“气体注入口”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果1456108个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]用于制造多孔玻璃预型体的燃烧器-CN201110100270.6有效
发明人：吉田真 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2011-04-20 - 公布日： 2011-11-09 - 主分类号： C03B37/01 文献下载
摘要：本发明提供一种用于制造多孔玻璃预型体的燃烧器，它设有包含多个小直径助燃气体注入口的可燃气体注入口，该小直径助燃气体注入口在中央的玻璃源气体注入口的外侧设置成一排或多排并且与该玻璃源气体注入口同心设置，使得同一排的小直径助燃气体注入口具有相等焦距，其中该小直径助燃气体注入口在预定位置处从该小直径助燃气体注入口的尖端朝向燃烧器中心轴弯曲，使得同一排的小直径助燃气体注入口的焦点相互重合，并且在多排设置的小直径助燃气体注入口排中，最接近中央的玻璃源气体注入口的小直径助燃气体注入口排相对于该燃烧器中心轴的弯曲角为至多
用于制造多孔玻璃预型体燃烧

[实用新型]一种适用于烟气净化系统中炭基催化剂的再生装置-CN201821281927.7有效
发明人：张乾;邢德山;刘建民;程文煜;柴晓琴;许芸 -专利权人：国电环境保护研究院有限公司
申请日： 2018-08-09 - 公布日： 2019-03-26 - 主分类号： B01J38/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种适用于烟气净化系统中炭基催化剂的再生装置，采用再生塔，再生塔上设有氨气注入口，与再生塔的内部相连通；氨气注入口位于再生塔的加热段上方，或者氨气注入口为惰性气体第一入口；再生装置还包括氨气注入管、第一惰性气体注入管和第二惰性气体注入管；氨气注入管两端分别连接氨气注入口和氨气源；氨气注入管上设有阀门和流量控制计；第一惰性气体注入管和第二惰性气体注入管分别与惰性气体第一入口和惰性气体第二入口相连，本实用新型通过氨气注入口在再生塔中同时通入氨气进行炭基催化剂的再生，提高炭基催化剂的再生性能。
氨气惰性气体注入管再生塔注入口炭基催化剂再生装置烟气净化系统本实用新型流量控制阀门再生性能氨气源加热段再生

[发明专利]氮氧化物的选择性增加的微波等离子体装置和利用该装置制备含有氮氧化物的水的方法-CN202180045262.8在审
发明人：洪镛澈;千世珉;梁乾祐;李羲宰 -专利权人：韩国核融合能源研究院
申请日： 2021-05-25 - 公布日： 2023-05-12 - 主分类号： H05H1/46 文献下载
摘要：微波等离子体装置包括：中空管，其里面是空的，微波照射到所述中空管；旋流气体注入口，其位于中空管的下端部，旋流气体(swirl gas)注入所述旋流气体注入口；轴向气体注入口，其贯穿中空管的下端部，轴向气体(axial gas)注入所述轴向气体注入口；以及旋流气体隔膜，其位于中空管内部，并且位于注入旋流气体的附近，沿中空管的长度方向延伸，其中，旋流气体隔膜与中空管之间形成有间隙(g)，而且在中空管的内部产生等离子体
氧化物选择性增加微波等离子体装置利用制备含有方法

[发明专利]气体膨胀装置和气体膨胀方法-CN201780012855.8有效
发明人： H·厄曼 -专利权人：阿特拉斯·科普柯空气动力股份有限公司
申请日： 2017-02-13 - 公布日： 2020-07-17 - 主分类号： F01C1/00 文献下载
摘要：一种气体膨胀装置(1)，用于膨胀气体或气液混合物，其中，气体膨胀装置(1)包括气体膨胀元件(2)，气体膨胀元件具有用于待膨胀气体的入口(4)和用于待膨胀气体的入口管(5)，入口管(5)连接到入口(4)，气体膨胀装置(1)还包括用于注入液体的第一液体注入点(13)，第一液体注入点(13)处于与入口(4)齐平的位置或位于入口(4)上游的位置。
气体膨胀装置方法

[发明专利]具有可更换气体孔口接头和传感器的气液吸收设备(GLAD)-CN202080002391.4在审
发明人： A·帕特尔;D·特兰 -专利权人：流量控制有限责任公司
申请日： 2020-03-26 - 公布日： 2020-12-08 - 主分类号： A23L2/38 文献下载
摘要：一种气液吸收设备(GLAD)，其特征在于，包括：气体入口歧管、液体入口歧管和气体/液体混合发泡器。气体入口歧管具有气体入口，气体入口用于接收入口气体，并且具有气体发泡器腔，气体发泡器腔被流体地耦接至气体入口以接收入口气体。液体入口歧管具有液体入口，液体入口用于提供非注入液体，并且具有液体发泡器腔，液体发泡器腔被流体地耦接至液体入口以接收非注入液体。气体/液体混合发泡器位于气体入口歧管与液体入口歧管之间，并且被布置在气体发泡器腔和液体发泡器腔中。气体/液体混合发泡器具有气体发泡器壁，气体发泡器壁形成被流体地耦接至气体发泡器腔的气体接收发泡器室。液体发泡器壁具有液体供应孔，以从液体接收发泡器室提供分散的非注入液体。混合室接收并且注入分散的入口气体和分散的非注入液体、并且从混合室提供已起泡的气体/液体混合物。
具有更换气体孔口接头传感器吸收设备 glad

