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[发明专利]气体反应装置-CN201911014278.3在审
发明人：李殷廷;李河圣;崔钟武;金成基 -专利权人：夏泰鑫半导体（青岛）有限公司
申请日： 2019-10-23 - 公布日： 2020-06-26 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明提供一种气体反应装置，包括：反应室；加热装置，用于加热所述反应室；承载台，设置在所述反应室内，所述承载台用于承载多个半导体晶片；气体喷嘴，用于导入反应气体于所述反应室；和管路托架。所述管路托架上设有连接部，所述管路托架为中空结构，所述气体喷嘴的一端通过所述连接部与所述管路托架连通，所述连接部与所述气体喷嘴之间设置缓冲件，所述缓冲件呈环形结构；所述气体喷嘴插接于所述连接部内，所述缓冲件包覆所述气体喷嘴的端面本申请的气体反应装置通过在气体喷嘴和管路托架的连接部之间设置缓冲件，防止气体从连接处泄露，并且能够减少气体喷嘴端部与管路托架摩擦，从而减少颗粒的产生。
气体反应装置

[实用新型]气体反应装置-CN201821796118.X有效
发明人：李永强;冯长宏;田力;宋旭东;吴煜;陈晗炜;谭燕;刘振强;齐宇 -专利权人：杭州聚光环保科技有限公司
申请日： 2018-11-01 - 公布日： 2019-10-29 - 主分类号： B01J19/24 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种气体反应装置，所述气体反应装置包括钼丝：第一管一端开口一端封闭；第二管一端封闭一端开口，所述第二管的开口端从所述第一管的开口端进入第一管内，第二管的开口端和第一管的封闭端间的距离大于零所述第一管和第二管之间的空间被隔离为第一部分和第二部分，所述第二部分形成在二个密封件之间；进口设置在所述第一管上，且与所述第一部分连通；出口分别设置在所述第一管和第二管上，且与所述第二部分连通；约束件，所述约束件设置所述第二管内，形成正向和反向流动的气体通道；所述钼丝设置在所述第二管内，且处于所述气体通道上。本实用新型具有反应效率高、维护方便等优点。
第二管气体反应装置开口端本实用新型气体通道一端封闭一端开口密封件约束件钼丝连通反向流动反应效率维护方便封闭端管内正向隔离进口出口

[实用新型]气体反应装置-CN202022911811.0有效
发明人：吴铭钦;刘峰 -专利权人：苏州雨竹机电有限公司
申请日： 2020-12-07 - 公布日： 2021-11-16 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型为一种气体反应装置，其应用于面下型(Face Down)的化学气相沉积反应技术。气体反应装置包括一反应腔以及一基板承载装置，基板承载装置设置在反应腔内的上部。气体反应装置特征在于，基板承载装置与反应腔之间形成一快速气流通道，且快速气流通道的高度大于0毫米且小于或等于5毫米。本实用新型将快速气流通道的高度缩减至提供5毫米，以提升快速气流通道内气体流通的速率，减少基板上杂质沉降以及气体的消耗。
气体反应装置

[实用新型]一种微量气体反应检测装置-CN202020969316.2有效
发明人：陈秋妮;周利民;朱广娇 -专利权人：昆明理工大学
申请日： 2020-06-01 - 公布日： 2020-12-01 - 主分类号： G01N33/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种微量气体反应检测装置，属于气固反应检测技术领域。该装置包括气体发生装置、气体流量控制装置、固气反应装置和尾气吸收装置，气体发生装置通过气体导管I与气体流量控制装置的气体入口连通，气体流量控制装置的气体出口通过气体导管II与固气反应装置的气体入口连通，固气反应装置的气体出口通过气体导管III与尾气吸收装置连通。气体发生装置产生的待反应目的气体通过气体流量控制装置调节流量，与固气反应装置中的固体反应物反应，未反应的目的气体进入尾气吸收装置中吸收，通过测定反应前气体中目的气体的含量以及反应后气体中目的气体的含量，经过差减法计算出目的气体反应量。
一种微量气体反应检测装置

[发明专利]反应气体除尘装置-CN201310380100.7无效
发明人：徐永安;罗逸之;罗名扬 -专利权人：宁波榕大环保装备有限公司
申请日： 2013-08-28 - 公布日： 2013-12-25 - 主分类号： B01D47/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种反应气体除尘装置，包括一筒体（1），所述的筒体（1）上设有进气口（2）、出气口（3）、液体入口（4）和液体出口（5），所述液体出口（5）的高度低于液体入口（4）的高度；所述的进气口（2）上述反应气体除尘装置能够过滤裂解气体中固体粉尘。
反应气体除尘装置

