专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果1656733个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]简易数字符号汉字输入法及其键盘-CN01134427.X无效
  • 陈松 - 陈松
  • 2001-11-01 - 2003-05-14 - G06F3/023
  • ,通过象形、谐音、取字的某部分、取相同笔画数及行书的笔型特征联系起来,以小键盘的15个为基础形成编码与拆字规则,并且具有156码及154码两套编码规则,另外将小键盘15个映射到大键盘上,可实现中文,英文,数字混合输入。本发明实现了简单易学,高效方便,中英文混合输入,还可通过两合为一来减少总数,以满足特殊应用的要求,是一种较理想的输入法,可充分体现汉字的优越性。
  • 简易数字符号汉字输入法及其键盘
  • [发明专利]帽加工工艺及-CN201310653511.9无效
  • 黎柏松 - 珠海市智迪科技有限公司
  • 2013-12-05 - 2014-04-23 - C08L55/02
  • 本发明公开了一种帽加工工艺,包括步骤:将透明ABS塑料和珠光粉混合后进行加工,以形成用于加工帽体的抽粒料;将抽粒料通过注塑工艺加工形成帽体;在帽体的表面喷涂黑色涂料;对喷涂后的帽体进行镭雕以在其表面上形成字符,进而获得帽成品。通过上述方式,帽加工过程中,能够简化工艺流程、缩短加工周期和降低损耗。
  • 加工工艺
  • [发明专利]含水粘合剂胶乳的生产方法-CN200680014725.X有效
  • T·威廉斯;M·巴雷尔;K·-F·李;F·特萨里;S·威格豪斯;P·布吕兰茨;E·C·霍策 - 纳幕尔杜邦公司
  • 2006-04-27 - 2008-04-23 - C08F265/02
  • 一种通过在水相中多阶段乳液聚合生产含水粘合剂胶乳的方法,其包括连续步骤:1)在水相中自由基聚合烯式不饱和的可自由基聚合单体的混合物A,该混合物以与混合物A酸值10-100mgKOH/g相当的比例包含至少一种具有至少一个酸基的单体和0.5-5重量%至少一种烯式多不饱和单体;2)中和在工艺步骤1)中形成的聚合物的酸基;3)在工艺步骤2)获得的产物的存在下,自由基聚合至少一种可自由基聚合的烯式不饱和单体的混合物B,该混合物以与混合物B或混合物B的每种的酸值为0到低于5mgKOH/g相当的比例包含至少一种具有至少一个酸基的单体、以与混合物B或混合物B的每种的羟基值为0到低于5mgKOH/g相当的比例包含至少一种具有至少一个羟基的单体,以及至少一种基于混合物B或混合物B的每种为0.5-5wt%的烯式多不饱和单体,其中混合物A与至少一种混合物B的重量比为15∶85-85∶15,而且其中工艺步骤2)中的中和在至少90wt%的混合物A单体已经完成聚合后开始
  • 含水粘合剂胶乳生产方法
  • [发明专利]一种基于预定位自补偿式对准的晶圆级混合合方法-CN202310816664.4在审
  • 王诗兆 - 湖北芯研投资合伙企业(有限合伙)
  • 2023-07-05 - 2023-08-01 - H01L21/603
  • 本发明公开了一种基于预定位自补偿式对准的晶圆级混合合方法,包括:在上层芯粒晶圆上制备Cu+焊帽凸点结构,经裂片后涂敷粘合剂并进行图形化压印和预固化,成型后的粘合剂高度低于凸点高度,形成正高度差;在下层晶圆上制备Cu+焊块凸点结构后涂敷粘合剂并进行图形化压印和预固化,成型后的粘合剂形成预定位台阶且粘合剂高度高于凸点结构,形成负高度差;合时通过下层晶圆高速旋转产生的离心力以及预制粘合剂台阶完成预定位,同时下层晶圆凸点结构直径大于上层芯粒凸点结构直径,形成具有预定位自补偿对准功能的凸点合方式。本发明能有效解决传统晶圆级混合合工艺中晶圆级混合合偏移大、预对准时间长、合强度不高的问题。
  • 一种基于预定补偿对准晶圆级混合方法
  • [发明专利]基于混合金属价化合物的记忆电阻-CN200980160656.7有效
  • R·S·威廉斯;J·杨;M·皮克特;G·里贝罗;J·P·斯特拉钱 - 惠普开发有限公司
  • 2009-09-04 - 2012-05-30 - H01L29/40
  • 一种基于混合金属价化合物的记忆电阻(100、100’、100”),包括:第一电极(115);第二电极(120);与至少一层完全氧化相层(110、110a、110b)物理接触的混合金属价相层(105)所述混合金属价相实质上是用于完全氧化相的掺杂剂的凝集相,所述掺杂剂响应于施加的电场(125)漂移进和漂移出所述完全氧化相。所述第一和第二电极中的一个与所述混合金属价相层或一层完全氧化相层(110a)电接触且所述第一和第二电极的另一个与所述完全氧化相层(或另一层(110b))电接触。记忆电阻通过形成任意顺序的所述混合金属价相的层和所述完全氧化相层来形成,其中一层在另一层之上。还公开了一种可逆二极管(100’)和开启转换二极管(100”)。进一步公开了一种操作所述记忆电阻的方法。
  • 基于混合金属化合物记忆电阻

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top