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[发明专利]使用多脉冲等离子体源连续供应负离子的系统和方法-CN201880074595.1有效
发明人：许诚烈 -专利权人：韩国原子力研究院
申请日： 2018-10-24 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： H01J27/02 文献下载
摘要：本公开涉及一种使用多脉冲等离子体源连续供应负离子的系统和方法。该系统包括：多个等离子体发生器，每个等离子体发生器用于通过将脉冲功率施加到来自气体源的负电性气体来产生等离子体；负离子供应单元，连接至等离子体发生器，以接收从其中传递的等离子体并连续供应离子；以及控制器，连接至多个等离子体发生器，并被配置成用于控制递送到各个等离子体发生器的脉冲功率的特性，以及用于调节与脉冲功率包络相关联的相移。通过调节相移，当等离子体发生器中的一个等离子体发生器中的等离子体处于活动辉光状态时，控制器使另一个等离子体能够处于后辉光状态。为了实现这一点，多个等离子体发生器根据相移以交替的方式生成等离子体。因此，从在后辉光状态下的一个等离子体发生器供应到负离子供应单元的负离子的附加供应可以补偿从在活动辉光状态下的另一个等离子体发生器到负离子供应单元的负离子供应的减少的量，导致连续供应负离子，同时使负离子供应单元中的负离子密度随时间保持恒定
使用脉冲等离子体连续供应负离子系统方法

[发明专利]衬底处理装置中的等离子体-CN202010564372.2在审
发明人： N·霍尔姆;铃木俊哉 -专利权人：皮考逊公司
申请日： 2020-06-19 - 公布日： 2020-12-25 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本公开的实施例涉及衬底处理装置中的等离子体。衬底处理装置(100)及相关方法，其中等离子体物质经由等离子体进料线(115)而被引入到针对沉积目标(160)的反应室(130)中。等离子体进料线(115)经过等离子体形成区。在等离子体进料线内的等离子体物质的速度通过等离子体形成区下游的收缩部(112)而加速。
衬底处理装置中的等离子体

[发明专利]零部件、形成耐等离子体涂层的方法和等离子体反应装置-CN202010432447.1在审
发明人：段蛟;孙祥;陈星建 -专利权人：中微半导体设备（上海）股份有限公司
申请日： 2020-05-20 - 公布日： 2021-11-26 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明适用于半导体技术领域，公开了一种用于等离子体反应装置中的零部件、零部件形成耐等离子体涂层的方法和等离子体反应装置。一种用于等离子体反应装置中的零部件，等离子体反应装置包括反应腔，反应腔内为等离子体环境，零部件暴露于等离子体环境中，零部件包括：非氧化物基底；耐等离子体涂层，耐等离子体涂层涂覆于非氧化物基底表面，耐等离子体涂层为稀土金属化合物，耐等离子体涂层和非氧化物基底之间通过饱和化学键过渡。本发明提供的零部件，在非氧化物基底与耐等离子体涂层之间的界面通过饱和的化学键实现过渡，降低耐等离子体涂层脱落的风险，提高耐等离子体涂层的服役寿命。
零部件形成等离子体涂层方法反应装置

[实用新型]一种低温等离子体处理高难降解废水装置-CN202022158882.8有效
发明人：张绪全;孙浙胜;张绪运 -专利权人：宁波弘富环境科技有限公司
申请日： 2020-09-27 - 公布日： 2021-06-11 - 主分类号： C02F1/30 文献下载
摘要：一种低温等离子体处理高难降解废水装置，包括配电箱、等离子体发生器、等离子体射流器、原始废水箱、水泵、等离子体反应器、进液阀门和出液阀门，配电箱和等离子体发生器连接，等离子体发生器设置有用于输入压缩气体的进气管道，等离子体发生器和等离子体射流器连接，原始废水箱内储存待处理的废水，原始废水箱和等离子体射流器之间设置有水泵，原始废水箱的出水口和水泵的输入端相连，水泵的输出端和等离子体射流器连接，等离子体射流器和等离子体反应器连接，等离子体反应器设置有进液阀门和出液阀门，所述等离子体反应器内为负压环境。
一种低温等离子体处理高难降解废水装置

[发明专利]一种常压辉光等离子体装置-CN201510897672.1在审
发明人：陈晓;吴海华;洪梦华 -专利权人：上海至纯洁净系统科技股份有限公司
申请日： 2015-12-08 - 公布日： 2016-05-04 - 主分类号： H05H1/46 文献下载
摘要：本发明提供一种常压辉光等离子体装置，包括：中频等离子体腔室和射频等离子体腔室；其中，进入等离子体装置的气体首先流入中频等离子体腔室，并在中频等离子体腔室中生成等离子体后进入射频离子体腔室。具有这样的结构，当气体通过进行系统进入装置后，在该装置中首先使用中频电源激励在中频等离子体腔室中产生等离子体，该等离子体会继续传播至射频等离子体腔室，从而为射频电源激励产生等离子体过程中提供更多的种子电子
一种常压辉光等离子体装置

