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[发明专利]一种基于标校灯的相机曝光时间偏差检测方法-CN202110775578.4有效
发明人：周鑫;曹锐;王振坤;李旭阳;董雪丰;董永超 -专利权人：中国人民解放军63660部队
申请日： 2021-07-09 - 公布日： 2022-11-22 - 主分类号： H04N17/00 文献下载
摘要：本发明涉及相机参数分析技术领域，提供本发明涉及一种基于标校灯的相机曝光时间偏差检测方法。设定程序对LED标校灯进行电脉冲控制，LED标校灯对应曝光时间偏差模糊度测量、曝光时间偏差测量运行两种工作模式。曝光时间偏差模糊度通过多级灯检测多台设备相机大致的偏差，该偏差用于确立各设备曝光时间的先后，其偏差值用于后续高精度测量偏差值时，标校灯亮灯设置的依据。利用曝光时间偏差模糊度检测结果设置一级灯的亮灯时间；在实验数据中检测计算各设备的曝光起始偏差，在此基础上结合各设备的曝光时间，计算出目标中心时间偏差。
一种基于标校灯相机曝光时间偏差检测方法

[发明专利]信息推荐方法、装置、设备及存储介质-CN202210332302.3在审
发明人：邵琦;张伟特;王泽明;刘泽锦;殷乐 -专利权人：北京三快在线科技有限公司
申请日： 2022-03-30 - 公布日： 2022-07-22 - 主分类号： G06F16/9535 文献下载
摘要：方法包括：对目标信息进行预测处理，得到曝光概率，所述曝光概率为所述目标信息的曝光概率；获取偏差因素信息，所述偏差因素信息表示推荐信息时导致所述信息的曝光概率出现偏差的因素；确定所述偏差因素信息对应的曝光影响参数，所述曝光影响参数表示所述偏差因素信息所表示的因素对信息的曝光概率的影响程度；基于所述曝光概率和所述曝光影响参数，对所述目标信息进行推荐。
信息推荐方法装置设备存储介质

[发明专利]图像调整方法、装置及设备、存储介质-CN201810482076.0在审
发明人：王柳;李海春 -专利权人：沈阳东软医疗系统有限公司
申请日： 2018-05-18 - 公布日： 2018-11-27 - 主分类号： A61B6/00 文献下载
摘要：本申请公开了一种图像调整方法、装置及设备、存储介质，所述方法包括：获取被检体的原始曝光图像；确定所述原始曝光图像中的感兴趣区域；定位所述感兴趣区域内图像特征与所述目标对象的特征一致的区域；确定所定位的区域相对预定的基准方向的位置偏差；根据所述位置偏差对所述原始曝光图像进行旋转处理，得到所述被检体的目标曝光图像。实施本申请实施例，可以确定出能表征曝光过程中被检体与探测器的偏差程度的位置偏差，按照该位置偏差对原始曝光图像进行旋转处理，得到目标曝光图像，可以降低曝光过程中被检体与探测器的位置偏差，对目标曝光图像产生的影响，进而降低对后期处理曝光图像产生的负面影响。
曝光图像位置偏差被检体感兴趣区域装置及设备存储介质曝光过程图像调整旋转处理探测器负面影响后期处理基准方向目标对象特征一致图像特征申请

[发明专利]曝光影像偏差的校正方法和成像装置-CN200810067797.1有效
发明人：孙海翔;高云峰 -专利权人：深圳市大族激光科技股份有限公司
申请日： 2008-06-17 - 公布日： 2009-12-23 - 主分类号： G03G15/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种曝光影像偏差的校正方法和成像装置。所述校正方法包括：根据曝光模块在成像面上的实际曝光位置，生成能够校正所述曝光模块在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息；按照所述曝光控制信息，控制所述曝光模块在所述成像面上进行曝光。本发明实施例只需要通过软件补偿的方式即可以对曝光模块的曝光位置偏差进行自动校正，而不需要对曝光模块的机械或硬件电路做任何改动。
曝光影像偏差校正方法成像装置

[发明专利]获取光掩模的补偿掩膜的方法、曝光方法及曝光系统-CN202110948648.1在审
发明人：丁德宝 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2021-08-18 - 公布日： 2021-11-16 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本申请实施例涉及半导体领域，提供一种获取光掩模的补偿掩膜的方法、曝光方法以及曝光系统，获取光掩模的补偿掩膜的方法包括：提供光掩模，光掩膜包括感光层和图形化的遮光层，图形化的遮光层位于感光层表面；利用曝光机台对光掩模进行临界尺寸偏差测试，获取光掩模的特征尺寸的偏差区域以及偏差区域具有的偏差值；基于偏差区域以及偏差值，形成与曝光机台对应的补偿掩膜，补偿掩膜内具有衰减区域，在利用光掩膜进行曝光处理期间，补偿掩膜位于光掩膜与曝光光源之间，且衰减区域与偏差区域正对，衰减区域用于衰减曝光光源发出经由衰减区域到达偏差区域的光线的光照强度，至少可以提高光掩模的临界尺寸均匀性。
获取光掩模补偿方法曝光系统

