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[发明专利]基板处理装置及基板处理装置的部件检查方法-CN201880043423.8有效
发明人： 桥诘彰夫 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-05-15 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明的基板处理装置，利用处理液进行基板处理，其具有：检查单元，检查构成该基板处理装置的涂敷有树脂涂层的部件的劣化；以及早期劣化部，以比所述部件中应被检查的树脂涂层更容易劣化的方式被涂敷有所述树脂涂层；所述检查单元具有劣化检测单元，该劣化检测单元检测所述早期劣化部中的树脂涂层的劣化，所述检查单元基于该劣化检测单元的检测结果，来判断所述检查对象的部件劣化的程度。
处理装置部件检查方法

[发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN201780005349.6有效
发明人： 桥诘彰夫 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-01-23 - 公布日： 2022-09-13 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：基板处理装置包括：基板保持单元，用于保持基板；旋转单元，使被所述基板保持单元保持的基板绕规定的第一旋转轴线旋转，所述第一旋转轴线通过该基板的主面的中央部；喷嘴，所述喷嘴被设置为能够绕规定的第二旋转轴线自转，并向所述基板的主面喷出处理流体，并且所述喷嘴具有多个喷出口，所述多个喷出口配置在与所述第二旋转轴线分离的位置上；喷嘴臂，用于支承所述喷嘴；喷嘴自转单元，使所述喷嘴绕所述第二旋转轴线自转；处理流体供给单元，向所述多个喷出口供给处理流体；喷嘴移动单元，通过使所述喷嘴臂移动，从而使所述喷嘴在中央部处理位置与周缘部处理位置之间移动，所述中央部处理位置是向基板的主面的中央部供给从所述喷嘴喷出的处理流体的位置，所述周缘部处理位置是向所述基板的主面的周缘部供给从所述喷嘴喷出的处理流体的位置。
处理装置方法

[发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN201680041041.2有效
发明人： 桥诘彰夫 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2016-04-21 - 公布日： 2021-12-21 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法，将含水的冲洗液供给至被保持为水平的基板之后，使含有异丙醇的含IPA液供给至已附着有冲洗液的基板。之后，将水分浓度较低的含IPA液供给至基板。被供给至基板的含IPA液为了被再次供给至基板而被回收。
处理装置方法

[发明专利]基板处理装置-CN201710858732.8有效
发明人：矢野航;桥诘彰夫 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-09-21 - 公布日： 2021-11-05 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种基板处理装置，抑制清洗刷的刷主体中的用于与基板抵接的基板抵接部的大小的变动。基板处理装置具备基板的旋转保持机构、用于使安装有清洗刷的轴移动的刷移动机构，刷主体包括用于形成柱状部分的顶端面的基板抵接部，基板处理装置还具备矫正构件、用于使矫正构件相对地定位于目标位置的相对定位机构。在矫正构件定位于目标位置时，矫正构件的接触部与对象部分彼此重叠，所述对象部分为，将设计刷的设计主体的设计柱状部分的外周面中的设计抵接部、带状的环状部分合起来的部分，接触部形成为将设计刷的对象部分的形状反转的形状，并且接触部中的与带状的环状部分对应的部分，是与轴的中心轴线相对的中心轴线相对面。
处理装置

[发明专利]基板处理装置以及基板处理装置的构件检查方法-CN201880043431.2在审
发明人： 桥诘彰夫 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-05-15 - 公布日： 2020-03-06 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明的基板处理装置用以通过处理液进行基板处理，并具备：检查单元，检查用以构成前述基板处理装置的构件的劣化；前述检查单元具备：拍摄单元，取得前述构件的图像数据；颜色信息取得单元，从通过前述拍摄单元所取得的图像数据取得检查对象的构件的颜色信息；以及劣化判定单元，是依据所取得的前述颜色信息判定前述检查对象的构件的劣化的程度。
处理装置以及构件检查方法