[实用新型]用于等离子体弧粉体制备设备的磁控器-CN202320141766.6有效
发明人：李春生;陈应红;黄猛;肖发全;陈火明 -专利权人：广东先导稀材股份有限公司
申请日： 2023-02-01 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： B01J19/08 文献下载
摘要：提供一种用于等离子体弧粉体制备设备的磁控器，磁控器设置有筒形外壳以及设置在筒形外壳的内壁上的周向交替且间隔开的主磁极和副磁极，主磁极连接于直流等离子电源以产生使等离子体弧粉体制备设备产生的等离子体弧旋转的旋转磁场，副磁极连接于三相交流电源以产生将等离子体弧粉体制备设备产生的等离子体弧径向向内推的磁场。副磁极产生将等离子体弧径向向内推的磁场会使得等离子体弧或等离子体弧的漂移电弧不会接近等离子体弧粉体制备设备的筒体的内壁面，避免了筒体存在等离子体弧或等离子体弧的漂移电弧接触筒体导致筒体被烧蚀的风险、进而免除了等离子体弧或等离子体弧的漂移电弧在筒体内流动击穿筒体的风险
用于等离子体体制设备磁控器

[实用新型]一种安全防爆的等离子体协同多技术烟气净化设备-CN202121998471.8有效
发明人：钱黎明;陆晓飞;吴成旺;陈燕明;荣新战 -专利权人：中科新天地(合肥)环保科技有限公司
申请日： 2021-08-23 - 公布日： 2022-02-15 - 主分类号： B01D53/75 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种安全防爆的等离子体协同多技术烟气净化设备，包括箱体、等离子体发生装置和协同净化装置；箱体的两个相对端分别设有进气口和出气口，箱体内部由进气口至出气口方向依次设有等离子体净化腔室和协同净化腔室；等离子体发生装置包括柜体、等离子体放电模块、等离子体放电电源和等离子体注入系统，柜体位于箱体外部，柜体包括第一腔室和第二腔室，第一腔室与第二腔室相互隔离，等离子体放电模块安装在第一腔室内，等离子体放电电源安装在第二腔室内，等离子体放电模块与等离子体放电电源电性连接，第一腔室通过等离子体注入系统与等离子体净化腔室连通。
一种安全防爆等离子体协同技术烟气净化设备

[发明专利]一种用于等离子喷涂枪的阴极结构-CN03114695.3无效
发明人：李长久;孙波 -专利权人：西安交通大学
申请日： 2003-04-28 - 公布日： 2003-10-01 - 主分类号： B05B5/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种可用于等离子喷涂枪的阴极结构，此阴极结构至少包括空心的支撑体与两个同心的内侧管与外侧钨管，直径相异的两个管焊接在支撑体的一端，两管之间具有一定的间隙。外侧钨管用作阴极的放电部分，内侧管用于将粉末送出，用以构成中心轴向送粉等离子喷涂枪的阴极。采用本阴极结构设计的等离子喷涂枪，具有电弧燃烧稳定、粉末不易粘结、阴极使用寿命长等优点。本发明可用作等离子喷涂枪的空心阴极，外侧钨管用作阴极的放电部分，内侧管用于将粉末送进喷嘴，具有粉末导向作用；还可用于其它具有等离子体加热和材料送进功能的阴极。
一种用于等离子喷涂阴极结构

[发明专利]采用具有磁约束的等离子体源的基于等离子体的材料改性-CN201510006559.X在审
发明人： W·德维尔吉欧;S·萨瓦斯;S·费尔奇;盛天予;陈皞 -专利权人：汉辰科技股份有限公司
申请日： 2015-01-07 - 公布日： 2015-09-09 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种用于工件的材料改性的基于等离子体的材料改性系统可包括耦接至工艺腔的等离子体源腔。被配置成支撑工件的支撑结构可布置在工艺腔内。等离子体源腔可包第一多个磁体、第二多个磁体和第三多个磁体，第三多个磁体围绕等离子体源腔内的等离子体产生区域。等离子体源腔可被配置成在等离子体产生区域内产生具有离子的等离子体。第三多个磁体可被配置成限制等离子体产生区域内能量大于10eV的等离子体的大多数电子同时允许来自等离子体的离子穿过第三多个磁体而进入处理腔以用于工件的材料改性。
采用具有约束等离子体基于材料改性

[发明专利]粉体表面类金刚石沉积的悬臂梁式振动等离子体流化床-CN202211081272.X在审
发明人：张乔根;艾志军;吴治诚;赵军平;徐鹏;胡正勇;高凯;冯乐;马瑞涛 -专利权人：西安交通大学;国网上海市电力公司
申请日： 2022-09-05 - 公布日： 2022-11-01 - 主分类号： C23C16/26 文献下载
摘要：公开了一种粉体表面类金刚石沉积的悬臂梁式振动等离子体流化床，粉体表面类金刚石沉积的悬臂梁式振动等离子体流化床中，等离子体反应腔布置成悬臂梁结构，所述等离子体反应腔一端连通进气管，另一端连通出气管；连杆电机驱动连接所述等离子体反应腔且使得所述等离子体反应腔往复振动；气体分布板设于所述等离子体反应腔中，气体分布板设有多个用于均匀导入来自进气管道的气体的通孔；外置电极设于所述等离子体反应腔侧壁以在其中放电产生等离子体，并调节所述等离子体的离子能量；电感线圈套接于等离子体反应腔外部以调节所述等离子体的密度
体表金刚石沉积悬臂梁振动等离子体流化床

