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[发明专利]一种基于伯努利原理技术的单晶硅片生产用喷洗式清洗机-CN202210958969.4有效
发明人：刘斌;赵天翔 -专利权人：智程半导体设备科技（昆山）有限公司
申请日： 2022-08-11 - 公布日： 2022-11-04 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于伯努利原理技术的单晶硅片生产用喷洗式清洗机，包括工作台，所述工作台的顶部轴心处固定安装有转动机构，且所述转动机构的底部通过回收管相连通有叠片过滤器。本发明实现了硅片的清洗和上、下料工作完全实现自动化、无人化连续清洗工作，不仅避免清洗后的硅片因下料工作而再次受到污染，还极大地提升了硅片清洗效率，且清洗液可循环使用，降低硅片清洗成本的目的，同时，使得清洗液产生不稳定涡流并配合伯努利原理形成大量微小气泡，降低喷射出的清洗液整体的密度，清洗液中微小的气泡在撞击到单晶硅片上后，立即破裂并造成冲击，可以进一步冲刷硅片表面上所附着的微尘，提升了硅片表面杂质的清洗效率。
一种基于伯努利原理技术单晶硅生产用喷洗式清洗

[实用新型]一种硅片清洗系统-CN201120328021.8有效
发明人：潘雪祥 -专利权人：湖州金科光伏科技有限公司
申请日： 2011-09-02 - 公布日： 2012-05-23 - 主分类号： B08B3/00 文献下载
摘要：一种硅片清洗系统，包括供水装置，输入端与该供水装置相连通、用于提供纯水的纯水装置，输入端与纯水装置的输出端相连通、使用并消耗纯水的清洗机，以及输入端与供水装置直接相连的预冲洗机，所述污水处理系统还设置有输入端与纯水装置和清洗机的输出端相连通、用于存储和过滤的主储水槽，该主储水槽的输出端与所述预冲洗机的输入端相连通。本实用新型预冲洗机采用制纯水产生的RO水和清洗机产生的清洗废水组成的混合水作为主要水源，大大节约了水资源；且混合水携带有大量清洗机清洗过程中产生的热量，不需要预先进行加热，大大节约了加热需要的能量。
一种硅片清洗系统

[实用新型]一种新型多晶硅片清洗机-CN201520925971.7有效
发明人：郭长明;王潇;赵海洋;张立;许春杰;谢保卫 -专利权人：江苏润丽光能科技发展有限公司
申请日： 2015-11-19 - 公布日： 2016-05-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种新型多晶硅片清洗机，包括清洗仓、沥水仓和干燥仓，清洗仓内中间横向设置轨道一，所述轨道一两侧设置喷雾喷头，喷雾喷头之间设置超声波发射器，沥水仓内设置轨道二，沥水仓内左侧上方设置干燥空气入口，干燥仓与沥水仓尺寸相同，干燥仓左侧下方设置干燥空气入口二，干燥仓与沥水仓中间设置挡板，所述挡板在轨道二通过处开有通道，本实用新型所述的新型多晶硅片清洗机，通过轨道一和轨道二的运作，将码放整齐的多晶硅片在清洗仓内清洗完成运送至沥水仓
一种新型多晶硅片清洗

[发明专利]一种金刚线切片厂区废水的回收利用方法及其应用-CN201910447482.8有效
发明人：王珊珊;熊震;李飞龙;郝东东;柴权 -专利权人：苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;阿特斯光伏电力（洛阳）有限公司;阿特斯阳光电力集团股份有限公司
申请日： 2019-05-27 - 公布日： 2021-08-06 - 主分类号： B24B27/06 文献下载
摘要：本发明涉及一种金刚线切片厂区废水的回收利用方法及其应用，所述回收利用方法包括：将硅片线切工序中的切割用废水进行补充置换，并将置换出来的切割用废水用于硅片清洗机预清洗槽对硅片进行预清洗。本发明通过对水资源的合理配置优化，在实现水资源节约的同时，也降低了硅片污片率、插片损耗率，实现了硅片质量的提升。
一种金刚切片厂区废水回收利用方法及其应用

