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[发明专利]成膜装置-CN202080007249.9有效
发明人：关根元气;中尾裕利 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2020-08-06 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：本发明涉及稳定的蒸镀速度的控制。本发明的成膜装置具有真空容器、成膜源、收容容器、膜厚传感器以及膜厚控制器。所述成膜源收容在所述真空容器。所述收容容器收容在所述真空容器，能够维持比所述真空容器内的压力高的压力。所述膜厚传感器包含具有共振频率的振荡器，在所述膜厚传感器中，在所述振荡器堆积由从所述成膜源释放的成膜材料。所述膜厚控制器收容在所述收容容器，基于所述成膜材料的堆积引起的所述振荡频率的变化，计算从所述成膜源释放的所述成膜材料的释放量。
装置

[发明专利]溅射装置、溅射装置的控制方法和溅射装置用控制装置-CN202280008019.3在审
发明人： 中尾裕利;田中克育;望月仁志;广谷伸哉;大野哲宏 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2022-03-23 - 公布日： 2023-09-01 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明的一个方式的溅射装置具有：一个以上的靶，其与基板相向地配置且由成膜材料构成；一个以上的磁铁单元，其配置在所述靶的背面；控制装置，其具有最优解计算部，所述最优解计算部基于至少包含设定条件和由该溅射装置成膜的所述基板上的成膜材料的膜质的测定值的输入信息，计算关于至少一个所述磁铁单元的所述设定条件的最优解，所述设定条件包含各所述磁铁单元的位置、各所述磁铁单元的移动模式、以及构成各所述磁铁单元的电磁铁的流入电流或流入电流变动模式中的至少一个；以及调整单元，其能够基于所述最优解，个别地调整所述磁铁单元的所述设定条件。
溅射装置控制方法

[发明专利]真空装置-CN201880015142.1有效
发明人：铃木杰之;武者和博;松崎淳介;田宫慎太郎;南展史;中尾裕利 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2018-11-26 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明提供基板不会破损且能够在短时间从真空气氛改变成大气压气氛的真空装置。在处理对象物（10）和供气排气口（9）之间配置第一整流板（5），使得从供气排气口（9）喷出的升压用气体不会与搬运对象物（10）碰撞。在盖部件（16）的壁面和搬运对象物（10）之间设置第二整流板（6），使升压用气体从比搬运对象物（10）中的基板（7）高的上侧贯通孔（13）、比该基板（7）低的下侧贯通孔（23）向基板（7）和第一整流板（5）之间、基板（7）和台（15）之间导入，基板（7）不会抬起。
真空装置

[发明专利]真空处理装置-CN202010656823.5在审
发明人： 中尾裕利 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2016-12-16 - 公布日： 2020-10-09 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明提供一种在通过型的真空处理装置中、能够充分地进行省空间化的技术。本发明的真空处理装置（1）具有形成有单一的真空气氛的真空槽（2）；第1以及第2处理区域（4、5），设置于真空槽（2）内，具有在基板（10）的平面的处理面上进行处理的处理源；以及输送驱动部件（33），构成以通过第1以及第2处理区域（4、5）的方式输送基板（10）的输送路径。该输送路径以相对于下述平面（铅垂面）投影时为一连串的环状的方式形成，该平面包括输送的基板（10）的处理面上的任意点的法线、以及直线地通过第1以及第2处理区域（4、5）时基板（10）的处理面上的任意点所描绘的轨迹线段。
真空处理装置

[发明专利]真空处理装置-CN201680074016.4有效
发明人： 中尾裕利 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2016-12-16 - 公布日： 2020-06-19 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明提供一种在通过型的真空处理装置中、能够充分地进行省空间化的技术。本发明的真空处理装置（1）具有形成有单一的真空气氛的真空槽（2）；第1以及第2处理区域（4、5），设置于真空槽（2）内，具有在基板（10）的平面的处理面上进行处理的处理源；以及输送驱动部件（33），构成以通过第1以及第2处理区域（4、5）的方式输送基板（10）的输送路径。该输送路径以相对于下述平面（铅垂面）投影时为一连串的环状的方式形成，该平面包括输送的基板（10）的处理面上的任意点的法线、以及直线地通过第1以及第2处理区域（4、5）时基板（10）的处理面上的任意点所描绘的轨迹线段。
真空处理装置