[发明专利]等离子体处理方法和等离子体处理装置-CN201210276306.0无效
发明人：高桥哲朗;藤野丰;户岛宏至;久保敦史;康松润;P·芬泽克;瀬川澄江 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2008-07-10 - 公布日： 2012-11-21 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供等离子体处理方法和等离子体处理装置。当在腔室内配置晶片，在腔室内形成等离子体生成空间，至少使晶片表面与该等离子体生成空间接触的状态下对晶片表面实施等离子体处理时，使等离子体生成空间与晶片的背面侧的至少外周部分接触而实施等离子体处理。
等离子体处理方法装置

[发明专利]等离子体处理方法和等离子体处理装置-CN200880024210.7有效
发明人：高桥哲朗;藤野丰;户岛宏至;久保敦史;康松润;P·芬泽克;濑川澄江 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2008-07-10 - 公布日： 2010-08-11 - 主分类号： H01L21/318 文献下载
摘要：本发明提供等离子体处理方法和等离子体处理装置。当在腔室内配置晶片，在腔室内形成等离子体生成空间，至少使晶片表面与该等离子体生成空间接触的状态下对晶片表面实施等离子体处理时，使等离子体生成空间与晶片的背面侧的至少外周部分接触而实施等离子体处理。
等离子体处理方法装置

[发明专利]一种等离子体风洞的等离子体参数测量方法-CN202011018627.1在审
发明人：白冰;丁亮;韩潇;张磊;赵华;李涛;彭毓川;顾志飞;李高;吴达 -专利权人：北京卫星环境工程研究所
申请日： 2020-09-24 - 公布日： 2020-12-25 - 主分类号： H05H1/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种基于等离子体风洞的等离子体参数测量方法，所述测量方法首先在等离子风洞输入层流等离子体前，通过矢量网络分析仪调整发射天线和接收天线同相位；输入等离子体后在发射天线与接收天线之间风洞中形成等离子体束流；测量等离子体束流的直径、接收天线与发射天线的相位差，并根据相位差及等离子体束流直径计算等离子体电子密度；再通过光谱仪测量等离子体粒子的特征谱线的偏移量，并根据偏移量计算等离子体的束流速度。本发明所测量的等离子体电子密度和束流速度测量误差小于0.01mm，相伴分辨率小于0.5°，综合误差小于0.16％，在不干扰等离子体束流的前提下，对等离子参数进行精确测量，提高了测量精度。
一种等离子体风洞参数测量方法

[发明专利]一种等离子体原位表征方法-CN201610546553.6在审
发明人：张婧;石宁;徐伟;孙峰;金满平;朱云峰 -专利权人：中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司青岛安全工程研究院
申请日： 2016-07-12 - 公布日： 2016-10-26 - 主分类号： G01N21/27 文献下载
摘要：一种等离子体原位表征方法，通过发射光谱仪、高速图像捕捉系统、数字示波器、红外成像仪与在线质谱仪对等离子体进行表征。光纤探头和第一图像采集器均置于等离子体放电反应器的放电核心区域。数字示波器的电压探头附属高压极与等离子体放电反应器的高压极相连，电压探头附属接地极与地线相连，电流探头与等离子体放电反应器相连；第二图像采集器朝向等离子体放电核心区域；在线质谱仪的进样管与等离子体放电反应区出口相连一种等离子体原位表征方法，各部件协同配合，可全方位实时监测等离子体活性物种的种类和数量、等离子体放电状态、电流电压波形、等离子体电子密度、等离子体区温度分布和产物组成等，可对等离子体放电过程进行原位表征
一种等离子体原位表征方法

[发明专利]一体式双循环等离子体活化水机-CN202110159128.2在审
发明人：刘东平;赵志国 -专利权人：大连理工大学
申请日： 2021-02-04 - 公布日： 2021-05-18 - 主分类号： C02F1/48 文献下载
摘要：本发明公开了一体式双循环等离子体活化水机，包括：等离子体活化水机外壳，所述等离子体活化水机外壳内设有等离子体反应器、净水器、净水储水罐、气液混合泵、等离子体混合罐、变频器、高压变压器、控制单元，所述等离子体反应器的出气口通过管路与气液混合泵的入口Ⅱ相连，所述气液混合泵的出口通过管路与等离子体混合罐的进水口Ⅱ相连；所述等离子体混合罐的出水口Ⅰ通过管路与净水储水罐相连，所述等离子体混合罐的出水口Ⅱ通过管路与气液混合泵的入口Ⅰ相连。本发明双循环结构，可实现不循环产出等离子体活化水，单循环产出等离子体活化水，双循环产出等离子体活化水，可制备高浓度的等离子体活化。
体式双循环等离子体活化