[实用新型]一种硅片清洗插片辅助板-CN201520730280.1有效
发明人：李小刚;李斌全;席康成;李达志;张鑫;陈新军;谈继岗 -专利权人：无锡隆基硅材料有限公司
申请日： 2015-09-18 - 公布日： 2016-01-13 - 主分类号： B08B13/00 文献下载
摘要：本实用新型公布了一种硅片清洗插片辅助板，其特征在于：其包括分别设置在硅片清洗花篮两侧的两块导向板和设置在硅片清洗花篮底部的缓冲垫；所述导向板内壁设置有与硅片清洗花篮定位销柱齿宽相适应的导向槽；所述缓冲垫表面具有软质缓冲层同时有效杜绝了错槽问题，且效率提升2倍以上；4人插片改善后2人插片即可满足清洗机产能需求；硅片的品质也得到了改善，崩边率降低4%。
一种硅片清洗辅助

[发明专利]一种自清洁式硅片翻转机构-CN201810021316.7在审
发明人：李世山;阳军;吴会旭;李钊 -专利权人：苏州聚晶科技有限公司
申请日： 2018-01-10 - 公布日： 2018-05-29 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明公开了一种自清洁式硅片翻转机构，包括底座、固定座、气缸、滑动板、支座、伺服电机、第一齿轮、转轴、第二齿轮、过渡板、夹爪气缸、自清洗机构，气缸能推动与滑动板固连的支座前移，当滑动板触发第一接近开关时，经进气管向分流箱内泵入压缩空气，压缩空气经分流孔吹出，两件自清洗机构相互清洗垫板上的灰尘，随后，夹爪气缸带动两自清洗机构合拢，从而将硅片夹紧，随后，气缸复位，当滑动板触发第二接近开关后，伺服电机通过第一齿轮带动转轴转动180°，从而带动夹持有硅片的夹爪气缸翻转180°。该装置结构简单，能对硅片自动翻转，而且翻转时先自动清洗夹持硅片的垫板，防止由于垫板不干净产生的二次污染。
滑动板自清洗机构夹爪气缸硅片垫板气缸硅片翻转接近开关伺服电机压缩空气自清洁式翻转齿轮触发齿轮带动转轴合拢二次污染装置结构自动翻转自动清洗分流孔固定座硅片夹过渡板进气管复位泵入吹出底座固连夹持前移转轴转动清洗分流

[实用新型]一种自清洁式硅片翻转机构-CN201820036701.4有效
发明人：李世山;阳军;吴会旭;李钊 -专利权人：苏州聚晶科技有限公司
申请日： 2018-01-10 - 公布日： 2018-08-31 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种自清洁式硅片翻转机构，包括底座、固定座、气缸、滑动板、支座、伺服电机、第一齿轮、转轴、第二齿轮、过渡板、夹爪气缸、自清洗机构，气缸能推动与滑动板固连的支座前移，当滑动板触发第一接近开关时，经进气管向分流箱内泵入压缩空气，压缩空气经分流孔吹出，两件自清洗机构相互清洗垫板上的灰尘，随后，夹爪气缸带动两自清洗机构合拢，从而将硅片夹紧，随后，气缸复位，当滑动板触发第二接近开关后，伺服电机通过第一齿轮带动转轴转动180°，从而带动夹持有硅片的夹爪气缸翻转180°。该装置结构简单，能对硅片自动翻转，而且翻转时先自动清洗夹持硅片的垫板，防止由于垫板不干净产生的二次污染。
滑动板自清洗机构夹爪气缸硅片垫板气缸硅片翻转接近开关伺服电机压缩空气自清洁式翻转齿轮触发齿轮带动转轴本实用新型合拢二次污染装置结构自动翻转自动清洗分流孔固定座硅片夹过渡板进气管复位泵入吹出底座固连夹持前移转轴转动清洗分流

[发明专利]集合式干法制绒装置及生产线-CN201710204649.9有效
发明人：上官泉元;谭兴波;杨虎;李妙 -专利权人：江西比太科技有限公司
申请日： 2017-03-30 - 公布日： 2019-07-19 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本发明提供了一种集合式干法制绒装置，包括前清洗机构、后清洗机构、自动化上下料机构和RIE干法制绒机；前清洗机构与自动化上下料机构的进料端连接；后清洗机构与自动化上下料机构的出料端连接；RIE干法制绒机与自动化上下料机构连接本发明将前清洗，干法制绒，后清洗整合到一台设备上，中间用自动化硅片上下料和传输，实现自动化，降低生产成本。在此基础上，本发明还提供了一种采用该集合式干法制绒装置的生产线。
集合法制装置生产线

