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[发明专利]定位装置、光刻装置和物品制造方法-CN202211187954.9在审
发明人：金子慎也 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2022-09-28 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：定位装置具有：基板支承部，通过对基板的下表面喷出气体而使所述基板浮起，从而以非接触状态支承所述基板；多个吸引保持部，对由所述基板支承部以非接触状态支承的所述基板的下表面进行吸引，从而限制所述基板向与基板表面平行的方向的位移；支承构件，支承所述多个吸引保持部；以及旋转机构，通过使所述支承构件绕与所述基板表面交叉的轴旋转，从而不使所述基板支承部旋转，而借助所述多个吸引保持部使所述基板旋转。
定位装置光刻物品制造方法

[发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN202010948268.3在审
发明人：洼田俊也;松井绘美;山崎克弘;大谷义和;富冈恭平 -专利权人：信越工程株式会社;芝浦机械电子装置株式会社
申请日： 2020-09-10 - 公布日： 2021-03-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种可提高基板品质的基板处理装置及基板处理方法。实施方式的基板处理装置包括：平台，支撑处理对象物，所述处理对象物具有基板、包围基板的周围的圈、以及粘接于基板的下表面及圈的下表面的切割带；以及液体供给部，根据平台的转速，朝向由通过旋转机构进行旋转的平台支撑的处理对象物的圈的上表面、由通过旋转机构进行旋转的平台支撑的处理对象物的基板与圈之间、及由通过旋转机构进行旋转的平台支撑的处理对象物的基板的外周端部的任一者，喷出不与用以处理基板的处理液混合且比重大于处理液的液体，向处理对象物的基板与圈之间供给液体
处理装置方法

[发明专利]基板处理装置和基板处理装置的处理方法-CN201710142173.0有效
发明人：天野嘉文;守田聪;池边亮二;宫本勲武 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-03-10 - 公布日： 2022-03-04 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：提供基板处理装置和基板处理装置的处理方法。使得即使在与基板的周缘部相向的位置配置拍摄装置也能够进行良好的拍摄。进行去除基板(W)的周缘部的膜的处理的基板处理装置(16)具备：旋转保持部(210)，其保持所述基板并使所述基板旋转；第一处理液供给部(250A)，其在通过所述旋转保持部而基板正在向第一旋转方向(R1)旋转时，向所述基板的周缘部供给用于去除所述膜的第一处理液；拍摄部(270)，其设置于比所述基板中的第一处理液的到达区域(902)靠所述第一旋转方向上的上游侧的位置来拍摄所述基板的周缘部。
处理装置方法

[发明专利]基板盒的保持装置及其储存方法-CN200710127840.4无效
发明人：元岛秀人;饭尾善秀;山下正美 -专利权人： NEC液晶技术株式会社
申请日： 2007-06-29 - 公布日： 2008-01-02 - 主分类号： H01L21/673 文献下载
摘要：基板盒的保持装置包括用于保持具有基板的盒的支撑基底。倾斜器件固定到支撑基底，用于通过将支撑基底旋转90以上，使支撑基底绕水平轴从其中基板顶表面向上设置的水平位置旋转到其中基板顶表面向下设置的过垂直位置。基板盒的储存方法包括几乎水平地在盒中储存基板、将盒固定在支撑基底上、和绕旋转轴使支撑基底如此旋转，即基板旋转到超过90度的角度。
基板盒保持装置及其储存方法

[发明专利]旋转头、操作旋转头的方法及用旋转头处理基板的装置-CN200710188251.7有效
发明人：金柱元;催基勋;赵重根;具教旭;崔重奉 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2007-11-23 - 公布日： 2008-06-04 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明公开了旋转头、操作旋转头的方法及用旋转头处理基板的装置，为提高效率而发明。所述旋转头包括：旋转体，卡住/放开工具，驱动单元。所述基板处理装置包括：壳体，旋转头，注入部件。一种操作旋转头的方法，包括：将基板加载到具有顶部表面的物体上，在所述顶部表面上，设置有第一和第二卡销；在第一个处理过程时间里，通过第一卡销卡住基板，并且在旋转该物体时执行基板处理的过程；在第二个处理过程时间里，通过第二个卡销卡住基板，并且在旋转该物体时执行基板处理的过程。本发明能够防止处理液残留在基板的表面，提高处理效率。
旋转操作方法处理装置

