专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果4417684个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [实用新型]超声硅片清洗-CN201120573330.1有效
  • 钟平 - 宁波科论太阳能有限公司
  • 2011-12-31 - 2012-09-12 - B08B3/12
  • 本实用新型公开了一种超声硅片清洗,它包括超声槽,其特征是在超声槽的一侧设有排水阀门,超声槽的槽口处搭接有用于放置硅片的支架,超声槽的底部设有超声波振子;超声槽上还设有循环水管路,循环水管路上通过过滤装置和抽水泵连有喷头本实用新型得到的超声硅片清洗,结构简单,操作方便,采用超声清洗,使清洗硅片的效果更好,且能够节约水资源。
  • 超声硅片清洗
  • [实用新型]清洗单边抛动机构-CN202122422694.6有效
  • 王进;张进元;王永利;胡宏峰 - 上海珺竹精密机械有限公司
  • 2021-10-08 - 2022-02-01 - B08B3/02
  • 本实用新型公开清洗单边抛动机构,涉及硅片清洗领域。该清洗单边抛动机构,包括放置架和驱动电机,放置架的上表面设有插片花篮,放置架的背面固定安装有固定条,固定条的外表面两侧均固定安装有限位组件,驱动电机的输出端固定安装有偏心轮,偏心轮的上方设有抛动顶块。该清洗单边抛动机构,在使用时,通过启动驱动电机,使得驱动电机带动偏心轮进行转动,此时偏心轮将抛动顶块重复向上顶起,使得插片花篮在放置架的上表面竖直发生震荡,实现在冲洗的过程中进行震颤,方便将硅片与插片花篮贴合处的杂质震颤出来,提升硅片整体的清洗效果。
  • 清洗单边机构
  • [发明专利]一种多晶硅铸锭硅片清洗设备-CN202310713299.4在审
  • 杨定勇;张力峰 - 扬州晶樱光电科技有限公司
  • 2023-06-15 - 2023-09-01 - B08B3/12
  • 本发明公开了一种多晶硅铸锭硅片清洗设备,具体涉及硅片清洗技术领域,包括基座,所述基座的顶端一侧固定安装有超声波清洗,所述超声波清洗的顶端固定安装有干燥框,所述干燥框的一侧端固定安装有顶板框,所述干燥框、顶板框的内壁上表面固定安装有平移机构,所述平移机构的底端设有置料组件,所述干燥框的底部固定卡设有干燥机构,所述基座顶端远离超声波清洗的一侧固定安装有运料机构,本发明,通过设置平移机构,配合使用置料组件、运料机构,便于多晶硅铸锭硅片的自动上料、下料,且能够对多晶硅铸锭硅片进行旋转式化学药剂超声波清洗,相比传统物理静置清洗清洗时间加快,提升了多晶硅铸锭硅片的超声波清洗效果。
  • 一种多晶铸锭硅片清洗设备
  • [实用新型]一种硅片清洗热量回收装置-CN202022684052.9有效
  • 黎彬 - 句容协鑫光伏科技有限公司
  • 2020-11-19 - 2021-08-20 - F28D7/08
  • 本实用新型公开了一种硅片清洗热量回收装置,包括新液池,所述新液池的出水口通过管道与换热箱内的换热管一端连接,所述换热箱内的换热管另一端通过管道与板式换热器的冷端进口连接,所述板式换热器的冷端出口通过管道与硅片清洗的注入口连接,所述硅片清洗的排放口通过管道与板式换热器的热端进口连接,所述板式换热器的热端出口通过管道与换热箱的进水口连接,所述换热箱的出水口通过管道与废液池连接。本实用新型将排放的废液与进入的新液热量交换,提升进入硅片清洗的新液温度,达到降低加热的过程的用电,减少电耗。
  • 一种硅片清洗热量回收装置
  • [发明专利]一种硅片清洗用机械手-CN202211003151.3有效
  • 吴昆;张春雷;贾泓超;孙文兵 - 浙江艾科半导体设备有限公司
  • 2022-08-20 - 2023-08-15 - B08B3/02
  • 本发明公开了硅片清洗技术领域的一种硅片清洗用机械手一种硅片清洗用机械手,包括机械手本体,所述机械手本体底部安装有清洗框,所述清洗框为C字形,所述清洗框内设置有限位架,所述限位架上转动连接有两个呈对称布置的弧形夹杆;所述弧形夹杆的转动轴上套装有用于其复位的扭簧;所述弧形夹杆的侧边均设置有夹持组件,两个所述夹持组件呈圆周对称布置,所述清洗框上还设置有驱动组件,所述驱动组件用于驱动限位架夹紧硅片后带动限位架和硅片移动;本发明可以使硅片清洗槽进行不规则移动加快硅片清洗,还可以使硅片清洗得更加的彻底,且本发明可以根据实际需求来设计限位架的个数,可以批量清洗硅片,可以大大提高硅片清洗的效率。
  • 一种硅片清洗机械手
  • [发明专利]一种降低硅片表面金属的清洗工艺-CN202111329480.2在审
  • 张雪;张超仁;曹锦伟;王彦君;孙晨光 - 中环领先半导体材料有限公司
  • 2021-11-10 - 2022-03-25 - H01L21/02
