或不同,表示氢原子、卤原子、烷基、烷基氧基、烷基硫氧基、烷基、烷基氧基、烷基硫、酰、酰氧基、酰胺基、酰亚胺基、氨基、取代氨基、取代甲硅烷基、取代甲硅烷基氧基、取代甲硅烷基硫、取代甲硅烷基氨基、1价的杂环、杂环氧基、杂环硫、羧基或氰,Ar3~Ar6相同或不同,表示3价的杂环,W3和W4相同或不同,表示氢原子、卤原子、烷基磺酸磺酸烷基磺酸、硼酸残基、锍甲基、鏻甲基、膦酸酯甲基、单卤代甲基、硼酸残基、甲酰、乙烯或有机锡残基,Z表示亚或2价的杂环
  • 用于形成高分子化合物化合物

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