[发明专利]基板处理装置及基板处理装置的部件检查方法-CN201880043588.5在审
发明人： 桥诘彰夫;平田大辅 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-05-15 - 公布日： 2020-02-21 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明的基板处理装置，利用处理液进行基板处理，其具有检查单元，该检查单元检查构成该基板处理装置的涂敷了树脂涂层的金属性部件的劣化，所述检查单元具有测量单元和劣化判断单元，该测量单元测量与检查对象的部件接触的液体中的规定的金属浓度，该劣化判断单元通过将由该测量单元测量出的金属浓度与规定的阈值进行对比，来判断检查对象的部件的劣化程度。
处理装置部件检查方法

[发明专利]基板处理装置-CN201410363150.9有效
发明人： 桥诘彰夫;赤西勇哉;川口贤士;山本学 -专利权人：斯克林集团公司
申请日： 2011-03-22 - 公布日： 2017-12-05 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供基板处理装置，本发明的基板处理装置，其特征在于，包括密闭腔室，其内部空间相对外部密闭，该密闭腔室包括具有开口的腔室主体、能旋转地设置在所述腔室主体上并使所述开口闭塞的盖部件、用液体密封所述盖部件与所述腔室主体之间的第一液体密封结构；盖部件旋转单元，其用于使所述盖部件旋转；基板保持旋转单元，其在所述密闭腔室的内部空间内，一边保持基板一边使该基板旋转；和处理液供给单元，其向借助所述基板保持旋转单元旋转的基板供给处理液。
处理装置

[发明专利]基板处理方法以及基板处理装置-CN201210360017.9有效
发明人：太田乔;赤西勇哉;桥诘彰夫 -专利权人：大日本网屏制造株式会社
申请日： 2012-09-24 - 公布日： 2013-10-23 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：提供基板处理方法及基板处理装置。基板处理方法包括：水分除去工序，从基板上除去水分；硅烷化工序，在所述水分除去工序之后，对基板供给硅烷化试剂；蚀刻工序，在所述硅烷化工序之后，对所述基板供给蚀刻剂。所述基板的表面可以露出氮化膜以及氧化膜，此时，所述蚀刻工序可以是通过所述蚀刻剂对所述氮化膜进行选择蚀刻的选择蚀刻工序。可以通过供给含有蚀刻成分的蒸汽的方式供给所述蚀刻剂。
处理方法以及装置

[发明专利]基板处理方法以及基板处理装置-CN201310008440.7有效
发明人：山口贵大;桥诘彰夫;赤西勇哉;太田乔 -专利权人：大日本网屏制造株式会社
申请日： 2013-01-10 - 公布日： 2013-07-17 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及基板处理方法以及基板处理装置。向基板的表面供给含有能够溶解氟化氢的溶媒物质的溶媒蒸气。由此，通过含有溶媒物质的液膜覆盖基板的表面。然后，向被含有溶媒物质的液膜覆盖的基板的表面供给含有氟化氢的蚀刻蒸气。由此，对基板的表面进行蚀刻。
处理方法以及装置

[发明专利]基板处理方法以及基板处理装置-CN201210557222.4有效
发明人：太田乔;桥诘彰夫;山口贵大;赤西勇哉 -专利权人：大日本网屏制造株式会社
申请日： 2012-12-20 - 公布日： 2013-06-26 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：本发明涉及处理基板的基板处理方法以及基板处理装置。进行一边从配置有基板的密闭空间抽吸气体，一边向密闭空间供给非活性气体的前处理工序。然后进行蚀刻工序，在蚀刻工序中，一边以比前处理工序的排气流量小的排气流量从密闭空间排出气体，一边向密闭空间供给处理蒸气。然后进行后处理工序，在后处理工序中，一边以比蚀刻工序的排气流量大的排气流量从密闭空间抽吸气体，一边向密闭空间供给非活性气体。
处理方法以及装置