[发明专利]自动曝光方法与装置-CN200810103479.6无效
发明人：沈操;王浩 -专利权人：北京中星微电子有限公司
申请日： 2008-04-07 - 公布日： 2008-09-10 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：本发明公开了一种自动曝光方法，该方法包括，A.在初步曝光并提取图像数据后，根据线性数据中图像亮度值和曝光值之间的关系，计算目标曝光值和当前曝光值；B.根据所述目标曝光值和所述当前曝光值确定曝光值差值，根据所述曝光值差值进行曝光时间偏差值和亮度增益偏差值的计算；C.按照所述曝光时间偏差值和所述亮度增益偏差值，将曝光图像调整到新曝光时间和新亮度增益，判断所述新曝光时间和新亮度增益下的图像的亮度值与目标亮度值之差是否满足条件，若否，继续进行A的计算，直到图像的亮度值与目标亮度值之差满足条件同时，本发明还公开了一种自动曝光装置。本发明实施例采用线性图像数据进行处理，减小了自动曝光的计算量。
自动曝光方法装置

[发明专利]成像装置以及曝光影像偏差的校正方法-CN200810217648.9无效
发明人：高云峰;孙海翔 -专利权人：深圳市大族激光科技股份有限公司;深圳市大族数码影像技术有限公司
申请日： 2008-11-25 - 公布日： 2009-07-15 - 主分类号： B41J2/435 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光影像偏差的校正方法，其包括以下步骤：通过影像检测装置对成像面上的测试版进行采样检测，获得曝光模块在成像面上的实际曝光影像的位置数据；生成能够校正所述曝光模块在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息；按照所述曝光控制信息，控制所述曝光模块在所述成像面上进行曝光时的运动，进行补偿校正。本发明的曝光影像偏差的校正方法通过影像检测装置对实际的曝光影像的位置数据进行检测，生成补偿校正的曝光控制信息，并以此对曝光模块的运动进行控制，实现校正。
成像装置以及曝光影像偏差校正方法

[发明专利]测距装置及其控制方法-CN202210289420.0在审
发明人：今井猛 -专利权人：日立乐金光科技株式会社
申请日： 2022-03-22 - 公布日： 2022-10-21 - 主分类号： G01S7/282 文献下载
摘要：测距装置通过照射光被对象物反射到返回为止的飞行时间来测定到该对象物为止的距离，通过曝光栅移位控制部改变曝光栅的移位量的同时通过亮度测定部测定曝光的电荷量作为亮度，将亮度最大的曝光栅的移位量设为其他测距装置的发光曝光定时，通过曝光栅周期控制部改变曝光栅的周期的同时通过亮度测定部计算曝光的电荷量的亮度的偏差，根据偏差的有无判定为曝光栅的周期的值是其他测距装置的发光期间，通过曝光栅周期控制部改变曝光栅的周期的同时通过亮度测定部计算曝光的电荷量的亮度的偏差，判定为偏差最小时的曝光栅的周期的值的1/2是其他测距装置的发光周期。
测距装置及其控制方法

[发明专利]数字放射成像曝光剂量的评价方法-CN201310440199.5在审
发明人：郭朋;李运祥 -专利权人：深圳市蓝韵实业有限公司
申请日： 2013-09-25 - 公布日： 2015-03-25 - 主分类号： G03B7/00 文献下载
摘要：本发明公开一种数字放射成像曝光剂量的评价方法，其包括步骤：采集不同曝光电流下的多幅曝光图像，并记录每幅曝光图像对应的曝光剂量Dose_i，通过线性拟合公式为Dose_i=Slop*Mean_i+Offset确定每幅曝光图像的灰度均值Mean_i与对应的曝光剂量Dose_i进行线性拟合时的斜率Slop和偏移量Offset；在待评价的曝光图像中提取感兴趣区域并计算感兴趣区域的感兴趣值Value，利用公式EI=Slop*Value+Offset计算曝光指数EI；通过计算曝光偏差指数DI，EI_T为预设的目标曝光指数，曝光偏差指数DI为正时表示曝光剂量偏高，曝光偏差指数DI为负时表示曝光剂量偏低本发明通过计算曝光偏差指数DI来对曝光剂量进行客观的量化评估，从而方便后续调整曝光参数，获得曝光剂量适当的图像。
数字放射成像曝光剂量评价方法