[发明专利]一种硅片抛光用暂存放置系统-CN202011404818.1在审
发明人：袁祥龙;刘园;武卫;刘建伟;由佰玲;孙晨光;王彦君;常雪岩;裴坤羽;祝斌;刘姣龙;张宏杰;谢艳;杨春雪;刘秒;吕莹;徐荣清 -专利权人：天津中环领先材料技术有限公司;中环领先半导体材料有限公司
申请日： 2020-12-05 - 公布日： 2021-02-26 - 主分类号： B24B37/34 文献下载
摘要：一种硅片抛光用暂存放置系统，包括用于放置待抛光硅片的上载暂存机构；用于放置抛光后硅片的下载暂存机构；以及用于驱动上载暂存机构和下载暂存机构旋转，并向置于上载暂存机构或下载暂存机构上硅片的非抛光面进行喷淋的驱动清洗机构；其中，上载暂存机构使硅片的待抛光面被溶液浸润；下载暂存机构使硅片的抛光面被溶液保护且被清洗；上载暂存机构和下载暂存机构绕设于驱动清洗机构设置。本发明同步对多组上载或下载硅片进行稳定暂存放置，不仅使上载硅片的待抛光面完全浸润，亦同时对上载硅片的非抛光面进行保护；而且使下载硅片的抛光面完全处于水液环境中与空气隔绝，也同时对下载硅片的非抛光面上的抛光液和杂质进行清洗去除
一种硅片抛光暂存放置系统

[实用新型]一种硅片抛光用暂存放置系统-CN202022883129.5有效
发明人：袁祥龙;刘园;武卫;刘建伟;由佰玲;孙晨光;王彦君;常雪岩;裴坤羽;祝斌;刘姣龙;张宏杰;谢艳;杨春雪;刘秒;吕莹;徐荣清 -专利权人：天津中环领先材料技术有限公司;中环领先半导体材料有限公司
申请日： 2020-12-05 - 公布日： 2021-08-06 - 主分类号： B24B37/34 文献下载
摘要：一种硅片抛光用暂存放置系统，包括用于放置待抛光硅片的上载暂存机构；用于放置抛光后硅片的下载暂存机构；以及用于驱动上载暂存机构和下载暂存机构旋转，并向置于上载暂存机构或下载暂存机构上硅片的非抛光面进行喷淋的驱动清洗机构；其中，上载暂存机构使硅片的待抛光面被溶液浸润；下载暂存机构使硅片的抛光面被溶液保护且被清洗；上载暂存机构和下载暂存机构绕设于驱动清洗机构设置。本实用新型同步对多组上载或下载硅片进行稳定暂存放置，不仅使上载硅片的待抛光面完全浸润，亦同时对上载硅片的非抛光面进行保护；而且使下载硅片的抛光面完全处于水液环境中与空气隔绝，也同时对下载硅片的非抛光面上的抛光液和杂质进行清洗去除
一种硅片抛光暂存放置系统

[发明专利]一种太阳能电池清洗的方法-CN201910155984.3在审
发明人：谈锦彪;朱军;从海泉 -专利权人：东方环晟光伏（江苏）有限公司
申请日： 2019-03-01 - 公布日： 2019-07-26 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种太阳能电池清洗的方法，用于制绒预清洗槽，包括以下步骤：S1：将硅片在清洗液中于75‑85℃的温度下预清洗4‑12分钟，清洗过程中通入臭氧；S2：将清洗后的硅片再放入盛有去离子水中于75‑85℃的温度下洗5‑10分钟，漂洗一遍；S3：将漂洗后的硅片快速风干。该方法无需超声波清洗机，可以降低化学品用量，缩短清洗时间，提高产线产能，综合降低制造成本。
清洗硅片太阳能电池漂洗超声波清洗机化学品用量快速风干清洗过程预清洗槽制造成本清洗液预清洗产能产线放入水中制绒臭氧离子

