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[发明专利]高反射元件在连续激光辐照下反射率和吸收实时测量方法-CN201910716817.1在审
发明人：崔浩;樊峻棋;张耀平 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2019-08-05 - 公布日： 2019-11-05 - 主分类号： G01M11/04 文献下载
摘要：本发明公开了高反射元件在连续激光辐照下反射率和吸收实时测量方法，采用热透镜测量技术监测高反射光学元件在激光辐照过程中吸收损耗的实时变化，采用光腔衰荡技术同时监测高反射光学元件在激光辐照过程中反射率的实时变化本发明可同时测量高反射光学元件的反射率和吸收，可监测高反射光学元件在激光辐照过程中反射率和吸收的动态变化过程，有助于评估光学元件的性能稳定性和使用寿命。
反射率高反射光学元件激光辐照过程连续激光辐照实时变化实时测量吸收高反射测量动态变化过程光腔衰荡技术性能稳定性光学元件技术监测使用寿命吸收损耗可监测热透镜监测评估

[发明专利]激光诱导薄膜实现共振自组织纳米结构的方法-CN202310444090.2在审
发明人：朱晓龙;元双秀;李可欣 -专利权人：华东师范大学
申请日： 2023-04-24 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： C23C14/58 文献下载
摘要：本发明公开了一种激光诱导薄膜实现共振自组织纳米结构的方法，包括以下步骤：在衬底上生长一层薄膜，调整所述薄膜厚度满足与激光的中心波长发生法布里‑珀罗共振；在共振条件下，激光脉冲照射该薄膜并诱导其重新排布，通过所述方法实现纳米结构向特定形态收敛的辐照过程，也是由共振所控制的反馈辐照过程，使照射在薄膜上的脉冲数量不需要再精准控制，这不仅让辐照过程变得更为容易，且提供了一种更加可预测的方式产生纳米结构。本发明解决了现有技术问题中额外激光脉冲带来的干扰，为获得可预测的产品提供可靠技术手段。
激光诱导薄膜实现共振组织纳米结构方法

[发明专利]一种雷达头罩激光毁伤效应实时测试方法及装置-CN201711486020.4有效
发明人：张慧媛;严军;胡黎明;武春风;李强;姜永亮;姜正;于虹;王猛 -专利权人：湖北航天技术研究院总体设计所
申请日： 2017-12-30 - 公布日： 2021-11-26 - 主分类号： G01S7/40 文献下载
摘要：本发明公开了一种雷达头罩激光毁伤效应实时测试方法，包括如下步骤：建立激光器系统、雷达头罩靶标和毁伤参数测试系统；所述激光器系统输出不同功率的激光，实现从不同入射方向辐照不同部位的雷达头罩靶标；毁伤参数测试系统记录激光辐照过程中所述雷达头罩靶标表面毁伤形貌变化过程；毁伤参数测试系统产生一定参数的微波信号，在雷达头罩靶标布置波导，进行微波信号的收发；毁伤参数测试系统测试并获得经过雷达头罩靶标传输后的微波信号幅值及相位的变化值；建立激光参数，雷达头罩靶标表面毁伤形貌，微波传输幅值、相位的变化三者的关系，最后得到对激光辐照过程中雷达头罩激光毁伤后微波透过性能的影响数据，是激光毁伤效能评估重要依据。
一种雷达头罩激光毁伤效应实时测试方法装置

[发明专利]激光辐照方法和激光辐照装置-CN200910160531.6有效
发明人：田中幸一郎;山本良明 -专利权人：株式会社半导体能源研究所
申请日： 2005-03-24 - 公布日： 2010-03-24 - 主分类号： H01L21/268 文献下载
摘要：本发明的目的是提供一种激光辐照方法和激光辐照装置，该方法和装置通过阻挡线形光束的低强度部分，用强度更均匀的线形光束来照射某一受辐照表面，同时不会在该受辐照表面上形成因衍射而导致的条纹。在该激光辐照过程中，从激光振荡器101中发出的激光束穿过狭缝102以便阻挡该激光束的低强度部分，镜子103使该激光束的前进方向发生改变，并且凸柱面透镜104将在该狭缝处形成的像投影到受辐照表面106上。
激光辐照方法装置

[发明专利]激光辐照方法和激光辐照装置-CN200580009439.X有效
发明人：田中幸一郎;山本良明 -专利权人：株式会社半导体能源研究所
申请日： 2005-03-24 - 公布日： 2007-03-21 - 主分类号： H01L21/268 文献下载
摘要：本发明的目的是提供一种激光辐照方法和激光辐照装置，该方法和装置通过阻挡线形光束的低强度部分，用强度更均匀的线形光束来照射某一受辐照表面，同时不会在该受辐照表面上形成因衍射而导致的条纹。在该激光辐照过程中，从激光振荡器101中发出的激光束穿过狭缝102以便阻挡该激光束的低强度部分，镜子103使该激光束的前进方向发生改变，并且凸柱面透镜104将在该狭缝处形成的像投影到受辐照表面106上。
激光辐照方法装置

