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- [实用新型]磁控阴极溅射镀膜工艺室-CN201320412833.X有效
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陆仁立
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重庆春江镀膜玻璃有限公司
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2013-07-11
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2014-01-29
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C23C14/35
- 本实用新型涉及玻璃镀膜生产技术领域，公开一种磁控阴极溅射镀膜工艺室，包括依次连通的入口气锁室、入口真空缓冲腔室、磁控阴极溅射镀膜真空腔室、出口真空缓冲腔室和出口气锁室，所述入口真空缓冲腔室包括至少4个缓冲单元腔室，磁控阴极溅射镀膜真空腔室包括至少16个溅射单元腔室，所述出口真空缓冲腔室包括至少4个缓冲单元腔室；本实用新型的磁控阴极溅射镀膜工艺室，在磁控阴极溅射镀膜真空腔室两端设置真空缓冲室和锁定室，可有效降低玻璃基片进出磁控阴极溅射镀膜真空腔室造成的气体泄漏，提高磁控阴极溅射镀膜真空腔室的真空度，并使其维持在稳定的水平，从而提高镀膜质量。
- 阴极溅射镀膜工艺
- [实用新型]一种真空镀膜设备-CN202320698014.X有效
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请求不公布姓名
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广东利元亨智能装备股份有限公司
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2023-03-31
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2023-08-22
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C23C14/56
- 本实用新型公开了一种真空镀膜设备，真空镀膜设备包括进料腔室、缓冲腔室、工艺腔室、出料腔室和真空泵，进料腔室和工艺腔室之间以及工艺腔室和出料腔室之间均设置有缓冲腔室，缓冲腔室的第一端连接工艺腔室，缓冲腔室的第二端连接进料腔室或出料腔室，缓冲腔室的侧壁设置有真空泵，靠近缓冲腔室第一端的真空泵数量多于靠近缓冲腔室第二端的真空泵。利用真空泵在缓冲腔室形成第二端向第一端的气流，在缓冲腔室与工艺腔室连通时，能够减少工艺气体从工艺腔室向缓冲腔室的流动，且在缓冲腔室连通进料腔室或出料腔室时，缓冲腔室中第二端向第一端的气流也能够防止工艺气体泄漏至大气本实用新型可广泛应用于真空镀膜技术领域。
- 一种真空镀膜设备
- [实用新型]一种导光板制程中的防堵真空罐-CN202221371201.9有效
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华金峰;王永华
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江苏瀚阳新材料科技有限公司
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2022-06-03
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2023-01-24
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B29C48/275
- 本实用新型公开了一种导光板制程中的防堵真空罐，包括真空罐和与真空罐相连的真空泵，真空罐包括上下设置的真空室和缓冲室，真空室和缓冲室分别通过第一真空管道和第二真空管道与真空泵相连，真空室通过第三真空管道与挤出机相连，真空室的底部设有第一闸门，缓冲室的侧壁上设置有第二闸门，第一闸门与第二闸门上分别连接有第一控制器和第二控制器，第一控制器和第二控制器分别与控制系统电连接。通过将真空罐分设为真空室和缓冲室，真空室设置在缓冲室的上方，真空废料罐发生堵料时，打开第一闸门，废料下落至缓冲室，关闭第一闸门，清理废料时只需要清理缓冲室即可，过程中不会影响挤出机的真空度，可有效减少物料浪费
- 一种导光板中的真空
- [实用新型]一种真空镀膜设备用真空缓冲室-CN201320199063.5有效
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薛辉;昌江
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芜湖真空科技有限公司
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2013-04-19
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2014-04-02
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C23C14/56
- 本实用新型公开了一种真空镀膜设备用真空缓冲室，包括真空缓冲室本体（1）、门（3），以及安装在门（3）上分子泵（4），真空缓冲室还包括位于真空缓冲室本体（1）内部的气体分割阀（2），气体分割阀（2）由若干块镜面板组成，并通过螺栓安装在真空缓冲室本体（1）的内部，气体分割阀（2）的连接部位为腰形孔，通过螺栓与腰形孔的安装位置调节气体分割阀的宽度。具有上述结构的该种真空镀膜设备用真空缓冲室，由于相邻的真空缓冲室安装有气体分隔阀，气体分隔阀利用其本身的长度和宽度来限制相邻真空室气氛的直接大面积流通，基本上避免相互之间的气氛影响，从而大大减小了各自真空室的实际气氛与理论气氛的差距
- 一种真空镀膜备用真空缓冲
- [实用新型]多室连续真空镀膜装置-CN200920056199.4无效
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钟肇兰
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钟肇兰
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2009-05-11
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2010-05-05
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C23C14/35
- 一种多室连续真空镀膜装置，包括有依次串联、由6台阀门隔开的以下的、进片真空室2-前缓冲真空室4-前过渡真空室6-镀膜真空室8-后过渡真空室9-后缓冲真空室11-出片真空室13；在镀膜真空室8里，装设有若干条的靶条7；各真空室连接有真空发生装置，包括连接在进、出片真空室的前、后初级抽真空系统16、22、连接在前、后缓冲真空室的前、后缓冲深度排气系统17，21，连接在前、后过渡真空室的前、后深度排气系统18和20，和连接在镀膜真空室的镀膜深度排气系统19。本实用新型装置真空度平稳、不波动，镀膜质量好，缩短了在进、出片室的排气时间，提高生产效率，真空室的配置合理、效率高。适用于各种连续生产的真空镀膜装置。
- 连续真空镀膜装置
- [发明专利]一种连续镀膜电子磁控溅射装置-CN202310026652.1在审
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励佩燕
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宁波新鑫玻璃科技有限公司
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2023-01-09
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2023-05-05
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C23C14/56
- 本发明提供一种连续镀膜电子磁控溅射装置，属于连续磁控溅射镀膜技术领域，包括真空室、缓冲隔离室、预真空室，真空室与多个缓冲隔离室及多个预真空室相互连通并一字排开，真空室居中设置其两端与缓冲隔离室连通，缓冲隔离室一端与预真空室连通，还包括：第一传送架、第二传送架、镀材架、靶材架；第一传送架用于输送镀材依次穿过真空室、缓冲隔离室及预真空室；第二传送架一端的预真空室的侧边延伸至另一端的预真空室中，第二传送架用于输送靶材穿过真空室及缓冲隔离室，预真空室侧边设有取放靶材的柜门；镀材架用于盛放固定镀材，镀材架放置于第一传送架上并与其滑动配合；靶材架用于盛放固定靶材，靶材架放置于第二传送架并上与其滑动配。
- 一种连续镀膜电子磁控溅射装置
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