[发明专利]清洁液体喷嘴、清洁设备和使用其制造半导体装置的方法-CN201910381619.4在审
发明人：金昊永;金彩姈;金兑洪;金荣俊;尹普彦;韩率;金俊吾 -专利权人：三星电子株式会社;首尔大学校产学协力团
申请日： 2019-05-08 - 公布日： 2019-11-19 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：清洁设备包括气体供应线路和清洁液体供应线路。喷嘴连接到气体供应线路和清洁液体供应线路。喷嘴将清洁液体施加到基板上。位于喷嘴的主体的顶部处的气体注入口连接到气体供应线路。第一清洁液体注入口设置在喷嘴主体的侧壁上并连接到清洁液体供应线路。流体排出口设置在喷嘴主体的底部，并排出气体和清洁液体。喷嘴主体的内部通道将气体注入口和第一清洁液体注入口中的每一个连接到流体排出口。流体排出口的直径大于第一清洁液体注入口的直径。
清洁液体气体供应线路流体排出口供应线路喷嘴主体喷嘴气体注入口注入口内部通道清洁设备侧壁基板施加

[发明专利]一种用于角膜胶原交联术的供氧装置-CN202011409263.X有效
发明人：陈世豪;唐兆凯;于航 -专利权人：温州眼视光发展有限公司
申请日： 2020-12-04 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： A61F9/00 文献下载
摘要：本发明属于眼科手术器械领域，具体涉及一种用于角膜胶原交联术的供氧装置，包括筒状的壳体和可使紫外线透过的盖体，所述壳体的下端面形成与巩膜表面形状一致的曲面，所述盖体连接在壳体的上端与壳体之间形成环境气体注入腔，所述壳体通过管道连接有环境气体注入装置和环境气体抽出装置，所述环境气体注入装置中设有氧气注入口、氮气注入口、气体混合腔，所述气体混合腔与环境气体注入腔连通。本发明提供一种用于角膜胶原交联术的供氧装置，其中氧气注入口和氮气注入口按比例注入氧气和氮气，从而精准控制角膜胶原交联术眼球外的氧气浓度，从而实现手术的精准控制。
一种用于角膜胶原交联供氧装置

[发明专利]气体注入装置以及辅助构件-CN201480074961.5有效
发明人：村田正直;山路孝 -专利权人：村田机械株式会社
申请日： 2014-12-12 - 公布日： 2019-03-01 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明的气体注入装置(1)具备：载置部(2)，载置有第1容器(FOUP(10A))或者第2容器；喷出部(5)，配置于载置部(2)，喷出清洗气体；密封部(7)，以包围喷出部(5)的周缘的方式从载置部(2)喷出部(5)在对第2容器的注入口注入清洗气体的状态下、与该注入口为非接触，密封部(7)在对FOUP(10A)的注入口(15A)注入清洗气体的状态下不妨碍喷出部(5)与注入口(15A)的接触。
气体注入装置以及辅助构件

[发明专利]等离子体处理室及用于该等离子体处理室的气体注入装置-CN201210593652.1有效
发明人：叶如彬;倪图强 -专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
申请日： 2012-12-31 - 公布日： 2014-07-09 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种等离子体处理室及用于该等离子体处理室的气体注入装置，本发明在所述环形气体注入管道内壁设置若干气体注入口，并且使得所述气体输出的方向与所述气体注入口指向所述环形气体注入管道圆心的方向呈一锐角，确保气体注入反应腔后在解离区域内形成涡流状分布，延缓了气体下沉的速率，延长了气体到达基片的走行距离，使得气体在解离区域内尽可能的得到解离，与传统的垂直所述环形气体注入管道内壁的气体注入口相比，气体下沉速率减慢，气体解离率提高，从而提高了反应气体的利用效率，同时由于反应腔内等离子体浓度升高，提高了刻蚀速率。
等离子体处理用于气体注入装置

[发明专利]二次电池-CN201880004756.X有效
发明人：洪哲基;金东规;金大洙 -专利权人：株式会社LG化学
申请日： 2018-06-26 - 公布日： 2022-02-22 - 主分类号： H01M50/333 文献下载
摘要：根据本发明的二次电池包括：电池壳体，电池壳体包括容纳电极组件和电解质的容纳部；流体入口/出口(Port)，流体入口/出口设置在电池壳体中，以提供流体通过流体入口/出口可移动的移动通路，使得能够进行内部气体的排出和电解质的再注入；气体排出部，气体排出部限制通过流体入口/出口的内部气体的排出；和电解质再注入部，电解质再注入部设置为通过流体入口/出口再注入电解质。
二次电池