[实用新型]气体合成反应装置-CN201520167470.7有效
发明人：马高飞;刘华伟;陈伟建;钱胜涛;双建永;王先厚;张国建;孔渝华;王志峰;毛俊楠;高军;胡四斌;夏吴;黄建军 -专利权人：中国五环工程有限公司;华烁科技股份有限公司
申请日： 2015-03-24 - 公布日： 2015-08-19 - 主分类号： B01J8/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种气体合成反应装置，解决了现有气体合成反应装置存在的体积大、气体分布和接触不均，反应效率低、反应物收率低的问题。本实用新型结构简单、体积小、副反应少、气体分布均匀，反应效率高，反应物收率和选择性好。
气体合成反应装置

[实用新型]反应气体除尘装置-CN201320527932.2有效
发明人：徐永安;罗逸之;罗名扬 -专利权人：宁波榕大环保装备有限公司
申请日： 2013-08-28 - 公布日： 2014-02-12 - 主分类号： B01D47/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种反应气体除尘装置，包括一筒体（1），所述的筒体（1）上设有进气口（2）、出气口（3）、液体入口（4）和液体出口（5），所述液体出口（5）的高度低于液体入口（4）的高度；所述的进气口（上述反应气体除尘装置能够过滤裂解气体中固体粉尘。
反应气体除尘装置

[实用新型]反应气体供给装置-CN201220445219.9有效
发明人：李菁;魏强 -专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
申请日： 2012-09-03 - 公布日： 2013-03-27 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种反应气体供给装置，与等离子体处理设备配合使用，反应气体供给装置控制通入反应腔室的反应气体流量，该供给装置包括：至少一个气体导入通道，与气体喷淋单元连接，反应气体自气体导入通道导入气体喷淋单元；至少一个调节阀，与气体导入通道配合使用，调节阀调节气体导入通道中反应气体的流量；其中，供给装置还包括一脉宽调制单元，脉宽调制单元发出至少一种脉宽信号控制调节阀调节导入气体喷淋单元的反应气体的流量。该装置实现了对气体导入通道中反应气体流量的精确控制，从而使反应腔室中反应气体分布处于一种可控状态，实现了对等离子体处理工艺的过程控制。其实施开销少，结构简单。
反应气体供给装置

[实用新型]气体混合反应装置-CN201020581162.6无效
发明人：陈健;薛蓉 -专利权人：上海攀极投资有限公司
申请日： 2010-10-28 - 公布日： 2011-06-22 - 主分类号： B01D53/76 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种气体混合反应装置，其包括由真空泵和连接真空泵的进气管组成的输气部件，由多根配气支管、配气室、混合反应箱组成的混合反应部件，由出气管和设置在出气管内部的出气管挡板组成的出气部件；进气管另一端与混合反应部件相连；配气室设置在混合反应箱的底部；多根配气支管设置在配气室上；每根配气支管壁上设有I型配气细缝，每排配气支管错位排列，每排配气支管之间的开孔方向相反；配气支管一端与配气室贯通，其另一端与混合反应箱连接封闭；出气管的一端与混合反应箱的出气口连为一体，其另一端与混合排气管连接；可以使交换气体在混合反应箱内产生紊流，增大交换气与废气的反应面积，短距离内实现净化废气的效果。
气体混合反应装置

[实用新型]反应系统-CN202121905106.8有效
发明人：杜波;马明水;王会升;野田 -专利权人：新奥（天津）能源技术有限公司
申请日： 2021-08-13 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： B01J19/00 文献下载
摘要：本公开涉及合成反应技术领域，尤其涉及一种反应系统，包括反应装置、分离装置和气体处理装置，反应装置包括供反应气进入的反应气入口和供反应生成的第一产物排出的第一产物出口，分离装置包括与第一产物出口连通的第一产物入口、用于供所述第一产物在分离装置中分离出的气体排出的气体出口以及用于供第一产物在分离装置中分离出的第二产物排出的第二产物出口。气体处理装置包括与气体出口连通的气体入口，气体处理装置用于脱除气体中的杂质气，脱除杂质气的气体通过气体处理装置的出口进入反应装置中再次反应。由于脱除杂质气的气体中含有反应气，该反应气能够进入反应装置中进行反应，从而能够提高反应气的利用率。
反应系统

