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[发明专利]一种激光直写方法和激光直写系统-CN202111637233.9在审
发明人：贾富强;丘国雄;冯涣;陈银榕;李巍伟;叶泽群 -专利权人：南光高科（厦门）激光科技有限公司
申请日： 2021-12-29 - 公布日： 2022-04-15 - 主分类号： B23K26/362 文献下载
摘要：本申请公开了一种激光直写方法和激光直写系统，所述激光直写方法包括步骤：建立模板：通过激光直写软件，将直写材料的加工面上需激光直写加工内容创建在图层上；设置参数：通过激光直写软件，将加工面上的激光直写加工内容进行填充或者像素化，并设置激光参数；上料：将直写材料固定，将加工面朝向激光光束的传输方向；激光直写加工：将激光光束照射在加工面上，将激光光束与直写材料之间产生相对运动，形成激光光束对加工面的激光扫描点，将激光扫描点对加工面进行激光直写加工；能实现在例如证照票签材料上激光直写加工，并实现高质量的加工效果，及实现灰度等级、表面形貌和粗糙度等的精确控制。
一种激光方法系统

[发明专利]激光直写及其仿真的方法、装置-CN202110274061.7在审
发明人：杨尚;叶甜春;韦亚一;张利斌;王云;薛静 -专利权人：广东省大湾区集成电路与系统应用研究院
申请日： 2021-03-15 - 公布日： 2021-06-25 - 主分类号： G03F1/68 文献下载
摘要：本发明涉及一种激光直写仿真的方法、激光直写的方法、激光直写仿真的装置及激光直写的装置，包括：获取待刻蚀材料的激光直写能量分布模型；利用二分法确定各个焦平面的位置；根据各个焦平面的位置和激光直写能量分布模型，得到多束激光束对待刻蚀材料进行激光直写时在待刻蚀材料内产生的能量分布仿真结果；多束激光束对所述待刻蚀材料进行激光直写后在待刻蚀材料上产生预设的立体图案，立体图案的高宽比大于预设值。上述激光直写仿真的方法可以得到利用二分法确定各个焦平面的位置后，可以提高图案化后形成图像的保真度的结果，从而提高了在待刻蚀材料上书写高宽比图像的可行性，使得激光直写可以被用用到更多的交叉学科和领域。
激光及其仿真方法装置

[发明专利]激光直写薄膜和激光直写微纳图形的方法-CN201010215237.3无效
发明人：顿爱欢;魏劲松;干福熹 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2010-06-30 - 公布日： 2010-11-24 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：一种激光直写薄膜和激光直写微纳图形的方法，该激光直写薄膜是利用磁控溅射仪在玻璃基片上依次溅射的第一介质层、金属氧化物层和第二介质层而构成，所述的激光直写微纳图形的方法是采用绿光激光器对在高精度二维移动平台上的激光直写薄膜进行激光直写本发明所制备的激光直写薄膜具有薄膜和基底之间附着力强、参数可控性好、薄膜致密度高、重复性高等优点。采用绿光激光器直写亚微米级图形结构有望用于太阳能电池，液晶显示等领域。
激光薄膜直写微纳图形方法

[发明专利]一种基于光场调控的双路并行超分辨激光直写装置-CN202110388124.1有效
发明人：匡翠方;朱大钊;徐良;丁晨良;刘旭;李海峰 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2021-04-12 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于光场调控的双路并行超分辨激光打印装置，属于超分辨激光微纳加工领域。直写激光器发出的激光依次经过直写路准直器、直写路防漂移系统、直写路能量调控模块、直写路波前调控模块进入合束模块；抑制路激光器发出的激光依次经过抑制路准直器、抑制路防漂移系统、抑制路能量调控模块、抑制路波前调控模块进入合束模块；直写光在直写路波前调控模块中被调制，抑制光在抑制路波前调控模块中被调制，两路光合束后，形成两对直写‑抑制光斑组合。本发明通过分区复用SLM并利用其偏振选择特性，在一束直写光束和一束抑制光束的基础上实现了双聚焦光斑，同时实现每个光斑能量的独立调控，将激光直写打印系统的速度提升了一倍。
一种基于调控并行分辨激光装置

[发明专利]一种片材微孔群表面的激光直写-激光扫描诱导协同方法-CN202111579550.X在审
发明人：金卫凤;李健;徐伟;赵珂;秦忠刚 -专利权人：江苏大学
申请日： 2021-12-22 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： B23K26/352 文献下载
摘要：本发明公开了一种片材微孔群表面的激光直写‑激光扫描诱导协同方法，属于特种加工领域，包括绘制激光直写加工路径；设置激光直写加工参数对片材直写；绘制激光扫描路径；设置激光扫描诱导参数对直写后的片材扫描诱导加工本发明方法先通过激光直写加工产生微结构，利用这些微结构对后续激光束所产生的遮挡作用和壁聚焦效应，再通过低功率纳秒激光扫描诱导方法实现了在大气环境下的板材或箔材表面微孔群表面的加工，同时对微孔边缘则实现了激光抛光
一种微孔表面激光扫描诱导协同方法