[发明专利]一种全自动硅片清洗装置-CN201910652983.X在审
发明人：侯继伟 -专利权人：浙江科技学院
申请日： 2019-07-19 - 公布日： 2019-10-15 - 主分类号： B08B1/00 文献下载
摘要：本发明公开一种全自动硅片清洗装置，包括上料机构、传送带、除静电通道、辅助下料机构、超声波清洗机构、烘干通道。本发明结构新颖，造价成本低，自动化程度高，硅片依次经过上料机构、传送带、除静电通道、辅助下料机构、超声波清洗机构、烘干通道，实现了硅片自动上料、自动化清洗、自动化烘干以及下料，操作简单方便，大大地缩短了生产时间
超声波清洗机构硅片清洗装置传送带烘干通道上料机构下料机构除静电硅片自动化自动化清洗工作效率造价成本自动上料烘干下料生产

[发明专利]一种清洗机用无底篮-CN201811277389.9在审
发明人：魏泽武;周炎;王海庆 -专利权人：镇江环太硅科技有限公司
申请日： 2018-10-30 - 公布日： 2019-02-22 - 主分类号： B08B3/12 文献下载
摘要：本发明涉及一种清洗机用无底篮，属于单晶硅加工技术领域。该清洗机用无底篮，包括长方体状的支撑框架、支撑底架、和横杆，支撑底架水平设置在支撑框架的中下部，横杆水平设置在支撑框架上端与支撑底架之间，横杆至少为四根；支撑底架包括长方形底框和底杆，底杆均匀间隔的平行设置在长方形底框上；支撑底架中含有C，Cr，Si，Zn，Fe等原料；再通过熔炼、连铸连轧、热处理、喷涂耐腐蚀涂层等工艺，最终与支撑框架组装，制得清洗机用无底篮。本发明的清洗机用无底篮由于支撑框架底部没有网格状金属丝的阻挡，超声波直接对支撑底架上的硅片进行清洗，增强了超声波清洗机的超声效果，并且增强了清洗能力和效率，减少了清洗成本。
支撑底架支撑框架清洗机横杆底杆底框清洗超声波清洗机单晶硅加工耐腐蚀涂层网格状金属长方体状横杆水平均匀间隔连铸连轧平行设置清洗能力水平设置热处理超声波熔炼上端超声硅片喷涂组装阻挡

[实用新型]一种新型硅片清洗机烘干结构-CN201820800199.X有效
发明人：刘锋;袁黎平;王宇 -专利权人：无锡隆基硅材料有限公司
申请日： 2018-05-28 - 公布日： 2019-01-08 - 主分类号： F26B21/00 文献下载
摘要：一种新型硅片清洗机烘干结构，包括槽体、置于槽体上部的上盖、风机，所述的槽体上部边缘处设置有进风口，所述的上盖和槽体进风口对应的位置也设置有进风口；所述的风机设置于槽体底部，与进风口连接并通过进风口提供热风至槽体内本实用新型提供的硅片清洗机烘干结构可有效提高提高产品的良率，并提高烘干效率。
进风口槽体硅片清洗机烘干结构槽体上部出风口风机热风上盖本实用新型槽体内部风机连接风机设置烘干效率边缘处回风机良率体内流通

[发明专利]硅片清洗系统-CN201910578183.8在审
发明人：但汉满 -专利权人：阜宁协鑫光伏科技有限公司
申请日： 2019-06-28 - 公布日： 2019-08-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种硅片清洗系统，其包括：插片工位；清洗工位；翻转机构，用以将所述插片工位输出的装有硅片的花篮翻转至水平状态；第一旋转机构，用以驱使翻转至水平状态的花篮在水平方向旋转预设角度；以及传送轨道，用以将所述第一旋转机构旋转后的花篮传送至所述清洗工位上述硅片清洗系统，在插片工位和清洗工位之间设置传送轨道，从而将插片工位输出的装有硅片的花篮通过翻转机构翻转和第一旋转机构旋转后直接通过传送轨道运输至清洗工位。在插片工位和清洗工位之间仅设置了一个传送轨道，避免了传统的插片机的插片输出轨道与清洗机的上料结构不一致、插片机与上料机的对接结构复杂的问题，即简化了插片工位与清洗工位之间的对接方式。
插片清洗工位工位传送轨道硅片清洗系统旋转机构翻转花篮翻转机构水平状态插片机硅片水平方向旋转对接方式对接结构上料结构输出轨道输出不一致传统的清洗机上料机预设传送运输