专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]硬涂膜-CN201680085264.9有效
  • 星野弘气;大类知生;所司悟 - 琳得科株式会社
  • 2016-08-23 - 2023-09-01 - G02B1/14
  • 本发明提供一种硬涂膜(1),其具备基材膜(2)、层叠在基材膜(2)的至少一个主面侧的光学调整层(3)、及层叠在光学调整层(3)的与基材膜(2)侧相反的主面侧的硬涂层(4),基材膜(2)为聚酰亚胺膜,光学调整层(3)的折射率为聚酰亚胺膜的折射率与硬涂层(4)的折射率之间的值,光学调整层(3)的厚度为30nm以上、700nm以下。所述硬涂膜(1)具有经得起重复弯曲的耐弯曲性,同时不容易产生干涉条纹。
  • 硬涂膜
  • [发明专利]硬涂膜-CN202110239725.6有效
  • 星野弘气;大类知生;所司悟 - 琳得科株式会社
  • 2016-08-23 - 2023-05-23 - G02B1/14
  • 本发明提供一种硬涂膜(1),其具备基材膜(2)、层叠在基材膜(2)的至少一个主面侧的第一硬涂层(3)、及层叠在第一硬涂层(3)的与基材膜(2)侧相反的主面侧的第二硬涂层(4),基材膜(2)为聚酰亚胺膜,第一硬涂层(3)及第二硬涂层(4)由彼此不同的材料构成,第一硬涂层(3)的折射率与第二硬涂层(4)的折射率之差以绝对值计为0.04以下,第一硬涂层(3)的厚度及第二硬涂层(4)的厚度的合计为7μm以上、35μm以下。所述硬涂膜(1)具有经得起重复弯曲的耐弯曲性,同时不容易发生翘曲,进而不容易产生干涉条纹。
  • 硬涂膜
  • [发明专利]耐光性改善膜-CN202211318485.X在审
  • 高冈萌子;星野弘气;荒添铁也 - 琳得科株式会社
  • 2022-10-26 - 2023-04-28 - C08J7/04
  • 本发明提供一种可实现优异的低反射性及耐光性、且同时具有优异的重涂性的耐光性改善膜。该耐光性改善膜具备基材、与设置在所述基材的一个面侧的耐光性改善层,所述耐光性改善层的扩散反射率针对波长380nm~780nm的光而言以平均值计为3%以下,所述耐光性改善层的与所述基材为相反侧的面的水接触角小于80°,所述耐光性改善膜的透光率针对波长310nm~380nm的光而言以平均值计为40%以下,所述耐光性改善层含有光稳定剂。
  • 耐光性改善
  • [发明专利]书写感改善片-CN202111596262.5在审
  • 渡边旭平;中西美奈水;星野弘气 - 琳得科株式会社
  • 2021-12-24 - 2022-08-30 - C08J7/04
  • 本发明提供一种触控笔的书写感优异、同时具有抗病毒性的书写感改善片。所述书写感改善片为具备基材(11)与触控笔所接触的书写感改善层(12)的书写感改善片(1),其中,书写感改善层(12)含有抗病毒剂,使笔尖直径为0.5mm的硬毡芯的触控笔的笔尖在载荷为3.92N的加压条件下在垂直方向上与书写感改善层(12)的触控笔所接触的表面接触、并以100mm/分钟的速度沿与书写感改善层(12)的表面平行的任意一个方向移动,同时测定笔尖阻力,对得到的移动距离‑笔尖阻力的图表进行傅立叶变换,根据变换所得的频率‑振幅图表而得到的频率为1~2Hz的范围内的振幅为1.5以上的波峰数为3以上且20以下。
  • 书写改善
  • [发明专利]书写感改进膜-CN201711114060.6有效
  • 佐佐木辽;星野弘气;仓本达己;大类知生 - 琳得科株式会社
  • 2017-11-13 - 2022-08-16 - C08J7/04
  • [课题]提供能够将书写振动稳定地控制在规定的范围中、从而能够有效地重现在纸上用铅笔书写时的书写感的书写感改进膜。[解决手段]包含基材膜、和书写感改进层的触控面板用的书写感改进膜,书写感改进层由包含作为(A)成分的活性能量射线固化性树脂、和作为(B)成分的填料的书写感改进层形成用组合物的固化物形成,同时作为(B)成分的填料包含非规则形状二氧化硅颗粒,非规则形状二氧化硅颗粒的算数平均粒径为0.5~3μm的范围内的值,并且非规则形状二氧化硅颗粒的Cv值为50~200%的范围内的值。