[实用新型]基板处理装置-CN201920567123.1有效
发明人：川渕洋介;河野央 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-04-24 - 公布日： 2019-12-03 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供一种基板处理装置，包括：基板旋转机构；处理液喷出部，其设置在上述基板旋转机构的上方；置换液喷出部，其设置在上述基板旋转机构的上方；以及惰性气体喷出部，其设置在上述基板旋转机构的上方。
基板旋转机构喷出部处理液喷出部基板处理装置本实用新型惰性气体置换液

[发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN201910677246.5在审
发明人：小原隆宪;毛利信彦 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-07-25 - 公布日： 2020-02-21 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供基板处理装置和基板处理方法。提供一种能够抑制微粒向基板的下表面附着的技术。本公开的基板处理装置包括旋转板、多个固定支承部、多个可动支承部以及多个提升销。旋转板能够旋转。多个固定支承部固定地设于旋转板上，沿着旋转板的周向呈圆弧状延伸，并支承基板。多个可动支承部以能够相对于旋转板接近和远离的方式设于旋转板上，并支承基板。多个提升销将多个可动支承部向上方推起。
处理装置方法

[实用新型]一种可变角度的卫星装配平台-CN202221849020.2有效
发明人：不公告发明人 -专利权人：上海沪航卫星科技有限公司
申请日： 2022-07-18 - 公布日： 2022-12-13 - 主分类号： B25H1/14 文献下载
摘要：本申请涉及航天技术领域，公开了一种可变角度的卫星装配平台，包括底座，底座上设置有旋转基板，旋转基板的一端设置有旋转支撑杆，旋转支撑杆转动设置在底座上，且旋转基板以旋转支撑杆为圆心转动设置在底座上，旋转基板上设置有固定件，旋转基板上设置有旋转机构，旋转机构上固定设置有连接板。本申请具有能够通过旋转基板和旋转机构，使用旋转机构带动连接板进行转动，从而对卫星角度进行初步转动调节，旋转基板通过旋转机构和连接板带动卫星沿垂直初步转动调节的方向再次进行转动调节，从而实现卫星装配过程中的多角度调节
一种可变角度卫星装配平台

[实用新型]一种旋转开关-CN200720051745.6无效
发明人：杨永山;杨志民 -专利权人：杨永山
申请日： 2007-05-22 - 公布日： 2008-07-09 - 主分类号： H01H19/10 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种旋转开关，包括固定金属架、旋转轴、回路基板、折动子、端子以及基板，该折动子嵌于回路基板上，该端子嵌于该基板上，该固定金属架与基板扣合，该回路基板设于固定金属架与基板之间，且折动子与端子电性连接，该旋转轴依次插装于固定金属架的轴孔、回路基板的卡孔及基板的嵌孔中，且旋转轴与卡孔固接，进而旋转轴与回路基板之间形成同步转动结构，该旋转轴相对于轴孔、嵌孔内呈可转动结构。其利用旋转轴分别与固定金属架、基板双向结合代替习用的单向固定之方式，可有效地增强旋转轴的稳定性，避免了习用摇晃或脱落现象而导致电接触不良发生。
一种旋转开关

[发明专利]清洗装置、研磨装置、在清洗装置中计算基板的旋转速度的装置及方法-CN202080090122.8有效
发明人：松田道昭;中野央二郎;大垣冬季;渡边裕辅;国泽淳次 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2020-12-21 - 公布日： 2023-05-05 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：清洗装置具备：多个辊，该多个辊保持基板的周缘部；旋转驱动部，该旋转驱动部通过驱动所述多个辊旋转而使所述基板旋转；清洗部件，该清洗部件与所述基板抵接而进行该基板的清洗；清洗液供给喷嘴，该清洗液供给喷嘴向所述基板供给清洗液；传声器，该传声器对由于所述基板的周缘部的切口与所述多个辊接触而产生的声音进行检测；以及旋转速度计算部，该旋转速度计算部基于由所述传声器检测的声音计算所述基板的旋转速度。
清洗装置研磨计算旋转速度方法

