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[发明专利]一种渗透膜制备装置-CN201910269887.7有效
发明人：陈玮;胡一川 -专利权人：杭州柏医健康科技有限公司
申请日： 2019-04-04 - 公布日： 2022-01-04 - 主分类号： B01D67/00 文献下载
摘要：本发明提供一种渗透膜制备装置，方便薄膜的制备和转移，并且在转移过程中保持薄膜平整，从而提高薄膜渗透率测试的准确度。该渗透膜制备装置，包括托盘和成膜板，托盘具有第一成膜面，成膜板具有第二成膜面，当托盘与成膜板组合时、第一成膜面和第二成膜面共同形成用于渗透膜成形的面；当托盘与成膜板分离时、成膜板能够带动渗透膜与托盘分离当托盘与成膜板组合时，第一成膜面与第二成膜面位于同一水平面内。
一种渗透制备装置

[实用新型]一种用于渗透膜转移的成膜装置-CN201920451790.3有效
发明人：陈玮;胡一川 -专利权人：杭州柏医健康科技有限公司
申请日： 2019-04-04 - 公布日： 2020-04-21 - 主分类号： B01D65/10 文献下载
摘要：本实用新型提供一种用于渗透膜转移的成膜装置，方便薄膜的制备和转移，并且在转移过程中保持薄膜平整，从而提高薄膜渗透率测试的准确度。该装置包括托盘、成膜板和压膜板，托盘具有第一成膜面，成膜板具有第二成膜面，当托盘与成膜板组合时，第一成膜面和第二成膜面共同形成用于渗透膜成形的面，当托盘与成膜板分离时，成膜板能够带动渗透膜与托盘分离；压膜板与成膜板可拆卸连接，当压膜板与成膜板组合时，压膜板能够使渗透膜固定在压膜板和成膜板之间。
一种用于渗透转移装置

[发明专利]成膜装置及成膜方法-CN202011214509.8有效
发明人：青沼大介 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2020-11-04 - 公布日： 2023-02-28 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明提供一种成膜装置及成膜方法，通过缩短使基板从基板吸附部件(静电吸盘)分离时的时间来谋求成膜装置的高效的运用。本发明的成膜装置是经由掩模在基板的成膜面进行成膜的成膜装置，其特征在于，所述成膜装置具备：基板吸附部件，其具有吸附面，所述吸附面吸附基板的成膜面的相反侧的非成膜面；掩模吸引部件，其隔着基板吸附部件被配设在与掩模相反的一侧，将该掩模向成膜面拉近；以及按压部，所述按压部设置于掩模吸引部件，且朝向基板吸附部件沿与非成膜面交叉的方向延伸，通过使掩模吸引部件朝向基板吸附部件移动，从而使按压部通过形成于基板吸附部件的贯通部并对基板的非成膜面进行按压
装置方法

[发明专利]成膜装置及成膜装置的控制方法-CN202011214135.X有效
发明人：青沼大介;菅原洋纪 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2020-11-04 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明涉及成膜装置及成膜装置的控制方法。通过缩短使基板从基板吸附部件(静电吸盘)分离时的时间从而实现成膜装置的高效运用。一种经由掩模在基板的成膜面成膜的成膜装置，其特征在于，具备：基板支承部，其支承基板的成膜面侧；基板吸附部件，其具有吸附面，所述吸附面吸附基板的成膜面的相反侧的非成膜面；掩模吸引部件，其隔着基板吸附部件配置在与掩模相反的一侧，并向成膜面拉近掩模；以及按压部，其设置于掩模吸引部件，并朝向基板吸附部件沿与非成膜面交叉的方向延伸，通过使掩模吸引部件向基板吸附部件移动，从而利用通过了形成于基板吸附部件的贯通部的按压部和基板支承部夹持基板
装置控制方法

[发明专利]超导成膜用基材和超导线以及超导线的制造方法-CN201380002439.1有效
发明人：长洲义则;樋口优;坂本久树 -专利权人：古河电气工业株式会社
申请日： 2013-02-06 - 公布日： 2016-11-16 - 主分类号： H01B12/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种超导成膜用基材，其为带状的超导成膜用基材，其中，该基材具有：用于使包含超导层的层积体成膜的成膜面；作为上述成膜面相反一侧的面的背面；与上述成膜面和上述背面相连接的一对端面；以及与上述成膜面、上述背面和上述一对端面相连接的一对侧面，上述一对侧面分别包含从上述成膜面的边缘部向着上述背面侧在上述成膜面的面内方向上扩展至外侧的扩展面。
超导成膜用基材导线以及制造方法

