专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]涂层-CN201110265656.2有效
  • 长谷川祐太;前田实 - 尾池工业株式会社
  • 2011-09-08 - 2012-12-05 - B32B27/08
  • 本发明一种方式的目的是提供一种涂层,该涂层具有铅笔硬度为5H以上的高硬度的表面,具有优良的耐损伤性和耐磨损性,具有优良的柔性和透明性,此外特别适合用作光学用。该涂层包括作为基体材料的塑料以及涂层,该涂层至少层叠在所述塑料的一个面上,所述塑料是丙烯酸类树脂,所述涂层含有有机-无机杂化树脂,该有机-无机杂化树脂含有氟类化合物的添加剂。
  • 涂层
  • [发明专利]一种高硬度耐刮抗摔树脂眼镜片-CN202010532661.4在审
  • 张荭 - 江苏鸿晨集团有限公司
  • 2020-06-12 - 2020-08-14 - G02C7/02
  • 本发明公开了一种高硬度耐刮抗摔树脂眼镜片,其包括树脂基片,树脂基片具有光学凹面与光学凸面;分别设置于光学凹面与光学凸面的加涂层,加涂层设有至少两层;真空溅射于加涂层的减反射,减反射位于光学凸面的加涂层;设置于减反射与光学凹面的加涂层上的自清洁,自清洁包括氧化银层、氧化锌层。本发明通过加涂层配合减反射、自清洁,避免以往镜片硬度较低,不耐摔易损的麻烦。
  • 一种硬度耐刮抗摔树脂眼镜片
  • [实用新型]一种高硬度耐刮抗摔树脂眼镜片-CN202021075530.X有效
  • 张荭 - 江苏鸿晨集团有限公司
  • 2020-06-12 - 2020-12-11 - G02C7/02
  • 本实用新型公开了一种高硬度耐刮抗摔树脂眼镜片,其包括树脂基片,树脂基片具有光学凹面与光学凸面;分别设置于光学凹面与光学凸面的加涂层,加涂层设有至少两层;真空溅射于加涂层的减反射,减反射位于光学凸面的加涂层;设置于减反射与光学凹面的加涂层上的自清洁,自清洁包括氧化银层、氧化锌层。本实用新型通过加涂层配合减反射、自清洁,避免以往镜片硬度较低,不耐摔易损的麻烦。
  • 一种硬度耐刮抗摔树脂眼镜片
  • [发明专利]半导体结构的制造方法-CN202310067995.2在审
  • 马景涛 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2023-01-12 - 2023-05-02 - H01L21/311
  • 本公开实施例涉及半导体领域,提供一种半导体结构的制造方法,半导体结构的制造方法包括:提供基底以及位于基底上的待刻蚀层;在待刻蚀层上形成层,层中具有掺杂元素,且在自基底指向待刻蚀层的方向上,掺杂元素的掺杂含量逐渐增加;在层上形成光刻胶层,光刻胶层内具有贯穿光刻胶层厚度的第一开口;以光刻胶层为掩,沿第一开口刻蚀层,直至暴露待刻蚀层的顶面,在层内形成第二开口,其中,在刻蚀层的步骤中,刻蚀工艺对层的刻蚀速率逐渐增大;以具有第二开口的层为掩刻蚀待刻蚀层,直至暴露基底的顶面,在待刻蚀层内形成第三开口。
  • 半导体结构制造方法
  • [实用新型]慢性下血肿引流管导引针-CN201220124823.1有效
  • 李德龙 - 房县人民医院
  • 2012-03-29 - 2012-11-21 - A61M25/06
  • 本实用新型提出了慢性下血肿引流管导引针,包括一根整体金属圆条,金属圆条的前端弯折有弯头,金属圆条的后端设有吊耳。在慢性下血肿钻孔引流中,将导针末端经硅胶引流管侧孔穿入,经颅骨钻孔,使引流管头部弯曲,轻柔导入下血肿腔内,然后退针,再将引流管与平行置入下血肿腔中,防止置入下引流管戳伤大脑皮层,减少手术并发症
  • 慢性硬膜下血肿引流导引
  • [发明专利]去除栅极结构中层的方法-CN200510112389.X无效
  • 迟玉山;马擎天;张世谋;杜珊珊 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2005-12-30 - 2007-07-04 - H01L21/28
  • 本发明提供了一种去除栅极结构中层的方法,所述栅极结构已经过栅极蚀刻处理,包括半导体基体、栅极氧化物层、栅极材料层以及层,所述的栅极氧化物层和层含有相同成分物质,包括:涂覆保护层;蚀刻所述保护层,露出所述层而仍覆盖所述栅极氧化物层时停止蚀刻;去除所述层;去除剩余的保护层。当层含有和所述栅极氧化物层相同成分的物质,由于本发明所提供的方法在去除层时或者去除与所述栅极氧化物层相同成分的物质层时,仅仅露出所述栅极结构的层,栅极氧化层周围仍然涂覆有保护层,保护栅极氧化层不会受到蚀刻
  • 去除栅极结构中硬膜层方法

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