[发明专利]一种绝缘子清洗装置-CN201811410962.9在审
发明人：刘畅;魏金林;邱桂尧;孙小伟;程建登;禹晋云;杨涛 -专利权人：中国南方电网有限责任公司超高压输电公司昆明局
申请日： 2018-11-24 - 公布日： 2019-02-12 - 主分类号： B08B3/06 文献下载
摘要：一种绝缘子清洗装置，包括：移动基板(2)、旋转基板(5)、旋转条板(7)、第一驱动装置、第二驱动装置、第三驱动装置、清洗组件；其中，所述移动基板(2)被所述第一驱动装置驱动可在水平面内移动；所述移动基板(2)上安装有弧形导轨(21)，所述旋转基板(5)被所述第二驱动装置驱动可在水平面内沿着弧形导轨(21)旋转；所述旋转基板(5)两端对称安装有所述旋转条板(7)，旋转条板(7)的一端可转动的安装在所述旋转基板(5)上，所述旋转条板(7)的另一端连接所述清洗组件，所述旋转条板(7)被所述第三驱动装置驱动可在水平面内转动。
旋转条旋转基板移动基板绝缘子清洗装置第二驱动装置第一驱动装置弧形导轨清洗组件驱动装置驱动两端对称一端连接可转动转动移动

[发明专利]能旋转状态检测装置和方法、以及使用该装置的基板处理装置和使用该方法的基板处理方法-CN201410228400.8有效
发明人：高桥喜一;小林健;高畠裕二;伊藤尚秀;菅原克昭 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2014-05-27 - 公布日： 2018-12-28 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明提供一种能旋转状态检测装置和方法、以及使用该装置的基板处理装置和使用该方法的基板处理方法。一种能旋转状态检测装置，其用于对成为如下状态的情况进行检测：基板(W)被载置到形成在设置于腔室内的旋转台的表面上的基板载置用的凹部上，即使使上述旋转台旋转上述基板也不会从上述凹部飞出。上述能旋转状态检测装置具有能旋转状态检测部件，该能旋转状态检测部件对如下情况进行检测：在上述基板被载置到上述凹部上时，上述基板的端部的表面的高度成为能够使上述旋转台开始旋转的规定值以下。
旋转状态检测装置方法以及使用处理

[实用新型]一种绝缘子清洗装置-CN201821944769.9有效
发明人：刘畅;魏金林;邱桂尧;孙小伟;程建登;禹晋云;杨涛 -专利权人：中国南方电网有限责任公司超高压输电公司昆明局
申请日： 2018-11-24 - 公布日： 2019-08-06 - 主分类号： B08B3/06 文献下载
摘要：一种绝缘子清洗装置，包括：移动基板(2)、旋转基板(5)、旋转条板(7)、第一驱动装置、第二驱动装置、第三驱动装置、清洗组件；其中，所述移动基板(2)被所述第一驱动装置驱动可在水平面内移动；所述移动基板(2)上安装有弧形导轨(21)，所述旋转基板(5)被所述第二驱动装置驱动可在水平面内沿着弧形导轨(21)旋转；所述旋转基板(5)两端对称安装有所述旋转条板(7)，旋转条板(7)的一端可转动的安装在所述旋转基板(5)上，所述旋转条板(7)的另一端连接所述清洗组件，所述旋转条板(7)被所述第三驱动装置驱动可在水平面内转动。
旋转条旋转基板移动基板绝缘子清洗装置第二驱动装置第一驱动装置弧形导轨清洗组件驱动装置驱动两端对称一端连接可转动转动移动

[发明专利]清洗基板的方法和装置-CN201880087254.8在审
发明人：王晖;王希;张晓燕;陈福发;陈福平 -专利权人：盛美半导体设备(上海)股份有限公司
申请日： 2018-01-23 - 公布日： 2020-09-04 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明揭示了清洗基板的方法和装置，该基板(1010)包括图案结构特征(4034)。清洗基板的方法包括将基板放置在可以使基板旋转的基板保持装置(1014)上；输送清洗液(1032)到基板上；当通过换能器(1004)向清洗液施加声能时，通过基板保持装置以第一速率旋转基板；当换能器没有向清洗液施加声能时，通过基板保持装置以高于第一速率的第二速率旋转基板。
清洗方法装置

[发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN201110072471.X有效
发明人：桥诘彰夫;赤西勇哉;川口贤士;山本学 -专利权人：大日本网屏制造株式会社
申请日： 2011-03-22 - 公布日： 2011-10-12 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供基板处理装置及基板处理方法，本发明的基板处理装置，其特征在于，包括：密闭腔室，其内部空间相对外部密闭，该密闭腔室包括具有开口的腔室主体、能旋转地设置在所述腔室主体上并使所述开口闭塞的盖部件、用液体密封所述盖部件与所述腔室主体之间的第一液体密封结构；盖部件旋转单元，其用于使所述盖部件旋转；基板保持旋转单元，其在所述密闭腔室的内部空间内，一边保持基板一边使该基板旋转；和处理液供给单元，其向借助所述基板保持旋转单元旋转的基板供给处理液。
处理装置方法