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[发明专利]卧式光学连续磁控溅射镀膜设备-CN202110045992.X在审
发明人：肖山 -专利权人： 东莞市一粒米薄膜科技有限公司
申请日： 2021-01-14 - 公布日： 2021-06-04 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明涉及一种卧式光学连续磁控溅射镀膜设备，包括进片室、进片锁定室、若干真空镀膜室、出片锁定室以及出片室；相邻两真空镀膜室之间设有第一真空过渡室，且第一真空过渡室的真空度大小位于与其相邻的两真空镀膜室内的真空度之间。由于第一真空过渡室的真空度大小位于与其相邻的两真空镀膜室内的真空度之间，因此待加工件从一个真空镀膜室移动至另一个真空镀膜室的时候，由于第一真空过渡室的缓冲作用，不会使待加工件直接由一个低真空度的环境中跳跃到高真空度的环境中，也不会使待加工件直接由一个高真空度的环境中跳跃到低真空度的环境中，而是逐渐减小或逐渐增加，使本发明的卧式光学连续磁控溅射镀膜设备镀膜更加稳定，所镀的膜也更均匀。
卧式光学连续磁控溅射镀膜设备

[发明专利]真空镀膜装置-CN201811595488.1有效
发明人：赵斌 -专利权人： 东莞市一粒米薄膜科技有限公司
申请日： 2018-12-25 - 公布日： 2019-10-25 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明涉及一种真空镀膜装置，包括：第一真空腔室排、第二真空腔室排、第一转移机构、第二转移机构、第一驱动机构、第二驱动机构及基片架，第一真空腔室排、第二转移机构及第二真空腔室排顺次排布以形成循环，基片架的相对两侧均用于装载基片，第一驱动机构用于驱动基片架沿第一方向穿过第一真空腔室排，以使装载于基片架的第一侧的基片完成真空脱气镀膜；第二转移机构用于将基片架由第一真空腔室排转移至第二真空腔室排，以使基片架经由第二驱动机构带动沿第二方向穿过第二真空腔室排，从而以使装载于基片架的第二侧的基片完成真空脱气镀膜；第一转移机构用于将相对两侧重新装载有基片的基片架由第二真空腔室排转移至第一真空腔室排。
真空腔室基片架转移机构装载第一驱动机构真空镀膜装置驱动机构相对两侧真空脱气镀膜穿过排布驱动

[发明专利]真空镀膜设备-CN201811444807.9有效
发明人：赵斌 -专利权人： 东莞市一粒米薄膜科技有限公司
申请日： 2018-11-29 - 公布日： 2019-08-30 - 主分类号： C23C14/22 文献下载
摘要：本发明属于真空镀膜技术领域，尤其涉及一种真空镀膜设备。该真空镀膜设备，包括第一真空腔室排、第二真空腔室排、大气回转装置、真空回转装置、第一驱动机构及第二驱动机构，第一真空腔室排、真空回转装置、第二真空腔室排及大气回转装置顺次排布以形成循环，第一真空腔室排及第二真空腔室排均位于大气回转装置与真空回转装置之间，第一真空腔室排包括多个沿第一方向顺次排布的第一前缓冲真空室，第二真空腔室排包括沿第二方向顺次排布的真空镀膜室及后缓冲真空室，后缓冲真空室设有多个，且沿第二方向顺次排布，各第一前缓冲真空室在第一方向上的延伸长度之和大于各后缓冲真空室在第二方向上的延伸长度之和。
真空腔室回转装置缓冲真空室排布真空镀膜设备第一驱动机构真空镀膜技术真空镀膜室驱动机构延伸