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- [发明专利]一种液体硅肥及其生产工艺-CN200810238522.X有效
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于春开;步陟峰;宫玉东
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于春开
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2008-12-16
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2009-05-27
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C05G1/00
- 本发明涉及一种液体硅肥及其生产工艺,属于化肥技术领域。一种液体硅肥,特征:原料为可溶性硅、尿素、微量元素螯合物、黄腐酸,建立平衡复合的液态肥。工艺:1.固体硅酸钾溶解;2.微量元素的硫酸盐溶于水,加EDTA得EDTA微量元素螯合盐;冷却过滤后,加入硼酸、钼酸铵、尿素、黄腐酸;3.混配螯合即得液体硅肥。本发明:(1)利用水玻璃与黄腐酸螯合,可对其碱性起到很好的缓冲作用,并且可有效提高水玻璃中SiO33-的稳定性;(2)微量元素用EDTA、黄腐酸二次螯合,成为螯合态金属离子,避免了硅酸根与金属离子反应形成难溶于水的硅酸盐,影响硅素利用率。本发明以液体硅酸钾与大量元素、微量元素、有机物建立平衡的复合体系,可有效提高作物对硅素及各种营养元素的利用率。
- 一种液体及其生产工艺
- [发明专利]半导体结构、半导体结构的制备方法及装置-CN202211475847.6在审
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余鹏祥
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长鑫存储技术有限公司
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2022-11-23
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2023-03-21
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H01L21/02
- 本申请提供一种半导体结构、半导体结构的制备方法及装置,涉及半导体技术领域,用于解决半导体结构的制备成本高的技术问题,该制备方法包括提供衬底,衬底中形成有沟槽;向衬底的表面提供硅氧聚合物溶液,并此案有旋涂电介质工艺将硅氧聚合物溶液旋涂形成硅氧聚合物层,硅氧聚合物溶液中含有掺杂元素,掺杂元素包括硼元素和磷元素;对硅氧聚合物层进行热处理,其中,热处理的温度阈值为120℃~150℃。对硅氧聚合物层照射预设时长的超声波,以形成含有氢氧化硅键的多孔硅层;向多孔硅层提供氧化气体,氧化气体与多孔硅层中的氢氧化硅键反应,以形成硼磷硅玻璃膜;其中,硼磷硅玻璃膜填充沟槽。
- 半导体结构制备方法装置
- [发明专利]MOSFET的制作方法及MOSFET-CN202010832086.X在审
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方明旭;陈瑜;陈华伦
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华虹半导体(无锡)有限公司
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2020-08-18
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2020-12-08
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H01L21/336
- 本申请公开了一种MOSFET的制作方法及MOSFET,该方法包括:在衬底上形成栅氧层,衬底包括硅,栅氧层包括二氧化硅;在栅氧层上沉积形成多晶硅层;通过干法刻蚀去除目标区域的多晶硅层和栅氧层,剩余的栅氧层形成MOSFET的栅氧,剩余的多晶硅层形成MOSFET的栅极;对栅极两侧的衬底进行LDD注入,分别形成第一LDD区和第二LDD区;进行SD注入,在栅极两侧的衬底中分别形成源极和漏极;其中,在栅氧层上沉积形成多晶硅层之后的任一步骤之前,进行氟离子注入使氟元素扩散至栅氧和衬底的界面处。本申请通过在形成多晶硅层之后进行氟离子注入使氟元素扩散至栅极和衬底的界面,从而使氟元素取代界面的部分氢元素,使氟元素取代界面的部分氢元素,减弱了NBTI效应或HCI效应。
- mosfet制作方法
- [发明专利]一种硅片母合金的制备方法-CN201410181197.3有效
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吕学谦;银波;范协诚;郭增昌;刘乐通;孟华
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新特能源股份有限公司
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2014-04-30
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2018-02-23
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C30B31/10
- 本发明公开了一种硅片母合金的制备方法,该方法为将氯硅烷与第IIIA族元素的三氯化物、第IIIA族元素的氢化物、第VA族元素的三氯化物、第VA族元素氢化物中的一种在还原炉或外延生长炉内,通过氢气进行还原反应制得硅片母合金,其中,第IIIA族元素为硼或铝,第VA族元素为磷或砷。上述方法中的整个反应系统为密闭的系统,且反应原料不需要使用单质硅,避免了传统技术中需要将单质硅加热至熔融,并避免了熔融的硅与石英坩埚大的接触面积,避免了锑在硅里的固溶度较低,且避免了反应原料与空气的接触由于原料未使用单质硅,所以避免了多晶硅生长、拆炉、破碎、包装、转运、装填过程中引入杂质到硅片母合金中。
- 一种硅片合金制备方法
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