[发明专利]双极工艺电子器件位移损伤与电离总剂量协和效应试验方法-CN202110453294.3有效
发明人：刘岩;陈伟;郭晓强;王晨辉;金晓明;姚志斌;白小燕;李俊霖 -专利权人：西北核技术研究所
申请日： 2021-04-26 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： G01R31/26 文献下载
摘要：为了突显双极工艺电子器件位移损伤与电离总剂量协和效应特点，本发明提供一种双极工艺电子器件位移损伤与电离总剂量协和效应试验方法，首先利用γ射线对双极工艺电子器件进行辐照，辐照过程中应对器件采用变温辐照、恒高温辐照二种方式中的一种，并辐照至需要的电离总剂量水平。然后将辐照过的电子器件利用反应堆中子辐照至规定值，辐照过程中器件不加偏置，各管脚短接。在中子辐照过后，器件表面活化剂量降低至安全阈值后对器件的电学参数进行测试。
工艺电子器件位移损伤电离剂量协和效应试验方法

[发明专利]基于选择性反应在过渡金属硫属化合物基体上制备二维横向异质结的方法-CN202110445652.6在审
发明人：王学雯;刘锴 -专利权人：清华大学
申请日： 2021-04-25 - 公布日： 2021-08-31 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：具体步骤为：利用激光直写辐照过渡金属硫属化合物薄膜，过渡金属硫属化合物薄膜材料被氧化，氧化区和非氧化区构成非氧化区‑氧化区异质结；然后通过气相沉积法样品进行全局加热，由于氧化区富含缺陷具有反应活性，导致反应过程选择性发生在氧化区本发明激光辐照得到的氧化材料，富含缺陷并且具有高活性和选择性，使得在气相沉积过程中，生长反应仅选择性的发生在氧化区，未被激光辐照过的非氧化区保持不变，形成TMD‑TMD’二维横向异质结。
基于选择性反应过渡金属化合物基体制备二维横向异质结方法

[发明专利]一种单真空舱室晶圆质子辐照装置-CN202111620942.6在审
发明人：吕银龙;葛涛;王婉琳;张俊新;冯雨;石玉博;郭如勇;孙玺 -专利权人：国核铀业发展有限责任公司;北京核力同创科技有限公司;无锡市核力创芯科技有限公司
申请日： 2021-12-28 - 公布日： 2023-07-07 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明适用于电力电子器件生产制造领域，提供了一种单真空舱室晶圆质子辐照装置，实现了辐照过程的自动化。晶圆辐照过程始终是在真空状态下进行，减少了束流损失，确保了束流品质，有利于准确控制晶圆的辐照深度，进而实现芯片局域载流子寿命的准确控制；单真空舱晶圆质子辐照装置整体结构为钢制圆筒结构，晶圆辐照过程中，束流始终处于圆筒内，钢制圆筒可以有效屏蔽残余辐射剂量，有利于减少生产人员受到的辐射伤害，特别适合较低能量的晶圆质子辐照；辐照舱内的二维移动平台，具备X/Y双方向匀速移动功能，可以实现晶圆的均匀辐照，提高辐照质量；阵列式格栅架
一种真空舱室质子辐照装置

[发明专利]考虑辐照偏置电压动态变化的CMOS电路总剂量效应仿真方法-CN201510412969.4有效
发明人：丁李利;郭红霞;陈伟;姚志斌;郭晓强;罗尹虹;张凤祁;赵雯 -专利权人：西北核技术研究所
申请日： 2015-07-14 - 公布日： 2017-12-29 - 主分类号： G06F17/50 文献下载
摘要：本发明涉及一种考虑辐照偏置电压动态变化的CMOS电路总剂量效应仿真方法，包括单管损伤模型建立的步骤、对待研究CMOS电路执行瞬态仿真，描述不同辐照偏置电压对氧化层中空穴产额的影响，并建立辐照偏置电压与测试用辐照电压之间的关系的步骤本发明能够考虑到辐照过程中偏置状况动态、多样变化的实际情况，实现了利用单一辐照偏置下实测单管的电学性能退化数据推算出任意辐照偏置下单管，以及辐照过程中处于任意工作模式、由大量辐照过程中偏置情况各异单管所组成集成电路的实际性能退化
考虑辐照偏置电压动态变化 cmos 电路剂量效应仿真方法

[发明专利]激光辐照圆柱壳试验加载装置及实验方法-CN201410050406.0无效
发明人：龙连春;王亭亭;黄尧 -专利权人：北京工业大学
申请日： 2014-02-13 - 公布日： 2014-04-30 - 主分类号： G01N3/08 文献下载
摘要：本发明涉及一种激光辐照圆柱壳试验加载装置及实验方法，其通过在激光辐照圆柱壳试验加载装置弹簧盖板下安装有弹簧，弹簧盖板在承受上压力或弹簧弹力作用下可沿弹簧盖板固定杆上下移动，保持试件在激光辐照过程中始终存在载荷作用，能够完整的进行圆柱壳在激光辐照及机械载荷作用下的坍塌破坏过程；本发明不仅保证压头在加载过程中竖直下压，且始终作用于同一点上不发生移动，从而有效避免因压头倾斜而导致轴压施加不均匀；保证试件在加载过程中中轴线与加载力作用线重合
激光辐照圆柱试验加载装置实验方法