[发明专利]掩膜板及成膜方法-CN201810788659.6有效
发明人：三上瞬;中尾裕利;田宫慎太郎;朝比奈伸一 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2018-07-18 - 公布日： 2019-09-20 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜板，其在通过磁铁阵列的吸引力将掩膜板紧密贴合在基板的下表面以使基板(Sw)夹隔在接触板(Tp)和掩膜板(MP)之间时，可尽量抑制在图案掩膜部(1)的透孔(11)周边的突起，并可防止已形成的薄膜上发生掩膜失效。本发明的掩膜板(MP)具有：图案掩膜部(1)，其由以规定的图案开设并贯通板厚度方向的多个透孔(11)构成；以及遮挡部(2)，其位于图案掩膜部的周围。至少在磁铁的并列设置方向上与图案掩膜部相邻的遮挡部的部分(21)形成为与图案掩膜部的磁导率相同。
图案掩膜掩膜板基板透孔遮挡并列设置磁铁阵列紧密贴合磁导率贯通板接触板下表面磁铁突起成膜掩膜薄膜图案

[发明专利]间隙计量方法-CN201711430447.2有效
发明人：朝比奈伸一;中尾裕利;吉田雄一;坂内雄也 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2017-12-26 - 公布日： 2019-03-05 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：一种间隙计量方法，包含：以从掩膜板向基板的方向为上，使基板和掩膜板上下对齐并重叠，并借助接触板将保持装置配置在基板上，从而以夹持该基板的方式将掩膜板保持在接触板上；以在基板的一面内彼此正交的两个方向为X轴方向和Y轴方向，将具有发光元件和受光元件的计量部隔开配置在计量对象物下方；以发光元件发出的光在基板下表面反射的位置为起点，从该起点开始使计量部对计量对象物在X向和Y向中的至少一个方向上相对进行扫描，在发光元件发出的光在掩膜板发生反射的计量位置从发光元件照射光并由受光元件接收该反射的光，从而取得掩膜板相对于计量部的位移量所对应的扫描数据；以及根据扫描数据和掩膜板的厚度计量基板和掩膜板间的间隙。
掩膜板基板发光元件计量部反射计量计量对象扫描数据受光元件接触板基板下表面保持装置计量位置上下对齐位移量照射光正交的隔开夹持配置扫描

[发明专利]真空处理装置-CN201780021217.2在审
发明人：南展史;铃木杰之;武者和博;中尾裕利;佐藤诚一 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2017-11-01 - 公布日： 2018-11-23 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：提供一种设置面积较小的真空处理装置。在真空槽（12）的内部配置升降板（15），将基板保持装置（27）配置到升降板（15）上而使其能够升降移动。在位于升降板（15）升降移动的升降区域（12b）的侧方的处理区域（12a）内设置上方侧处理装置（40）和下方侧处理装置（50），借助上方侧移动装置（35）和下方侧移动装置（36），使基板保持装置（27）穿过处理区域（12a）内，借助交接装置（37），在上方侧移动装置（35）或下方侧移动装置（36）与升降板（15）之间进行基板保持装置（27）的交接。由于能够在上方侧和下方侧进行真空处理，所以真空处理装置（10）的设置面积较小。
侧移动升降板基板保持装置真空处理装置处理区域处理装置升降移动交接装置升降区域真空处理真空槽侧方配置交接穿过

[发明专利]对准装置和对准方法-CN201480004760.8有效
发明人：木村孔;中尾裕利;柴智志;坂内雄也 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2014-01-15 - 公布日： 2017-08-18 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本发明提供一种使加工掩模和基板位置对准并且精度高地紧贴的技术。在使在分离的状态下进行了位置对准的加工掩模（31）和基板（32）靠近移动来紧贴时，一边进行位置对准一边进行靠近移动。因此，即使在靠近移动中产生位置对准的误差，也能够消除该误差。即使基板（32）的垂下部分与加工掩模（31）接触，也一边进行位置对准一边进一步进行靠近移动。
对准装置方法

[发明专利]成膜装置及成膜方法-CN201580015142.8在审
发明人： 中尾裕利;佐藤诚一;柴智志;坂内雄也;木村孔 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2015-03-10 - 公布日： 2016-11-16 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明提供一种在使片状基材以规定速度移动的同时，隔着掩膜供给成膜材料并在基材的一面上以规定图案连续成膜时，可使片状基材的一部分和片状转印基板的一部分以高精度进行位置对准，并且，可降低装置成本和运营成本的成膜装置。具有：以从成膜设备(9)朝向片状基材(Sw)的方向为上，掩膜件移动装置(4)具有片状掩膜件(Sm)的一部分(Sm1)相对于朝一个方向移动的片状基材的一部分(Sw1)在上下方向上距离规定间隔平行移动的平行移动区域形成部(42a、42b)；以及使片状掩膜件与片状基材同步移动的驱动部(42d、DM2)，将平行移动区域形成部和驱动部设置在单一的支架(41)上。
装置方法