[发明专利]棱镜的制造方法、棱镜、光拾取器和液晶投影器-CN200710001713.X有效
发明人：小仓寿人;松叶孝彦;小宫启二;大塚聪美;关口隆史 -专利权人：富士能佐野株式会社
申请日： 2007-01-12 - 公布日： 2007-07-18 - 主分类号： G02B5/04 文献下载
摘要：其方法是：准备三角柱形状的玻璃器材12，在玻璃器材12的成膜面10C上形成介质多层膜11。介质多层膜11所产生的应力使成膜面10C发生歪曲。但在形成介质多层膜11之前，预先使成膜面10C形成曲面形状，以便在与介质多层膜11所产生的应力相反的方向上形成凹面或凸面。并且，当形成介质多层膜11时按照使成膜面10C平面化的曲率，来使成膜面10C形成曲面形状。因此，当在成膜面10C上形成介质多层膜11时，进行校正，使成膜面10C实现平面化。所以，介质多层膜11不会歪曲，可以消除像差等问题。
棱镜制造方法拾取液晶投影

[实用新型]成膜用基板以及旋转成膜装置-CN201821213152.X有效
发明人：北原道隆 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2018-07-27 - 公布日： 2019-03-26 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型提供一种成膜用基板以及旋转成膜装置。在所述成膜用基板的成膜面侧的表面与掩模贴合的状态下，使所述成膜用基板与掩模一起绕与所述成膜用基板的所述成膜面侧的表面垂直的旋转轴旋转，从而在所述成膜用基板上形成膜，所述成膜用基板的特征在于，所述成膜用基板的所述成膜面侧的一部分表面为粗糙面部根据该实用新型，能够利用粗糙面部提高成膜用基板与掩模之间的摩擦阻力，从而可以抑制在旋转成膜时成膜用基板与掩模之间的相对滑动。
成膜基板掩模成膜面成膜装置粗糙面部本实用新型表面垂直摩擦阻力相对滑动旋转轴贴合

[发明专利]成膜方法和成膜装置、自发光元件的制造方法和制造装置-CN200510097106.9无效
发明人：丹博树;安喰隆美 -专利权人：日本东北先锋公司
申请日： 2005-12-30 - 公布日： 2006-09-06 - 主分类号： C23C14/30 文献下载
摘要：在利用设有防止二次电子等到达被成膜面的磁场的电子束蒸镀而形成金属薄膜时，使所形成的金属薄膜的带电状态处于合适状态。一种通过电子束蒸镀在基板(1)的被成膜面(1a)上形成金属薄膜的成膜装置，利用电子束发生器(4)向收容在成膜源(2)内的金属材料(3)照射电子束EB并使其熔化，所产生的金属蒸气蒸镀在基板(1)的被成膜面具有：磁场形成单元(5(磁铁5A、5B))，在被成膜面(1a)和成膜源(2)之间形成与被成膜面(1a)平行的磁场M，以防止由于向成膜源(2)照射电子束(5)而从成膜源(2)朝向被成膜面(1a)的负电荷ES；电荷监视单元(6)，监视被成膜面(1a)周边的正电荷；电荷调整单元(负电荷产生单元7或磁场调整单元8)，根据电荷监视单元(6)的监视结果，调整被成膜面上形成的金属薄膜的电荷状态。
方法装置发光元件制造

[发明专利]成膜装置、电子器件的制造装置、成膜方法及电子器件的制造方法-CN202011543228.7有效
发明人：松本荣一;鹈泽繁行 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2020-12-24 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：提供成膜精度高的成膜装置、电子器件的制造装置、成膜方法及电子器件的制造方法。本发明的成膜装置经由掩模在具有多个单位成膜区域的基板上将成膜材料成膜，掩模具有与单位成膜区域对应的开口，其特征在于，具备：真空容器；基板吸附部件，设置在真空容器内，具有吸附基板的基板吸附面；掩模支承单元，设置在真空容器内并支承掩模；升降部件，使基板吸附部件和掩模支承单元沿与基板吸附面垂直的第一方向移动；位置移动机构，使基板吸附部件和掩模支承单元中的至少一个在与基板吸附面平行的面内移动；以及控制部，利用位置移动机构使掩模的开口与基板的多个单位成膜区域中的每一个对应，按各单位成膜区域依次进行将成膜材料成膜的成膜动作。
装置电子器件制造方法

[发明专利]双面真空成膜方法及利用该方法获得的层积体-CN201210267243.2有效
发明人：梨木智刚;坂田义昌;菅原英男;家仓健吉;滨田明;伊藤喜久;石桥邦昭 -专利权人：日东电工株式会社
申请日： 2012-07-30 - 公布日： 2013-01-30 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明提供一种双面真空成膜方法及利用该方法获得的层积体，该成膜方法能够通过利用简单的装置结构适当地实施加热处理等，有效地制造在双面实施了真空成膜的层积体。将卷绕成卷筒状的长基体的第一面作为被成膜面而沿第一辊室朝向第二辊室的方向从第一辊室输出，对输出的基体进行脱气，在第一成膜室，在脱气的基体的第一面成膜第一膜材料，在第二成膜室，在第一膜材料上成膜第二膜材料，在第二辊室将层积有膜材料的基体卷绕成卷筒状，将与第一面相反一侧的第二面作为被成膜面而沿方向从第一辊室输出卷绕的基体，重复进行上述所有的处理。
双面真空方法利用获得层积