[实用新型]一种针对有害气体的光催化反应在线检测装置-CN202021277156.1有效
发明人：张志鹏;徐斌;杨慧;张明 -专利权人：扬州大学
申请日： 2020-07-03 - 公布日： 2021-06-29 - 主分类号： G01N31/10 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种针对有害气体的光催化反应在线检测装置，包括包括光催化反应装置，气体循环装置和气体检测装置；光催化反应在线检测装置的气体检测装置进气口与气体循环装置出气口相连，气体检测装置出气口与气体反应装置进气口相连，气体反应装置出气口与气体循环装置进气口相连，各部分通过阀门控制气体流通；光催化反应装置为反应池，反应池身有一个注气口；设有光催化反应装置光源位于反应池正上方且垂直于反应池；光催化反应装置中的样品台置于反应池内部本实用新型结构简单，光催化反应装置与检测装置一体化，能够实现反应物及反应产物的在线检测；本实用新型实际操作简单，便于光催化剂的更换及回收。
一种针对有害气体光催化反应在线检测装置

[发明专利]气相分子‑离子反应的质谱装置及分析方法-CN201510254326.1有效
发明人：江游;方向;熊行创;黄泽建 -专利权人：中国计量科学研究院
申请日： 2015-05-18 - 公布日： 2017-04-05 - 主分类号： H01J49/26 文献下载
摘要：本发明公开了气相分子‑离子反应的质谱装置及分析方法，该装置包括反应气体引入装置、气相分子‑离子反应质谱分析装置，其中，所述反应气体引入装置与所述气相分子‑离子反应质谱分析装置相连；所述反应气体引入装置，用于将反应气体引入到所述气相分子‑离子反应质谱分析装置；所述气相分子‑离子反应质谱分析装置，用于分子或离子进行反应，及对反应结果进行质谱分析；其中所述反应气体引入装置包括反应气容器，所述反应气容器用于盛装气体或挥发性的液体、固体，产生反应所需的气体分子；反应气体定量装置，用于对所述气体分子进行流量控制；所述气相分子‑离子反应质谱分析装置包括真空系统、离子源、离子透镜、离子阱、检测器、控制系统。
分子离子反应装置分析方法

[实用新型]一种MOCVD系统-CN202123285356.9有效
发明人：吕青;李瑞 -专利权人：中晟光电设备（上海）股份有限公司
申请日： 2021-12-24 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：该MOCVD系统包括气体控制模块、反应腔、气体输送管路和气体切换装置，气体控制模块用于控制反应气体的气体流量、压力和种类。反应气体在反应腔内发生化学反应产生沉积物；气体控制模块与反应腔通过气体输送管路连接，气体切换装置设置于气体输送管路上，气体输送管路自气体切换装置至反应腔的长度为预设长度，缩短了气体切换装置与反应腔之间反应气体的流通路径在切换不同的反应气体进入反应腔内进行化学反应时，减少了切换后在气体输送管路中残留的切换前的反应气体，使得不同的反应气体在反应腔中界面清晰，没有明显的过渡层，提高了不同沉积材料的分界精准性。
一种 mocvd 系统

[实用新型]一种气液非均相反应装置-CN200920110092.3无效
发明人：王陆瑶;张卓勇 -专利权人：王陆瑶;张卓勇
申请日： 2009-07-14 - 公布日： 2010-05-12 - 主分类号： B01J10/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种气液非均相反应装置。该装置由气体发生装置、气体处理装置和反应装置构成，其中气体处理装置主要由冷凝器、纯化塔和气体冷却器依次连接构成。气体发生装置中生成气相反应物后，经过气体处理装置进行纯化及冷却，使室温下的气相反应物液化后，进入反应装置，与液相反应物进行反应，即使得室温下气体参加的气液非均相反应，转化为均相反应，加快反应速度，提高反应收率
一种气液非均相反应装置

[发明专利]一种硅通孔刻蚀装置-CN201310751543.2在审
发明人：倪图强;李俊良 -专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
申请日： 2013-12-31 - 公布日： 2015-07-01 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种硅通孔刻蚀装置，包括：反应腔，基座，射频功率发生装置和反应气体供气系统；所述基座设置在反应腔内，反应气体供气系统供应刻蚀气体和沉积气体到反应腔内，射频功率发生装置施加射频功率到反应腔内；待处理基片设置在所述基座上，其特征在于所述反应气体供气系统包括刻蚀气体供应管道和沉积气体供应管道，所述刻蚀气体供应管道通过一个刻蚀气体阀门连接到第一反应气体输入端；所述沉积气体供应管道通过一个沉积气体阀门连接到第二反应气体输入端；所述刻蚀气体供应管道联通到一个刻蚀气体喷口向反应腔喷入刻蚀气体，所述沉积气体供应管道联通到一个沉积气体喷口，向反应腔喷入沉积气体。
一种硅通孔刻蚀装置

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