[发明专利]外延气体注入单元及外延反应器-CN202010156424.2在审
发明人：张凌云;王力 -专利权人：西安奕斯伟硅片技术有限公司
申请日： 2020-03-09 - 公布日： 2020-06-09 - 主分类号： C30B25/14 文献下载
摘要：本发明提供了一种外延气体注入单元及外延反应器，属于半导体技术领域。外延气体注入单元包括：注射帽，所述注射帽包括多个气体入口和多个气体出口，所述气体入口与所述气体出口一一对应连通，每一所述气体入口通过气体管道与气体净化器连通；气体注入挡板，所述气体注入挡板包括多个与所述气体出口对应的通孔，以使得从所述气体出口排出的气体流过所述通孔，所述通孔靠近所述注射帽的入口的直径小于所述通孔远离所述注射帽的出口的直径。
外延气体注入单元反应器

[发明专利]用于等离子体干法蚀刻设备的成比例且均匀的受控气流传递-CN201380012863.4有效
发明人： R·C·南古瓦;A·Y·恩盖耶 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2013-04-05 - 公布日： 2017-03-15 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：本发明的实施例关于以改善的均匀性提供处理气体至处理腔室的方法与设备。本发明的一个实施例提供气体注入组件。气体注入组件包括入口枢纽、喷嘴与分配插入件，喷嘴具有抵靠入口枢纽设置的数个注入通道，分配插入件设置于喷嘴与入口枢纽之间。分配插入件具有一个或多个气体分配通道，一个或多个气体分配通道被配置以将入口枢纽连接至喷嘴的数个注入通道。一个或多个气体分配通道各自具有与数个出口连接的一个入口，且入口与数个出口的各个出口之间的距离是实质上相等的。
用于等离子体蚀刻设备比例均匀受控气流传递

[发明专利]气体供给装置、注射成型机及发泡成型方法-CN202180078451.5在审
发明人：内藤章弘;油布拓也 -专利权人：株式会社日本制钢所
申请日： 2021-11-17 - 公布日： 2023-07-21 - 主分类号： B29C45/00 文献下载
摘要：注射成型机(1)的注射装置(2)由设有气体注入口(30)的加热缸(18)和螺杆(19)构成，将气体供给装置(5)与气体注入口(30)连接。气体供给装置(5)由气体供给源(33)和气体压力调节部(34)构成。气体压力调节部(34)在将来自气体供给源(33)的气体注入气体注入口(30)时调节气体压力并供给。具体来说，在成型周期中改变气体压力，在计量工序(61)中设为高压。也就是说，使气体压力升压的升压期间(71)的至少其一部分与计量工序(61)重叠。
气体供给装置注射成型发泡方法

[发明专利]改善晶圆表面平坦度的方法-CN03121971.3有效
发明人：詹前庆;欧阳允亮;卢永伟 -专利权人：矽统科技股份有限公司
申请日： 2003-04-18 - 公布日： 2004-10-20 - 主分类号： H01L21/302 文献下载
摘要：适用在一晶圆上以化学气相沉积法(chemical vapor deposition；CVD)沉积复数层的薄膜，包括：一晶圆；将晶圆置入一第一薄膜沉积设备中，以化学气相沉积法沉积一第一层薄膜，其中第一薄膜沉积设备具有至少一第一反应气体注入口(injector)，且晶圆相对第一反应气体注入口具有一第一方向；将晶圆置入一第二薄膜沉积设备中，以化学气相沉积法沉积一第二层薄膜，其中第二薄膜沉积设备具有至少一第二反应气体注入口(injector)，而第一、第二反应气体注入口的数量与排列方式大体相同，且晶圆相对第二反应气体注入口具有一第二方向，第二方向与该第一方向具有一第一角度，使第二反应气体注入口在晶圆上投影点与第一反应气体注入口在晶圆上投影点不同
改善表面平坦方法

[实用新型]用于尿素混合室的空气帘-CN201621143927.1有效
发明人：乔治·L·芒蒂恩;史蒂夫·霍尔;乔伊迪普·查克拉巴蒂;约翰·安西斯;约书亚·D·亨利;塞缪尔·约翰逊;安德鲁·迈尔 -专利权人：康明斯排放处理公司
申请日： 2014-07-09 - 公布日： 2017-09-26 - 主分类号： F01N3/20 文献下载
摘要：示例性的实施方案包括掺混室，掺混室具有尿素入口、掺混室气体入口和掺混室出口。尿素源以尿素注入压力将加压的尿素溶液提供至尿素入口，并且加压的气体源经由通路将加压气体传送至掺混室气体入口。通路被配置成将沿着其长度传送的加压气体的压力从接收自加压气体源的气体的第一压力降低至提供至掺混室气体入口的气体的第二压力。接收自加压气体源的气体的第一压力大于尿素注入压力，并且提供至掺混室气体入口的气体的第二压力小于尿素注入压力。
用于尿素混合空气

1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
下一页»
尾页
共 100000 条