[发明专利]一种多通道并行超分辨激光直写系统-CN202111241111.8在审
发明人：匡翠方;孙秋媛;徐良;丁晨良;朱大钊;刘旭;马程鹏;杨臻垚 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2021-10-25 - 公布日： 2022-01-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种多通道并行超分辨激光直写系统，包括：用于产生直写路光束的第一激光器、用于产生抑制路光束的第二激光器、至少一个直写‑抑制光束组合单元、二级合束模块和刻写模块，所述直写路光束和所述抑制路光束同时入射到所述直写‑抑制光束组合单元后形成一对直写‑抑制光束组合，之后再依次经过所述二级合束模块和所述刻写模块，形成直写‑抑制光斑组合。本发明将传统单路激光直写打印系统的速度成倍提升。
一种通道并行分辨激光系统

[发明专利]一种激光直写数据处理系统及处理方法-CN202111111927.9在审
发明人：丁军岗 -专利权人：丁军岗
申请日： 2021-09-23 - 公布日： 2021-12-31 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种激光直写数据处理系统，包括，主机、数据处理单元、直写装置主体、数据采集单元、激光发射单元；主机，用于对数据处理单元、直写装置主体、数据采集单元、激光发射单元进行连接和操作，通过主机可操作各个单元，实现各个单元的配合使用，且所述主机与数据处理单元电连接，所述主机与数据采集单元电连接，所述主机与激光发射单元电连接；通过数据采集单元与数据处理单元的设置，极大的提高了激光直写系统的功能性，数据采集单元将激光直写主体数据、激光直写数据进行采集完成后，通过数据处理单元进行处理，较为方便、迅速，使得激光直写数据可在短时间内完成，且获取数据简单便捷，便于推广和使用。
一种激光数据处理系统处理方法

[发明专利]多材料激光直写共形系统与方法-CN201410362772.X在审
发明人：段宣明;曹良成;曹洪忠;范树迁;刘基权;俆佼 -专利权人：中国科学院重庆绿色智能技术研究院
申请日： 2014-07-28 - 公布日： 2015-01-07 - 主分类号： B29C67/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种多材料激光直写共形系统及方法，包括真空密封箱、多关节机械手臂、多材料激光直写头及对各组成部分进行控制的控制系统；所述机械手臂与激光直写头设置在密封箱内；所述激光直写头包括直写头本体、激光器及材料筒，所述直写头本体上设有分别与激光器及材料筒相连通的材料通道和激光聚焦通道，所述材料筒至少为两组，并列设置在直写头本体上；具体过程为机械手臂带动工件沿设定路径移动，材料控制器选择相应的材料筒，出料头送出材料并使其附着到工件表面上，同时，从激光聚焦通道射出的激光对附着料进行固化或烧结成型；该发明控制过程简单、成型精度高，实现了连续生产，提高了生产效率。
材料激光直写共形系统方法

[发明专利]一种飞秒激光直写光刻胶组合物-CN202111140604.2在审
发明人：邱毅伟;曹春;沈小明;夏贤梦;匡翠方;黄宁;刘旭 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2021-09-28 - 公布日： 2021-12-24 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明属于光刻胶及激光直写技术领域，公开了一种适用于飞秒激光直写的光刻胶组合物，所述光刻胶组合物由单体、光引发剂和聚合物组成，其技术特征在于所述光刻胶组合物具有双色光敏性，可以被特定波长的飞秒激光引发聚合，同时又可以被另一束连续激光抑制聚合，抑制光束减小了飞秒激光的直写区域，从而提高了飞秒激光直写精度，本发明所提供的光刻胶组合物通过特定结构的单体和聚合物，不仅提高了飞秒激光直写精度，同时降低了飞秒激光直写阈值
一种激光光刻组合

[发明专利]激光直写对焦装置及激光直写对焦方法-CN201710713385.X有效
发明人：朱鹏飞;朱鸣;浦东林;李恒;赵改娜;吕帅;邵仁锦;张瑾;袁晓峰;陈林森 -专利权人：苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州大学
申请日： 2017-08-18 - 公布日： 2022-12-02 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：一种激光直写对焦装置，包括微调机构、承载平台和成像系统，微调机构与承载平台相对设置，微调机构包括微调驱动器、活动架和位移传感器，成像系统包括直写镜头，微调驱动器、位移传感器、直写镜头分别与活动架连接。本发明的激光直写对焦装置能保证直写镜头与光刻板的距离在直写镜头的焦深范围内，能解决光刻板厚度变化较大的情况下无法自动对焦的问题。本发明还涉及一种激光直写对焦方法。
激光对焦装置方法

