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- [发明专利]用作治疗肿瘤性或自身免疫性疾病的前药的呋咱并苯并咪唑-CN201080033104.2有效
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J·波尔曼;F·巴赫曼
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巴斯利尔药物股份公司
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2010-07-26
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2012-05-23
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C07D413/04
- 式(II)化合物或其可药用盐,其中(a)代表二价苯残基,其是未取代的或被一个或两个其它的独立地选自下列的取代基所取代:低级烷基、卤代-低级烷基、羟基-低级烷基、低级烷氧基-低级烷基、酰氧基-低级烷基、苯基、羟基、低级烷氧基、羟基-低级烷氧基、低级烷氧基-低级烷氧基、苯基-低级烷氧基、低级烷基羰基氧基、氨基、单(低级烷基)氨基、二(低级烷基)氨基、单(低级链烯基)氨基、二(低级链烯基)氨基、低级烷氧基羰基氨基、低级烷基羰基氨基、取代的氨基,其中在氮上的两个取代基与氮一起形成杂环基、低级烷基羰基、羧基、低级烷氧基羰基、氰基、卤素和硝基;或其中两个相邻的取代基可以是亚甲基二氧基;或二价吡啶残基(Z=N),其是未取代的或另外被下列基团取代:低级烷基、低级烷氧基、低级烷氧基-低级烷氧基、任选地被一个或两个选自低级烷基、低级链烯基和烷基羰基的取代基所取代的氨基、卤代-低级烷基、低级烷氧基-低级烷基或卤素;R1代表氢、低级烷基羰基
- 用作治疗肿瘤自身免疫性疾病苯并咪唑
- [发明专利]磷酸化-Akt作为药物响应的生物标志物的用途-CN201280015386.2有效
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F·巴赫曼;H·A·雷恩
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巴斯利尔药物股份公司
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2012-03-28
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2014-01-08
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C12Q1/48
- -低级烷基、酰氧基-低级烷基、苯基、羟基、低级烷氧基、羟基-低级烷氧基、低级烷氧基-低级烷氧基、苯基-低级烷氧基、低级烷基羰基氧基、氨基、单烷基氨基、二烷基氨基、低级烷氧基羰基氨基、低级烷基羰基氨基、取代的氨基(其中氮上的两个取代基与氮一起形成杂环基)、低级烷基羰基、羧基、低级烷氧基羰基、氰基、卤素和硝基;并且其中两个相邻取代基为亚甲基二氧基;其中吡啶基任选被低级烷氧基、氨基或卤素取代;X代表基团C=Y,其中;R4和R5彼此独立代表氢、低级烷基或低级烷氧基;或者R4和R5一起代表亚甲基二氧基;及其可药用的衍生物;或者其中,R代表苯基或吡啶基,其中苯基任选被1或2个独立选自下列的取代基所取代:烷基、卤代-低级烷基、羟基-低级烷基、低级烷氧基-低级烷基、酰氧基-低级烷基、苯基、羟基、低级烷氧基、羟基-低级烷氧基、低级烷氧基-低级烷氧基、苯基-低级烷氧基、低级烷基羰基氧基、氨基、单烷基氨基、二烷基氨基、低级烷氧基羰基氨基、低级烷基羰基氨基、取代的氨基(其中氮上的两个取代基与氮一起形成杂环基)、低级烷基羰基、羧基、低级烷氧基羰基
- 磷酸化akt作为药物响应生物标志用途
- [发明专利]二芳基烯炔-CN00815197.0无效
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伊恩·埃格尔;珍妮弗·弗雷;梅思文·艾萨克
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NPS埃勒利科斯公司
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2000-11-01
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2002-12-25
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C07C229/00
- 本发明主要提供化学式(I)的化合物及其盐、溶剂化物或水合物,其中,Ar1和Ar2独立地选自芳基,该芳基选择性地由最多达五个取代基取代,这些取代基独立地选自由烷基,烷氧基,环烷基,环烷基氧基,杂环烷基,杂环烷基氧基,烷酰基,烷硫基,芳烷基,芳烷基氧基,芳氧基烷基,芳氧基烷氧基,环烷基取代的烷基,环烷基氧基取代的烷基,环烷基取代的烷氧基,环烷基氧基取代的烷氧基,杂环烷基取代的烷基,杂环烷基氧基取代的烷基,杂环烷基取代的烷氧基,杂环烷基氧基取代的烷氧基,芳硫基,芳烷基硫基,芳硫基烷基,芳烷基烷硫基,卤素,NO2,CF3,CN,OH,亚烷二氧基,SO2NRR′,NRR′,CO2R(这里R和R′独立地选自H和烷基组成的组)组成的组
- 二芳基烯炔
- [发明专利]嘧啶腙衍生物及其制备方法与应用-CN201910374680.6有效
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胡艾希;陈爱羽
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湖南大学
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2019-05-07
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2022-09-13
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C07D239/42
- imgContent="drawing" imgFormat="JPEG" orientation="portrait" inline="no" />其中,X选自:氟、氯、溴、羟基、二羟基、2‑羟基‑3‑甲氧基、2‑羟基‑4‑甲氧基、2‑羟基‑5‑C1~C2烷氧基、2‑羟基‑6‑C1~C2烷氧基、3‑羟基‑2‑C1~C2烷氧基、3‑羟基‑4‑C1~C2烷氧基、3‑羟基‑5‑甲C1~C2烷氧基、3‑羟基‑6‑C1~C2烷氧基、4‑羟基‑2‑C1~C2烷氧基、4‑羟基‑3‑C1~C2烷氧基、4‑羟基‑3,5‑二C1~C2烷氧基、三羟基或4‑羟基‑3,5‑二甲基;Y选自:氟、氯、溴、乙酰氨基、羟基或甲氧基。
- 嘧啶衍生物及其制备方法应用
- [发明专利]烷氧基硅烷连续雾化中和提纯方法及系统-CN201210092025.X有效
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杨春晖;张磊;李季
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哈尔滨工业大学
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2012-03-31
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2012-08-15
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C07F7/02
- 烷氧基硅烷连续雾化中和提纯方法及系统,它属于烷氧基硅烷中和提纯方法及系统。本发明解决传统酯化法合成烷氧基硅烷后酸值高、中和剂定量繁琐、中和剂添加易过量、中和深度差及烷氧基硅烷中氮气含量高等技术问题。方法:将含有HCl的烷氧基硅烷用氨气雾化,再用高压氢气雾化,然后经有机碱中和后,再依次经氯化钙和强碱型离子树脂混合层、及波纹板规整填料层处理,然后冷凝收集。酸性烷氧基硅烷进料阀分别与酸性烷氧基硅烷进料管、高压氨气雾化剂进料阀和酸性烷氧基硅烷雾化喷嘴连接,高压氨气雾化剂进料阀的另一端与液氨气化夹套的连通。烷氧基硅烷氯化氢的含量在10ppm以下,氮气含量为10ppm以下,产品纯度可达99%。
- 烷氧基硅烷连续雾化中和提纯方法系统
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