专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]湿法刻蚀方法-CN201910689404.9在审
  • 符德荣;林凤雏;高郁聪 - 芯恩(青岛)集成电路有限公司
  • 2019-07-29 - 2021-02-02 - H01L21/67
  • 本发明提供一种湿法刻蚀方法,包括如下步骤:提供待处理基底,对待处理基底进行预热处理;使用湿法刻蚀溶液对预热处理后的待处理基底进行湿法刻蚀,湿法刻蚀溶液的温度大于待处理基底预热处理前的温度。本发明通过对待处理基底进行预热处理后再使用湿法刻蚀溶液对待处理基底进行湿法刻蚀,预热处理可以减小待处理基底与湿法刻蚀溶液之间的温差,甚至可以使得待处理基底的温度与湿法刻蚀溶液的温度相同,可以确保在湿法刻蚀过程中待处理基底表面的温度均匀分布,从而使得待处理基底表面不同区域具有相同的刻蚀速率;由于在湿法刻蚀之初所述待处理基底的温度已经与湿法刻蚀溶液的温度相近或相同,可以缩短湿法刻蚀的时间,提高湿法刻蚀的效率。
  • 湿法刻蚀方法
  • [发明专利]智能可定制湿法处理系统-CN201980000227.7有效
  • 吴功莲;杨永刚;吕相林;徐融;夏余平;刘开源;李君;张珍珍;白靖宇 - 长江存储科技有限责任公司
  • 2019-01-29 - 2021-01-29 - H01L21/67
  • 公开了用于进行一致的湿法处理湿法处理系统和方法的实施例。本公开内容中描述的方法包括使用多个检测器测量晶圆的一个或多个晶圆特性,并基于测量的一个或多个晶圆特性确定晶圆的晶圆轮廓。该方法还包括基于晶圆轮廓为相应的第一晶圆区域和第二晶圆区域设置湿法处理系统的第一湿法处理参数集合和第二湿法处理参数集合,其中,至少一个湿法处理参数的值在第一湿法处理参数集合和第二湿法处理参数集合之间不同该方法还包括通过根据相应的第一湿法处理参数集合和第二湿法处理参数集合将一种或多种化学物质分配到第一晶圆区域和第二晶圆区域上来对晶圆执行湿法处理
  • 智能定制湿法处理系统
  • [发明专利]湿法脱硫废水处理的方法及设备-CN201610694911.8有效
  • 王稼帘 - 斯普瑞喷雾系统(上海)有限公司
  • 2016-08-19 - 2023-03-14 - C02F1/04
  • 本发明涉及环境技术的废水处理领域,尤其涉及一种湿法脱硫废水处理的方法及设备。本发明提供一种湿法脱硫废水处理的方法,其特征在于,所述方法包括:将所述湿法脱硫废水加压至第一压力,所述第一压力大于烟道内的烟气压力;在所述第一压力下对所述湿法脱硫废水进行加热,以使得所述湿法脱硫废水的温度高于所述湿法脱硫废水在所述烟道内的烟气压力下的沸点;以及将经加热的所述湿法脱硫废水输送至烟道,以使得所述湿法脱硫废水蒸发。本发明还提供一种湿法脱硫废水处理的设备,与所述方法对应。本发明利用现有烟道系统,通过对湿法脱硫废水的加压、加热,使得湿法脱硫废水能够在烟道内完全蒸发,实现湿法脱硫废水的零排放。
  • 湿法脱硫废水处理方法设备
  • [发明专利]能自动拆卸的处理排放气体用涤气装置-CN01103960.4有效
  • 金东秀 - 韩国M.A.T.有限公司
  • 2001-02-16 - 2002-05-22 - B01D53/74
  • 本发明公开了一种能自动拆卸的处理排放气体用涤气装置,在湿法处理室的侧面设有移动导向机构,湿法处理室沿该导向机构能被推出箱体;燃烧室通过枢轴折页与湿法处理室连接,而在其侧面还设有一个转动轴,通过湿法处理室沿移动导向机构被推出箱体,可使燃烧室做90度的旋转;在湿法处理室背部下端设有螺杆,箱体的下端设有电动机,用来驱动旋转螺杆,通过电动机的驱动可以控制湿法处理室的水平移动,使涤气装置的清洗作业变得极为方便。
  • 自动拆卸处理排放体用装置
  • [发明专利]湿法处理设备及其操作方法-CN201911310296.6在审
  • A.森;N.K.巴希拉坦 - PYXISCF私人有限公司
  • 2019-12-18 - 2020-04-07 - H01L21/67
  • 本公开涉及一种湿法处理设备,用于对基板进行湿法处理,所述湿法处理设备包括:槽体,适于容纳处理液,所述槽体包括至少一个侧壁,所述至少一个侧壁设置有连通所述槽体的内侧与外侧的开口;固定装置,配置为将所述基板固定于所述侧壁的开口处本公开还涉及一种湿法处理设备的操作方法,包括:将基板放置在所述侧壁的开口处,并操作所述固定装置将所述基板固定;以及对所述基板进行湿法处理
  • 湿法处理设备及其操作方法
  • [实用新型]湿法处理设备-CN201922284658.0有效
  • A.森;N.K.巴希拉坦 - PYXISCF私人有限公司
  • 2019-12-18 - 2020-09-11 - H01L21/67
  • 本公开涉及一种湿法处理设备,用于对基板进行湿法处理,所述湿法处理设备包括:槽体,适于容纳处理液,所述槽体包括至少一个侧壁,所述至少一个侧壁设置有连通所述槽体的内侧与外侧的开口;固定装置,配置为将所述基板固定于所述侧壁的开口处本公开还涉及一种湿法处理设备的操作方法,包括:将基板放置在所述侧壁的开口处,并操作所述固定装置将所述基板固定;以及对所述基板进行湿法处理
  • 湿法处理设备
  • [实用新型]分子束外延衬底处理装置-CN202222422131.1有效
  • 顾溢;刘大福;李雪 - 无锡中科德芯感知科技有限公司
  • 2022-09-13 - 2023-01-20 - C30B23/02
  • 本实用新型公开了一种分子束外延衬底处理装置,分子束外延衬底处理装置包括通过管道连接的进样室、等离子处理腔、湿法处理腔以及生长室;进样室、等离子处理腔、湿法处理腔以及生长室与管道之间分别设置有第一阀门;进样室、等离子处理腔、湿法处理腔以及生长室分别设置有对应的真空泵;管道内设置有送料装置,送料装置用于将衬底运送至进样室、等离子处理腔、湿法处理腔以及生长室中的任意一个。可以对衬底进行湿法处理以及等离子处理,并使衬底生长目标材料。
  • 分子外延衬底处理装置

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