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- [实用新型]成膜机台及成膜系统-CN202220658492.3有效
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周公庆
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通威太阳能（眉山）有限公司
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2022-03-23
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2022-09-06
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B05C11/08
- 本申请提供一种成膜机台及成膜系统，属于太阳能电池领域。成膜机台包括旋转台；旋转台的台面设有多个待加工件固定部，其中，待加工件固定部被配置为能够固定待成膜的待加工件，并使得待加工件的上表面露出；多个待加工件固定部位于台面的边缘，并沿旋转台的周向分布。成膜系统包括上述的成膜机台以及成膜浆料提供装置；成膜浆料提供装置的出料件位于待加工件固定部的上方，并被配置为能够为待加工件的上表面提供成膜浆料。采用上述的成膜机台成膜，能提高成膜的产能，且能提高成膜的均匀性。
- 机台系统
- [实用新型]成膜系统及成膜装置-CN202220519843.2有效
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坂爪崇寛;桥上洋
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信越化学工业株式会社
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2022-03-10
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2022-12-02
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C23C16/40
- 本实用新型的成膜装置对经雾化的原料溶液进行热处理而在基板上进行成膜，所述成膜装置包括：雾化部，将所述原料溶液雾化而产生雾；载气供给部，供给载气，所述载气搬送所述雾化部中所产生的所述雾；成膜部，在内部包括载置所述基板的载置部，将由所述载气搬送的所述雾供给至所述基板上；以及排气部，从所述成膜部排出废气，且在所述成膜部内的所述载置部的上方进而包括：喷嘴，向所述基板上供给所述雾；以及顶板，将从所述喷嘴供给的所述雾进行整流。由此，提供一种能够应用雾CVD法、能够形成膜厚的面内均一性优异的膜的成膜系统及成膜装置。
- 系统装置
- [发明专利]成膜装置及成膜方法-CN201580015142.8在审
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中尾裕利;佐藤诚一;柴智志;坂内雄也;木村孔
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株式会社爱发科
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2015-03-10
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2016-11-16
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C23C14/56
- 本发明提供一种在使片状基材以规定速度移动的同时，隔着掩膜供给成膜材料并在基材的一面上以规定图案连续成膜时，可使片状基材的一部分和片状转印基板的一部分以高精度进行位置对准，并且，可降低装置成本和运营成本的成膜装置具有：以从成膜设备(9)朝向片状基材(Sw)的方向为上，掩膜件移动装置(4)具有片状掩膜件(Sm)的一部分(Sm1)相对于朝一个方向移动的片状基材的一部分(Sw1)在上下方向上距离规定间隔平行移动的平行移动区域形成部(42a、42b)；以及使片状掩膜件与片状基材同步移动的驱动部(42d、DM2)，将平行移动区域形成部和驱动部设置在单一的支架(41)上。
- 装置方法
- [发明专利]成膜方法及成膜装置-CN201380073160.2有效
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古屋英二;小山良介
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中外炉工业株式会社
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2013-11-25
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2016-11-09
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C23C14/35
- 本发明提供一种使用能够进行均匀蒸镀的升华型SiO作为靶材、且能够进行不着色而透明的成膜的方法及装置。以蒸镀面13a朝向成膜室12内侧的方式搬入基材13；在基材13的背面配置磁铁29；在配置于成膜室12内的坩埚21中收纳SiO；利用等离子体发生装置11对作为靶材22的SiO照射等离子体而使SiO蒸发；在基材；通过在等离子体限制空间35内使所述蒸发出的SiO和等离子体反应而使SiO活化形成SiO2，从而不使用氧气作为反应气而在基材13的蒸镀面13a上形成SiO2膜。
- 方法装置
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