专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]等离子处理方法-CN201710091515.0有效
  • 松原功幸;针贝笃史;伊藤彰宏 - 松下知识产权经营株式会社
  • 2017-02-20 - 2021-12-24 - H01L21/3065
  • 提供一种等离子处理方法,能够以简易的工序实现精细的图案化。等离子处理方法包括:粘附工序,在具备第一主面和第一主面的相反侧的第二主面的基板的第一主面粘附树脂膜;以及图案化工序,对树脂膜进行图案化,从而形成具有使基板的被处理区域露出的开口部的掩模。而且,等离子处理方法包括:第一等离子工序,在包含第一气体的减压环境中生成第一气体的第一等离子,并使掩模暴露于第一等离子,从而减少掩模与第一主面之间的空隙。进而,等离子处理方法包括:第二等离子工序,在包含第二气体的环境中用第二气体生成第二等离子,并使从开口部露出的被处理区域暴露于第二等离子,从而对被处理区域进行蚀刻。
  • 等离子体处理方法
  • [发明专利]陶瓷结构的制造方法-CN201710118080.4有效
  • 山田卓矢;中村浩唯;梅津信幸 - 日本碍子株式会社
  • 2017-03-01 - 2021-01-01 - B28B15/00
  • 本发明提供一种尺寸精度高的陶瓷结构的制造方法。向混炼物(7)进一步添加液体(6)的液体添加工序(S3)、将调整了粘度的成形原料(8)挤出并将蜂窝成形体(2)挤出成形的成形工序(S4)、使蜂窝成形体(2)干燥的干燥工序(S5)、以及测量干燥后的蜂窝干燥(11)的干燥尺寸的尺寸测量工序(S6),其中,液体添加工序(S3)中,基于测量得到的蜂窝干燥(11)的干燥尺寸的测量结果来调整所添加的液体(6)的添加量。
  • 陶瓷结构制造方法
  • [发明专利]等离子处理装置-CN201710148321.X有效
  • 加茂克尚 - 芝浦机械电子装置株式会社
  • 2017-03-13 - 2019-06-21 - H01J37/32
  • 本发明提供一种等离子处理装置,包括:筒形电极,具有作为设有开口部的一端的下端与作为被封闭的另一端的上端,内部导入工艺气体,通过施加电压而使所述工艺气体等离子化;以及作为具有开口的真空容器的腔室,上端经由绝缘构件而安装于开口的筒形电极在腔室的内部延伸存在而且,等离子处理装置还包括:作为搬送部的旋转平台,将利用工艺气体受到处理的工件搬送至筒形电极的开口部之下;护罩,隔着间隙覆盖在真空容器的内部延伸存在的筒形电极;以及间隔件,设置于筒形电极与护罩的间隙中且包含绝缘材料
  • 等离子体处理装置
  • [发明专利]层叠及保护膜-CN201611186540.9有效
  • 户高昌也;星野弘气;大類知生;所司悟 - 琳得科株式会社
  • 2016-12-21 - 2020-08-11 - H01B5/14
  • 本发明提供一种以低成本且简略的工序能够得到依照尺寸形成图案化透明导电膜而成的薄型的透明导电性膜的层叠、在该层叠的透明导电膜层叠侧上层叠透明导电膜而成的层叠、及用于构成这些层叠的保护膜。一种含有透明导电膜层叠用膜、保护膜的层叠等,保护膜在具有基材、层叠在该基材的一个面上的粘着剂层的同时,将层叠在规定的环境下进行加热时的保护膜相对于透明导电膜层叠用膜的粘着力P1设为20~400mN/25mm范围内的数值,且,将层叠在规定的环境下进行加热之后、在规定的环境下进行静置时的保护膜相对于透明导电膜层叠用膜的粘着力P2
  • 层叠保护膜
  • [发明专利]等离子处理方法-CN201710172873.4有效
  • 永海幸一 - 东京毅力科创株式会社
  • 2017-03-22 - 2020-06-02 - H01L21/263
  • 本发明提供一种依次执行多个循环的等离子处理方法,该多个循环各自包括依次执行的多个阶段,该多个阶段是在处理容器内生成相互不同的处理气体的等离子的多个阶段,在从先实施的阶段转移至后续阶段后的适当的时刻改变高频的设定和在一个实施方式所涉及的等离子处理方法中,向等离子处理装置的第一电极和第二电极中的一个电极供给高频。从先实施的阶段转移至后续阶段时切换气体供给系统所输出的处理气体。在切换处理气体后,在反映等离子的阻抗的参数超出了阈值的时刻,改变高频的设定和/或负极性的直流电压的电平的设定。
  • 等离子体处理方法
  • [发明专利]等离子处理方法-CN201710174303.9有效
  • 永海幸一 - 东京毅力科创株式会社
  • 2017-03-22 - 2020-06-02 - H01L21/263
  • 本发明在处理容器内依次生成相互不同的处理气体的等离子的等离子处理中,在气体供给系统所输出的处理气体被切换后的适当的时刻变更高频的设定。在一个实施方式中,在向第一电极或第二电极供给第一高频的状态下气体供给系统所输出的处理气体被切换之后,在反映等离子的阻抗的第一参数超出了第一阈值的时刻,增大第二高频的功率。另外,在向第二电极供给第二高频的状态下气体供给系统所输出的处理气体被切换之后,在反映等离子的阻抗的第二参数超出了第二阈值的时刻,增大第一高频的功率。
  • 等离子体处理方法
  • [发明专利]一种盒结构-CN201310207340.7有效
  • 周明杰;刘先斌 - 深圳市海洋王照明工程有限公司;海洋王照明科技股份有限公司
  • 2013-05-29 - 2017-08-25 - H05K5/04
  • 本发明公开了一种盒结构,用于容置电子元器件,所述盒结构包括一上盖和一底盖,所述上盖包括上盖主体和沿垂直于所述上盖主体方向延伸的第一折边,所述底盖包括底盖主体和沿垂直于所述底盖主体方向延伸的第二折边,所述盒结构为钣金件,所述第一折边的边沿设贴合于所述底盖主体的第一翻边,所述第二折边的边沿设贴合于所述上盖主体的第二翻边,所述上盖和所述底盖卡合且构成一封闭空腔。该盒结构采用钣金工艺加工而成,工艺过程较简单,小批量生产时,降低了模具成本。而且所述盒结构在棱角处为无缝连接,更加完善的保护了所述盒结构内的元件。
  • 一种结构
  • [发明专利]带支撑的树脂片-CN201710092385.2有效
  • 奈良桥弘久;中村茂雄 - 味之素株式会社
  • 2017-02-21 - 2021-01-01 - C08L63/00
  • 本发明提供降低插入损耗、并且抑制插入损耗的偏差的带支撑的树脂片、印刷布线板、及半导体装置。本发明提供一种带支撑的树脂片,其具备支撑、和设置于支撑上的树脂片,其中,树脂片具有:设置于支撑侧的由第一树脂组合物形成的第一树脂组合物层、和设置在与支撑侧相反的一侧的由第二树脂组合物形成的第二树脂组合物层
  • 支撑树脂

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