专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]支撑机台-CN201410050194.6有效
  • 李星火;王涛;王鹏;丁振勇;韩亚军;陈国 - 北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司
  • 2014-02-13 - 2014-05-14 - G02F1/13
  • 本发明涉及一种支撑机台,包括若干个销孔,销孔中容纳有可以上下移动的支撑销,销孔的孔壁上设置有至少一个凹槽,凹槽容纳有滚珠,所述滚珠在凹槽内自由滚动,所述滚珠位于容纳在销孔中的支撑销周围,并且凹槽的形状和大小使得每个滚珠可以在凹槽中滚动并使每个滚珠始终有一部分突出于销孔的孔壁本发明提供的支撑机台,在销孔中设置滚珠,将支撑销偏折或弯曲时与销孔壁的滑动摩擦转化为与滚珠的滚动摩擦,这样可以减少微粒的产生,使吸附到液晶面板的微粒大为减少,从而防止液晶面板产生Shell Mura,提高产品的良率
  • 支撑机台
  • [发明专利]曝光机台-CN200910128734.7无效
  • 温孟川;郑德胜;赵志鸿;王仁智 - 友达光电股份有限公司
  • 2009-03-12 - 2009-08-05 - G03F7/20
  • 一种曝光机台,用于对沿一方向行进的一基板进行曝光。该曝光机台包括:输送装置,沿该方向输送该基板,灯管组,具有多个灯管,该灯管组设置于该输送装置之上,用以曝光该基板,其中该多个灯管设置于多个交错点,该复数交错点由至少一横宽线与至少二纵长线所相交,该至少一横宽线垂直于该方向及该至少二纵长线平行于该方向
  • 曝光机台
  • [实用新型]蚀刻机台-CN201520780059.7有效
  • 张耕铭;左志刚 - 上海天马有机发光显示技术有限公司;天马微电子股份有限公司
  • 2015-10-09 - 2016-04-20 - H01L21/67
  • 本实用新型涉及材料加工的技术领域,提供了蚀刻机台,包括主体,所述主体内部设有用于加工基板的腔室,所述基板上设有待加工的工件,所述腔室内设有相对设置的上极板和下极板,所述下极板与水平面之间存在一夹角,所述下极板上设有可固定所述基板的固定结构本实用新型中的蚀刻机台,其下极板相对水平面以一定角度倾斜设置,蚀刻产生的颗粒会沿坡面脱落,不易附着在基板表面影响加工效果,同时基板倾斜设置可避免受重力影响虽碎裂。
  • 蚀刻机台

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