[发明专利]双氧水耦合辐照深度处理印染废水的方法-CN202110307940.5在审
发明人：王建龙;王诗宗 -专利权人：清华大学
申请日： 2021-03-23 - 公布日： 2021-06-29 - 主分类号： C02F9/14 文献下载
摘要：本发明提出一种全新的双氧水耦合辐照深度处理印染废水的方法，在电子束辐照前加入双氧水，然后进行电子束辐照。利用电子束辐照过程中产生的水合电子活化双氧水产生羟基自由基，增加电子束辐照过程中活性粒子的浓度，进而提高电子束辐照的氧化能力。
双氧水耦合辐照深度处理印染废水方法

[发明专利]色心蓝宝石衬底的制备方法-CN200310108224.6无效
发明人：蒋成勇;徐军;周圣明;杨卫桥;周国清;王银珍;彭观良;邹军;刘士良;张俊计;邓佩珍 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2003-10-28 - 公布日： 2004-10-27 - 主分类号： H01L21/18 文献下载
摘要：一种色心蓝宝石衬底的制备方法，包括下列步骤：对已切割并抛光的蓝宝石衬底进行中子辐照，辐照剂量约为10¹⁵－10²⁰neutron/cm²；采用金属有机物气相沉积法(MOCVD法)在已辐照后的蓝宝石衬底上外延生长GaN层；采用248nm的KrF准分子激光对芯片进行划片；采用裂片机进行裂片，然后进行芯片探针测试及芯片分类。本发明的优点是：通过辐照使蓝宝石衬底划片处产生较高浓度的F类色心，增大对激光的吸收，有利于划片时提高划痕质量及划片效率；同时减小划片时激光的热效应对GaN层的光电性能的影响；此外辐照过程可以多个样品同时进行
色心蓝宝石衬底制备方法

[发明专利]制造玻璃外壳的方法-CN200580043563.8无效
发明人： J·F·施罗德 -专利权人：康宁股份有限公司
申请日： 2005-12-12 - 公布日： 2007-11-28 - 主分类号： C03B27/012 文献下载
摘要：然后可使用密封激光器将所述玻璃片密封到基板上。在一个实施方式中，通过以波长约248纳米的光、优选透过掩模对玻璃片进行辐照来增大玻璃片的吸光系数，在玻璃片上形成具有预定形状的辐照过的图案。然后对所述玻璃片进行热处理，将其置于基板上，通过使辐照过的图案暴露于波长约355－532纳米的密封激光，将其密封在基板上，制得玻璃外壳。
制造玻璃外壳方法

[发明专利]一种模拟远场到靶激光参数的装置与方法-CN202210614725.4在审
发明人：张慧媛;方向东;严军;胡黎明;姜正;彭小康;于虹;邱大朋 -专利权人：湖北航天技术研究院总体设计所
申请日： 2022-05-30 - 公布日： 2022-08-12 - 主分类号： G06F30/20 文献下载
摘要：本申请涉及一种模拟远场到靶激光参数的装置与方法，其包括：激光发射系统；光斑调节系统，其用于调节所述激光发射系统发射的激光束的光斑形态和光束尺寸以及用于控制激光束抖动；入射角调节系统，其用于驱使所述光斑调节系统绕激光辐照点作旋转运动，以调节所述光斑调节系统输出激光束到达靶目标打击点的入射角度。本发明可对外场远距离传输靶面光斑尺寸、光斑形貌、激光入射角和抖动状态等到靶激光参数进行模拟，实现外场靶标辐照过程模拟，采集近真实环境下激光毁伤数据，获得毁伤关键数据，可为激光装备指标论证与系统研制提供重要支撑
一种模拟远场到靶激光参数装置方法

[发明专利]一种辐照灭菌条件下维持骨形态发生蛋白-2活性的方法-CN201410583411.8在审
发明人：亓洪昭;杨贤金;卢云峰;李朝阳;李雪;崔振铎;原续波;王思颖;汪亚运 -专利权人：天津大学
申请日： 2014-10-27 - 公布日： 2015-01-28 - 主分类号： A61L2/08 文献下载
摘要：本发明涉及一种利用射线辐照维持BMP-2活性的方法。将BMP-2溶液加入离心管中，用封口膜封好，放入保温瓶中，装满冰，用⁶⁰Co、¹³⁷Cs、¹⁹²Ir源射线辐照，设定剂量为0.01-100kGy；实现对BMP-2的辐照过程。本发明的优点在于有效解决了BMP-2辐照过程中失活问题，推动了负载BMP-2的医疗器械的研究发展，大大提高了其应用前景。
一种辐照灭菌条件下维持形态发生蛋白活性方法

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