[发明专利]输送装置-CN201180040824.6有效
发明人：吉野孝广;吾乡健二;中尾裕利 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2011-08-02 - 公布日： 2013-04-17 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：提供一种具有两条臂部、能够将两片基板同时输送到相同的高度的输送装置，所述两条臂部具备单纯的形状的手。具有两条臂部（20L1、20R1）；各臂部分别具有以主主动旋转轴线（O）为中心旋转的主主动臂（21L1、21R1）、以通过主主动臂的前端的副主动旋转轴线（SL、SR）为中心旋转的副主动臂（23L1、23R1）、和以通过副主动臂的前端的手主动旋转轴线（PL、PR）为中心旋转的手（26L1、26R1）。各载置部（27L1、27R1）配置在相互相同的高度上；各主主动旋转轴线（O）相同；各载置部分别从设置有载置部的臂部的中心轴线离开而配置；将各臂部的副主动旋转轴线（SL、SR）与手主动旋转轴线（PL、PR）之间连结的线段的长度比将主主动旋转轴线（O）与副主动旋转轴线（SL、SR）之间连结的线段的长度短。
输送装置

[发明专利]驱动装置及输送装置-CN201080059894.1有效
发明人： 中尾裕利;西辻宗芳;吉野孝広;栗山拓弥;千叶泰司;川久保大辅;山田清隆 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2010-12-22 - 公布日： 2012-09-19 - 主分类号： B25J9/06 文献下载
摘要：本发明提供一种刚性高的驱动装置及具有所述驱动装置的输送装置，所述驱动装置及驱动装置能耐受由于在驱动臂单元时产生的反作用而施加的应力。驱动装置(50)具有框架(60)和安装于所述框架(60)的致动器(70)。所述框架(60)通过铸造一体成型地形成。所述框架(60)具有可连接至输送腔的分隔壁的连接部(61)、作为与所述连接部(61)相向配置的对置部的底板部(62)和联接所述连接部(61)和所述底板部(62)的多个联接部(63)。所述致动器(70)具有三个共轴的传动轴(75)(两个旋转传动轴(71、72)和一个回转传动轴(73))、三个电动机(74)，以及将这三个所述电动机(74)产生的旋转驱动力传递至三个所述传动轴(75)的传递机构。由于所述框架(60)一体成型地形成，从而可以实现刚性高的驱动装置(70)。
驱动装置输送

[发明专利]基板传输装置-CN201080025769.9无效
发明人：相泽真也;中尾裕利;吾乡健二;浅石隆;南展史;中村伸悟 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2010-06-15 - 公布日： 2012-05-16 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明提供了一种基板传输装置，可实现机构部的薄型化，该机构部用于使基板直线运动。本发明的实施方式涉及的基板传输装置包括：驱动部(2)、与驱动部(2)连接的一对公共臂(11a、11b)、与公共臂连接的一对工作臂(12a、12b)、承载板(14)、以及转换机构部(13)。该转换机构部(13)将臂的旋转运动转换为该承载板(14)的直线运动。该转换机构部(13)包括：一对轴构件(131a、131b)、以及形成于工作臂(12a、12b)的远端的环部(42a、42b)。该环部围绕轴构件旋转。通过形成于环部外周面的齿轮部(50a、50b)的相互啮合，各环部连动旋转。环部和轴构件之间配置有轴承构件(60a、60b)。该轴承构件和齿轮部在轴构件的直径方向上互相相对地并列排列。
传输装置

[发明专利]基板输送装置-CN200780019765.8有效
发明人： 中尾裕利 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2007-05-28 - 公布日： 2009-06-10 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明提供构成不复杂、具有稳定且高精度的输送性的基板输送装置。本发明的基板输送装置(30)具有：一端设置在基台而另一端与基板支撑用的手部(32)连接的多关节臂(31)，引导手部(32)的直线移动的线性导向件(36)，沿线性导向件(36)的导轨(37a)使手部(32)移动的带驱动机构(38)。这样构成的基板输送装置(30)由多关节臂(31)支撑作用于手部(32)的负荷，由线性导向件(36)保证手部(32)的直接输送性。因此，由于不需要用于通过止点的特别机构，所以可防止构成的复杂化。另外，由于负荷不直接作用在线性导向件(36)上，所以可得到高的输送精度。
输送装置

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