  • 书写改进
  • [发明专利]书写感改进膜-CN201711114818.6有效
  • 佐佐木辽;星野弘气;仓本达己;大类知生 - 琳得科株式会社
  • 2017-11-13 - 2022-08-16 - C09J7/25
  • [课题]提供能够有效地重现在纸上用铅笔书写时的书写感书写感改进膜。[解决手段]包含基材膜、和书写感改进层的触控面板用的书写感改进膜,以点触笔的轴心与书写感改进膜的膜表面垂直的方式,在载重3.92N的加压条件下使笔尖的直径为0.5mm的具备硬毡笔芯的点触笔的笔尖与书写感改进层的表面接触,同时,使点触笔沿着与书写感改进膜的膜表面平行的任意一个方向以100mm/分钟的速度移动,对此时得到的移动距离(mm)‑笔尖阻力(mN)图进行傅里叶变换而得到的频率(Hz)‑振幅(‑)图,在所述频率(Hz)‑振幅(‑)图中,频率为1~2Hz的范围中的振幅的平均值为0.8~3的范围内的值。
  • 书写改进
  • [发明专利]防反射膜-CN202111347249.6在审
  • 星野弘气 - 琳得科株式会社
  • 2021-11-15 - 2022-05-17 - G02B1/111
  • 本发明提供一种耐擦伤性优异、防反射性能不易下降的防反射膜。一种防反射膜(1),其具备基材(11)、设置在基材(11)的一面侧的硬涂层(12)、及设置在硬涂层(12)的与基材(11)相反的一侧的防反射层(13),其中,防反射层(13)的厚度为0.15μm以上且1μm以下。
  • 反射
  • [发明专利]成型用膜-CN202111351807.6在审
  • 星野弘气 - 琳得科株式会社
  • 2021-11-16 - 2022-05-17 - G02B1/111
  • 本发明提供一种能够抑制因成型部位不同而在防反射性上产生差异的成型用膜。一种成型用膜(1),其具备基材(11)、设置在基材(11)的一面侧的硬涂层(12)、及设置在硬涂层(12)的与基材(11)相反的一侧的防反射层(13),其中,防反射层(13)的厚度为0.15μm以上且1.00μm以下,成型用膜(1)的防反射层(13)侧的面的铅笔硬度为2H以下。
  • 成型
  • [发明专利]书写感改进膜-CN201711115743.3有效
  • 佐佐木辽;星野弘气;仓本达己;大类知生 - 琳得科株式会社
  • 2017-11-13 - 2022-04-05 - C09J7/25
  • [课题]提供能够将书写振动稳定地控制在规定的范围中、从而能够有效地重现在纸上用铅笔书写时的书写感、并且能够有效地抑制眩光的产生的书写感改进膜。[解决手段]包含基材膜、和书写感改进层的触控面板用的书写感改进膜,雾度值为10~40%的范围内的值,同时书写感改进层中的算数平均粗糙度Ra为0.15~1μm的范围内的值,并且以点触笔的轴心与所述书写感改进膜的膜表面垂直的方式,在载重3.92N的加压条件下使笔尖的直径为0.5mm的具备硬毡笔芯的点触笔的笔尖与书写感改进层的表面接触,同时,使所述点触笔沿着与书写感改进膜的膜表面平行的任意一个方向以100mm/分钟的速度移动从而测定笔尖阻力,此时的笔尖滑动系数为0.1~0.5的范围内的值。
  • 书写改进
  • [发明专利]硬涂膜-CN201680085288.4有效
  • 星野弘气;大类知生;所司悟 - 琳得科株式会社
  • 2016-08-23 - 2021-07-13 - G02B1/14
  • 本发明提供一种硬涂膜(1),其具备基材膜(2)、层叠在基材膜(2)的至少一个主面侧的第一硬涂层(3)、及层叠在第一硬涂层(3)的与基材膜(2)侧相反的主面侧的第二硬涂层(4),基材膜(2)为聚酰亚胺膜,第一硬涂层(3)及第二硬涂层(4)由彼此不同的材料构成,第一硬涂层(3)的折射率与第二硬涂层(4)的折射率之差以绝对值计为0.04以下,第一硬涂层(3)的厚度及第二硬涂层(4)的厚度的合计为7μm以上、35μm以下。所述硬涂膜(1)具有经得起重复弯曲的耐弯曲性,同时不容易发生翘曲,进而不容易产生干涉条纹。
  • 硬涂膜

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