[发明专利]基板处理方法及基板处理装置-CN201210315446.4有效
发明人： 桥诘彰夫;赤西勇哉 -专利权人：大日本网屏制造株式会社
申请日： 2012-08-30 - 公布日： 2013-03-13 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：在基板处理装置（1）中，在氧化膜除去部（4）中除去了基板（9）的一个主面上的硅氧化膜之后，在硅烷化处理部（6）中，供给硅烷化材料来对该主面进行硅烷化处理。由此，能够延长从除去硅氧化膜之后到形成硅锗膜为止的Q时间，并且能够降低形成硅锗膜时的预烘烤温度。
处理方法装置

[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN201110302814.7无效
发明人：真柄启二;桥诘彰夫;太田乔 -专利权人：大日本网屏制造株式会社
申请日： 2011-09-28 - 公布日： 2012-05-02 - 主分类号： H01L21/311 文献下载
摘要：本发明的基板处理装置，将磷酸、硫酸和水供给至处理液的流通路，该处理液的流通路从第一储料容器到达被基板保持单元保持的基板。由此，生成磷酸、硫酸和水的混合液。另外，含硫酸的液体和含水的液体在流通路中混合，从而使磷酸、硫酸和水的混合液的温度升高。向被基板保持单元保持的基板供给含沸点附近的磷酸水溶液的混合液。
处理装置以及方法

[发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN201110072471.X有效
发明人： 桥诘彰夫;赤西勇哉;川口贤士;山本学 -专利权人：大日本网屏制造株式会社
申请日： 2011-03-22 - 公布日： 2011-10-12 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供基板处理装置及基板处理方法，本发明的基板处理装置，其特征在于，包括：密闭腔室，其内部空间相对外部密闭，该密闭腔室包括具有开口的腔室主体、能旋转地设置在所述腔室主体上并使所述开口闭塞的盖部件、用液体密封所述盖部件与所述腔室主体之间的第一液体密封结构；盖部件旋转单元，其用于使所述盖部件旋转；基板保持旋转单元，其在所述密闭腔室的内部空间内，一边保持基板一边使该基板旋转；和处理液供给单元，其向借助所述基板保持旋转单元旋转的基板供给处理液。
处理装置方法

[发明专利]回收杯清洗方法以及基板处理装置-CN200710160337.9无效
发明人： 桥诘彰夫 -专利权人：大日本网目版制造株式会社
申请日： 2007-12-19 - 公布日： 2008-06-25 - 主分类号： B08B9/08 文献下载
摘要：本发明提供一种回收杯清洗方法和基板处理装置，该回收杯清洗方法是对回收杯进行清洗的方法，回收杯具有对回收空间划分的内壁，为回收引入至该回收空间的药液而将该药液引向给定的药液回收路径，其中，该回收空间引入有在基板处理中使用过的药液，该方法包括：清洗液清洗步骤，采用清洗液对所述回收空间的内壁进行清洗；药液清洗步骤，在该清洗液清洗步骤之后，采用与应经由所述回收空间回收的所述药液相同种类的清洗用药液，对所述回收空间的内壁进行清洗；废弃步骤，将在所述清洗液清洗步骤中引入至所述回收空间的清洗液、和在所述药液清洗步骤中引入至所述回收空间的清洗用药液引向与所述药液回收路径不同的废液路径而废弃。
回收清洗方法以及处理装置

[发明专利]基板处理方法以及基板处理装置-CN200710108846.7有效
发明人： 桥诘彰夫 -专利权人：大日本网目版制造株式会社
申请日： 2007-06-05 - 公布日： 2007-12-12 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及一种基板处理方法以及基板处理装置，该基板处理方法用于从基板表面剥离并除去不再使用的抗蚀剂。在该基板处理方法中，向在基板保持装置上保持的基板的表面中央部供给抗蚀剂剥离液。另外，向在基板保持装置上保持的基板的表面周边部供给有机溶剂液体。
处理方法以及装置

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