[实用新型]一种撕膜下料装置及其组成的自动烹饪设备-CN202022946697.5有效
发明人：陈华谋;叶海涛;符海明 -专利权人：广东智源机器人科技有限公司
申请日： 2020-12-11 - 公布日： 2021-09-21 - 主分类号： A47J27/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种撕膜下料装置及其组成的自动烹饪设备，种撕膜下料装置包括盖体和撕膜模块，盖体设有投料通道，撕膜模块设置在投料通道，撕膜模块包括第一轴体、第二轴体和动力机构，第一轴体的外侧面包括第一组成面和第二组成面；第二轴体与第一轴体的第一组成面之间可相对并形成间隙，第一轴体在转动过程中第二组成面能与第二轴体抵接；动力机构与第一轴体连接。通过先将膜体伸入第一组成面与第二轴体之间的间隙中，转动第一轴体使第二组成面与第二轴体抵接压紧膜体的同时带动膜体运动，从而从料盒上撕下膜体；当要退膜时，转动第一轴体使第一组成面与第二轴体相对即可直接从间隙中抽出膜体，无需额外的反转退膜操作，退膜更简单、便捷。
一种撕膜下料装置及其组成自动烹饪设备

[发明专利]成膜装置-CN202080075134.3在审
发明人：恩地卓也;小森常范 -专利权人：东丽工程株式会社
申请日： 2020-09-04 - 公布日： 2022-06-14 - 主分类号： C23C16/54 文献下载
摘要：本发明提供一种成膜装置，其能够不降低功能膜的性能而在基材上形成功能膜。具体而言，该成膜装置具备：成膜室(7)，其在以卷对卷方式输送的基材(2)的膜形成面侧形成薄膜；引导部件(8)，其通过与基材(2)的膜形成面侧或其相反侧接触而引导基材(2)的输送方向，从而形成基材(2)的输送路径；保护部件贴合部(9a)，其位于基材(2)的输送路径中的成膜室(7)的下游侧且设置于最先与基材(2)的膜形成面侧接触的引导部件(8)与成膜室(7)之间，将具有挠性的保护部件(B)贴合在基材(2)的膜形成面侧
装置

[发明专利]双面真空成膜方法及利用该方法获得的层积体-CN201210268890.5有效
发明人：梨木智刚;坂田义昌;菅原英男;家仓健吉;滨田明;伊藤喜久;石桥邦昭 -专利权人：日东电工株式会社
申请日： 2012-07-30 - 公布日： 2017-03-01 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明提供双面真空成膜方法及利用该方法获得的层积体，该成膜方法能够通过利用简单的装置结构适当地实施加热处理等，有效地制造在双面实施了真空成膜的层积体。卷成卷筒状的长基体的第一面作为被成膜面，沿从第一辊室朝向第二辊室的第一方向从第一辊室输出卷筒状的长基体，使沿第一方向输出的基体脱气，在第二成膜室在基体第一面将第二膜材料成膜，在第二辊室将使第二膜材料成膜的基体卷绕成卷筒状，沿从第二辊室朝第一辊室的第二方向从第二辊室输出，在第一成膜室在第二膜材料上将第一膜材料成膜，在第一辊室将在第二膜材料上层积第一膜材料的基体卷绕成卷筒状，将与第一辊室卷绕的基体的第一面相反侧的第二面作为被成膜面
双面真空方法利用获得层积

[实用新型]一种掩膜版-CN202222856673.X有效
发明人：贾立永;章丰帆;陈云;张赛 -专利权人：合肥视涯显示科技有限公司
申请日： 2022-10-28 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种掩膜版。该掩膜版包括掩膜版本体，掩膜版本体包括遮挡区和成膜区，遮挡区的成膜面设置有多个盲孔槽；盲孔槽包括位于成膜面同一平面上的开口和位于掩膜版本体内部的底面，底面在第一平面上的垂直投影覆盖开口在第一平面上的垂直投影，其中，第一平面为成膜面所在平面。解决了在成膜加工过程中应力累积导致掩膜版产生形变，从而划伤产品的问题，增加了掩膜版的使用寿命，保证了待加工产品的质量。
一种掩膜版

[发明专利]等离子体成膜装置以及等离子体成膜方法-CN201180071560.0在审
发明人：浜笃郎 -专利权人：三菱电机株式会社
申请日： 2011-08-30 - 公布日： 2014-02-19 - 主分类号： C23C16/505 文献下载
摘要：一种等离子体成膜装置，具有与被成膜物相向的高频电极以及与被成膜物连接的接地电极，使用在高频电极与接地电极之间发生的等离子体对被成膜物进行成膜，其中，高频电极具有：第1高频电极（101），与被成膜物（100）的第1被成膜面（113）相向；以及第2高频电极（102），与被成膜物中的和第1被成膜面相反一侧的第2被成膜面（114）相向，第1高频电极、第2高频电极以及接地电极（103）使得用于第1被成膜面的成膜的第1高频电极以及接地电极之间的等离子体、和用于第2被成膜面的成膜的第2高频电极以及接地电极之间的等离子体同时发生。
等离子体装置以及方法

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