  • 本发明一种降低硅片表面金属的清洗工艺,S1、将抛光硅片运载至最终清洗剂上载处待料;S2、设定最终清洗的药液浓度比;温度设定分别为HF槽温度设定为常温,SC‑1槽温度设定为60℃,SC‑2槽温度设定为55℃;S3、开启最终清洗的臭氧发生装置;S4、将最终清洗的超声调节为:900±6W;S5、将最终清洗慢提拉槽的温度设定为常温;S6、保证最终清洗的FFU设置和排风设置的协调性,将风压方向调整为由机体向外排除的状态,保证清洗的内部环境;S7、工艺调节完毕,再次对设备进行点检,保证无异常后开始加工;S8、清洗完毕后,出厂片盒装载,用干车拉载产品至ICP‑MS金属测试仪范围内,等待金属检验。本发明具备降低硅片表面金属离子和便于清洗的优点。
  • 一种降低硅片表面金属清洗工艺
  • [发明专利]一种超声波硅片清洗-CN202211001695.6有效
  • 刘温志;沈飞;许程超;黄杰 - 浙江艾科半导体设备有限公司
  • 2022-08-20 - 2023-06-02 - B08B3/12
  • 本发明公开了硅片清洗技术领域的一种超声波硅片清洗,包括清洗箱,所述清洗箱内部设置有两个U型支撑架,两个所述U型支撑架之间设置有用于调节两个U型支撑架之间距离的调节机构,两个所述U型支撑架顶部均开设有呈线性阵列分布的放置槽;本发明通过在每次对硅片清洗时,利用两个U型支撑架、限位机构和交替顶起机构,在超声波清洗的过程中,交替若干硅片的支撑、稳固的位置,避免硅片某个区域始终被阻挡无法被清洗的现象,并且避免对硅片进行夹持,仅利用限位方式保持硅片的稳定和分散,避免对硅片造成损伤,从而对硅片进行更为彻底的清洗
  • 一种超声波硅片清洗
  • [发明专利]一种单晶硅片清洗清洗单晶硅片的方法-CN202210379124.X在审
  • 缪云 - 缪云
  • 2022-04-12 - 2022-07-26 - H01L21/67
  • 本发明提供一种单晶硅片清洗清洗单晶硅片的方法,所述清洗包括清洗篮放置槽,于其下部设置有下部激光发射器、下部激光接收器以及均匀间隔布置的若干个下部喷淋头,所述机体顶部设置有上部激光发射器、上部激光接收器以及均匀间隔布置的若干个上部喷淋头本发明通过分别控制优化单晶硅片清洗输出的控制温度以及喷淋压力,当二者同时最优时,停止喷淋增压和升温,以该温度和喷淋压力进行单晶硅片清洗,可以使单晶硅片清洗后的清洗洁净度和平整度达到最优。
  • 一种单晶硅清洗方法
  • [发明专利]一种半导体硅片清洗方法及清洗设备-CN202310962869.3有效
  • 阙进林;李永祥 - 苏州亚信华电子科技有限公司
  • 2023-08-02 - 2023-10-13 - B08B3/12
  • 本发明公开了一种半导体硅片清洗方法及清洗设备,涉及半导体硅片清洗技术领域,一种半导体硅片清洗方法包括以下步骤:S1:定位控制,将半导体硅片放入清洗中限位固定,使其保持固竖直状态;S2:水洗,通过清洗上的喷淋结构,将清洗液喷射在半导体硅片上初步清洗;S3:超声波清洗,打开超声波震荡发生器,产生超声波,超声波对半导体硅片表面进行清洗,通过半导体硅片向前移动且自身转动,半导体硅片在移动至硬质塑板上的柔性清洁块时,柔性清洁块会对与其接触的半导体硅片侧壁进行清理,以擦去半导体硅片上表面被软化的污染,从而增加半导体硅片清洗效果,且能提高半导体硅片清洗效率。
  • 一种半导体硅片清洗方法设备
  • [发明专利]一种硅片全自动插片清洗装置及方法-CN201711132687.4有效
  • 付家云;胡小海;赵军;李书森;胡瑾;曾霞 - 四川永祥硅材料有限公司
  • 2017-11-15 - 2020-07-17 - H01L21/67
  • 本发明公开了一种硅片全自动插片清洗装置及方法,该装置包括依次放置相互连接固定在一起的插片清洗、烘干、分选机,分选机的出料口设置有承载盒回流线从分选机出料口返回至插片的空承载盒运送装置,插片完成分片、插篮任务后将插满硅片的承载盒经满载承载盒运送装置输送至清洗清洗通过机械手将数组承载盒放入清洗槽内完成清洗作业,之后经烘干、分选,空承载盒经承载盒回流线返回插片进行插片前准备。本发明通过插片、上料、清洗进行自动化改进,提高了硅片插片清洗全过程的自动化水平,达到了节省人力、提高效率的目的。
  • 一种硅片全自动清洗装置方法
  • [实用新型]防滴溅装置-CN202020646595.9有效
  • 黄景山;裴雷洪;张弢 - 上海华力集成电路制造有限公司
  • 2020-04-26 - 2021-02-02 - H01L21/67
  • 本实用新型公开了一种防滴溅装置,其用于半导体生产制造工艺的硅片清洗台,包括:盘体固定在硅片清洗台制程机器人机械手的正下方,其用于承接硅片上滴落的清洗液;漏孔形成在盘体上,其用于将盘体承接的清洗液导出;漏管其第一端连接漏孔,其漏管放置在硅片清洗台制程机器人的坦克链中随硅片清洗台制程机器人一起移动,其第二端连接硅片清洗台的清洗液收集槽。本实用新型通过在硅片清洗台制程机器人机械手的下方设置盘体,将硅片上残留的清洗液收集,能避免清洗液滴溅到硅片清洗台制程机器人上造成对机器人的腐蚀,也避免了滴溅腐蚀传送区域零部件,避免了生产线上可能产生的污染
  • 防滴溅装置

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top