[发明专利]控制蚀刻偏差的方法-CN200710048000.9有效
发明人：罗大杰 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2007-11-08 - 公布日： 2009-05-13 - 主分类号： G05D3/20 文献下载
摘要：本发明提供一种控制蚀刻偏差的方法，蚀刻偏差是光刻后特定图形尺寸的大小ADI CD与蚀刻后介质层尺寸的大小AEI CD的差值；其中，该方法包括建立数据库步骤和自动控制步骤，首先建立不同曝光焦距对应的不同蚀刻偏差的数据库，然后在实际工艺中可以执行自动控制的步骤，该自动控制步骤包括如下子步骤：a1.先获取ADI CD的测量值和AEI CD的测量值，然后获取对应的蚀刻偏差；a2.搜索数据库找到与该蚀刻偏差最匹配的曝光焦距；a3.将现有的曝光焦距设定为搜索到的最匹配的曝光焦距。本发明有效克服曝光焦距在使用过程中由于漂移导致这一缺陷；还可以实时监控蚀刻偏差，根据蚀刻偏差实时调整曝光焦距。
控制蚀刻偏差方法

[发明专利]曝光机镜组条纹的改善方法-CN201610504092.6有效
发明人：丁磊 -专利权人：武汉华星光电技术有限公司
申请日： 2016-06-29 - 公布日： 2017-12-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光机镜组条纹的改善方法，该方法通过设有测量标记图案的测试光罩和选定的两个相邻的投影镜头对基板进行两次曝光，该两次曝光时，通过改变两个投影镜头的相对位置，使得用该两个投影镜头对基板进行第二次曝光时投影到基板上的图像相对于第一次曝光时投影到基板上的图像形成一定的偏差，通过测量形成在基板上两层测量标记之间的实际偏差量，再计算实际偏差量与理论偏差量之间的差值，得出该选定的两投影镜头的接续部偏差量，最后将得到的接续部偏差量输入曝光机，进行接续部偏差量补正，从而改善接续部的特征线宽和重合精度
曝光机镜组条纹改善方法

[发明专利]曝光工艺及曝光机-CN202110972435.2在审
发明人：倪沁心;陈铁玉;陈建明;梁添贵 -专利权人：广东华恒智能科技有限公司
申请日： 2021-08-24 - 公布日： 2021-11-23 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本申请公开了一种曝光工艺及曝光机。在柔性线路板与菲林片之间的尺寸偏差值大于对位精度公差时，可以对柔性线路板进行分区曝光，通过分区曝光的方法，使区域与菲林片相对应部分之间的尺寸偏差值同比例缩小，使得区域与菲林片相对应部分之间的尺寸偏差值能够≤对位精度公差，使区域能够进行曝光，然后通过多次曝光，即可将原本无法曝光的柔性线路板进行曝光，提高了产品生产速率。
曝光工艺

[发明专利]数字乳腺X射线成像系统曝光剂量的评价方法-CN201410280940.0有效
发明人：郭朋;秦启兴;鄢照龙;李勇;赵明 -专利权人：深圳市蓝韵实业有限公司
申请日： 2014-06-20 - 公布日： 2018-04-20 - 主分类号： A61B6/00 文献下载
摘要：本发明公开一种数字乳腺X射线成像系统曝光剂量的评价方法，包括如下步骤制定目标曝光指数；计算偏差指数DI。使用本发明的技术方案，根据曝光指数与目标曝光指数的偏差来评价乳腺图像曝光剂量高低的方法，从而方便医生后续调整曝光参数，获得曝光剂量适当的图像，算法简单，使用方便。
数字乳腺射线成像系统曝光剂量评价方法

[发明专利]一种掩膜版图形关键尺寸精度优化方法-CN202210205001.4在审
发明人：徐智俊;李文;徐兵;杜晓威 -专利权人：合肥清溢光电有限公司
申请日： 2022-03-02 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明涉及掩膜版光刻曝光，具体涉及一种掩膜版图形关键尺寸精度优化方法，设计具有不同图形缝隙面积占比ε的图形，并进行曝光量δ设计；采用固定的湿法制程工艺和CD测量系统，并计算关键尺寸偏差，建立曝光量δ与图形缝隙面积占比ε的关键尺寸偏差模型；截取客户订单主图形，分析计算对应的图形缝隙面积占比ε；基于关键尺寸偏差模型选择合适的曝光量δ，并根据关键尺寸偏差结果进行优化；本发明提供的技术方案能够有效克服现有技术所存在的光刻曝光图形在关键尺寸上与设计值之间存在不稳定偏差的缺陷
一种版图关键尺寸精度优化方法

[发明专利]拍摄装置和拍摄方法-CN201710196016.8在审
发明人：野田雅隼 -专利权人：奥林巴斯株式会社
申请日： 2017-03-29 - 公布日： 2017-10-20 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：执行根据摄像部输出的摄像信号计算适当曝光量与当前设定的实际曝光量之间的偏差的曝光量偏差计算步骤(S1)、变更光圈的开口而控制摄像部的曝光的第1曝光控制步骤(S11、S17、S27、S33)、不变更光圈的开口而控制摄像部的曝光的第2曝光控制步骤(S13、S19、S29、S35)、根据偏差选择第1曝光控制步骤或第2曝光控制步骤来控制曝光的控制步骤(S3、S5、S21)。
拍摄装置方法

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