[发明专利]延长焦深的并行激光直写装置-CN201110187540.1有效
发明人：周常河;余俊杰;贾伟;麻健勇;曹武刚;王少卿 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2011-07-06 - 公布日： 2012-02-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种延长焦深的并行激光直写装置，特点在于其构成包括：输出平面激光束的激光器，沿该平面激光束方向依次是1×N达曼光栅、第一透镜、振幅型空间滤波板、第二透镜、反射镜、孔径光阑、延长焦深相位延迟板、聚焦物镜、本发明装置可以显著提高激光直写装置的加工速率，可以明显降低对聚焦伺服系统的要求，进一步提高了激光直写速率和增大了激光直写的光刻面积。在低成本、高速大面积激光直写方面有重要的实用价值。
延长焦深并行激光装置

[发明专利]一种高精度光刻胶组合物及其直写系统-CN202210143737.3有效
发明人：邱毅伟;曹春;关玲玲;沈小明;夏贤梦;匡翠方;刘旭 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2022-02-17 - 公布日： 2022-05-06 - 主分类号： G03F7/027 文献下载
摘要：本发明属于光刻胶及激光直写技术领域，并公开了一种适用于飞秒激光直写的高精度光刻胶组合物，所述光刻胶组合物由单体和光引发剂。技术特征在于，所述光刻胶组合物具有双色光敏性，可以被特定波长的飞秒激光引发聚合，同时又可以被另一束连续激光抑制聚合，抑制光束减小了飞秒激光的直写区域，从而提高了飞秒激光直写精度；进一步的，所述光刻胶组合物折射率和光学系统的物镜折射率差异小于0.01，减小了激光在光刻胶中的相差或球差，从而进一步提高飞秒激光直写精度，本发明所提供的光刻胶组合物通过特定结构的单体，不仅具有较高的直写精度，还有较低的直写阈值和体积收缩率。
一种高精度光刻组合及其系统

[发明专利]激光直写式纳米周期性结构图案制造设备-CN201110170522.2有效
发明人：觉文郁;沈金钟;杨锦添;刘建宏;朱朝居;吴家鸿;黄俊杰;段黎黎;李源钦 -专利权人：虎尾科技大学
申请日： 2011-06-23 - 公布日： 2012-12-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明关于一种激光直写式纳米周期性结构图案制造设备，设有一平台组、一测量反馈组及一激光直写头组，该平台组设有一底座及一混合式移动平台，该测量反馈组与平台组相结合且设有一激光干涉仪、一反射装置及一信号接收装置，该激光直写头组设有一激光直写头、一激光直写头控制介面装置及一对位介面装置，该对位介面装置与测量反馈组及激光直写头控制介面装置相电性连接，提供一可产生任意图形及晶格排列的纳米孔洞、突破光学绕射极限缩小记錄点
激光直写式纳米周期性结构图案制造设备

[实用新型]一种激光直写系统-CN202123370381.7有效
发明人：贾富强;丘国雄;冯涣;陈银榕;李巍伟;叶泽群 -专利权人：南光高科（厦门）激光科技有限公司
申请日： 2021-12-29 - 公布日： 2022-07-05 - 主分类号： B23K26/362 文献下载
摘要：本申请公开了一种激光直写系统，其相对运动扫描部件设置在所述激光器发出的激光光束的传输光路上，用于产生激光光束与直写材料之间的相对运动，形成激光光束对加工面的激光扫描点；相对运动扫描部件包括振镜和场镜；振镜设置反射面，反射面设置在激光器发出的激光光束的传输光路上，用于绕其旋转轴旋转，实现激光光束与直写材料之间产生相对运动；场镜设置在激光扫描点的传输光路上，且位于振镜和直写材料之间，用于对激光扫描点聚焦，其能实现在例如证照票签材料上激光直写加工
一种激光系统

[实用新型]一种具有自清洁功能的激光直写结构以及激光雷达外罩-CN202021943974.0有效
发明人：姜波;赵忠尧 -专利权人：锐驰智光（苏州）科技有限公司
申请日： 2020-09-08 - 公布日： 2021-08-06 - 主分类号： G01S7/481 文献下载
摘要：本申请公开了一种具有自清洁功能的激光直写结构以及激光雷达外罩，该激光雷达外罩的罩体由激光直写结构制成，激光直写结构包括：玻璃基底，微纳米结构以及疏水层；微纳米结构采用激光直写方式被刻蚀在玻璃基底的上表面，其中，相邻的两个微纳米结构的间距为50‑100微米，微纳米结构的上表面还激光刻蚀有次级复合结构；疏水层涂抹于微纳米结构的表面、以及相邻的两个微纳米结构间裸露的玻璃基底上，以提高激光直写结构的静态接触角通过本申请中的技术方案，有效解决灰尘等异物对于激光雷达工作的干扰，进一步提高激光雷达的环境适应性并降低激光雷达系统的维护成本。
一种具有清洁功能激光结构以及激光雷达外罩

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