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[实用新型]一种放置盘-CN202321102957.8有效
发明人：韩俊伟;李明;陈洲峰;王虎 -专利权人： 武汉锐晶激光芯片技术有限公司
申请日： 2023-05-09 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本实用新型涉及晶圆生产技术领域，公开了一种放置盘，包括：母盘，设有放置槽，所述放置槽底部开设有通孔；子盘，可升降地设置在所述母盘下方，所述子盘设有与所述通孔位置相对应的支撑部，所述支撑部能够贯穿所述通孔以顶起位于所述放置槽中的物品。本实用新型的一种放置盘，能够在转运取出晶圆时改变晶圆与母盘的贴紧状态，有效增大晶圆与放置槽底面的间距，进而使用镊子时无需铲起晶圆就能够夹住晶圆的边缘，从而简单快速地进行转运操作，提高转运效率，且避免了镊子划伤晶圆的风险。
一种放置

[实用新型]一种晶圆表面微区干燥装置-CN202321168422.0有效
发明人：王虎;李林;余彬彬 -专利权人： 武汉锐晶激光芯片技术有限公司
申请日： 2023-05-15 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提出了一种晶圆表面微区干燥装置，其包括载物台，用于放置晶圆片，还包括激光加热组件及移动组件，所述激光加热组件用于发射激光以对晶圆片显影区域进行加热，所述移动组件用于使载物台与激光加热组件在水平方向相对移动，以使激光照射到晶圆片显影区域。本实用新型通过设置激光加热组件可以发射具有一定能量的激光光束，在移动组件的作用下，使载物台与激光加热组件在水平方向相对移动，从而使激光光束避开光刻胶区域，并照射到晶圆片显影区域，来实现在晶圆片表面的特定微小区域实现精准的加热干燥，该干燥方式不会对光刻胶进行加热，可以避免光刻胶受热出现异常，同时可以提高金属膜层与晶圆片显影区域的薄膜表面的附着力。
一种表面干燥装置

[实用新型]一种晶圆吸笔-CN202321089804.4有效
发明人：高文丽;王虎;段会强 -专利权人： 武汉锐晶激光芯片技术有限公司
申请日： 2023-05-08 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本实用新型涉及半导体技术领域，公开了一种晶圆吸笔，包括：吸笔本体，所述吸笔本体设有吸附孔、连接孔以及气道，所述气道连通所述吸附孔和所述连接孔，所述连接孔用于连接抽气管，所述吸附孔为适配晶圆外缘的弧形孔；本实用新型的一种晶圆吸笔，能够避开晶圆的有源区，同时充分利用晶圆外缘对应窄小的环状无源区进行吸附，进而有效增大吸附晶圆的作用面，即增大与晶圆接触后的吸附面积，从而降低晶圆因吸力过大而作用面过小产生的碎片风险，有效降低晶圆的碎片率，控制生产成本。
一种晶圆吸笔

[实用新型]一种具有保护装置的裁膜机-CN202321357956.8有效
发明人：刘铠;郭可满;游雨田;陈洲峰 -专利权人： 武汉锐晶激光芯片技术有限公司
申请日： 2023-05-31 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： B26F1/38 文献下载
摘要：本实用新型提出了一种具有保护装置的裁膜机，包括盖板、盒体和刀头，所述盖板与盒体铰连接成盒状结构；所述盖板靠近盒体的一侧开设凹槽，所述凹槽内设有转轴，所述刀头竖向设于转轴的侧面；还包括防护罩，所述防护罩套设在刀头外部，且与盖板通过弹性件连接；所述防护罩远离盖板的一侧开设通孔，所述刀头位于通孔的正投影内；所述盖板与盒体合起来时，所述盒体底部抵持防护罩，所述刀头凸出通孔切膜。本实用新型通过设置底部带有弹性件的防护罩，平时刀头位于防护罩内，裁切时弹性件被压缩，刀头漏出防护罩进行切膜；可以减少操作人员与刀头的接触，杜绝安全事故的发生。
一种具有保护装置裁膜机

[发明专利]一种半导体芯片盒的自动清洁设备和方法-CN202310719177.6在审
发明人：张威;周露露;王威 -专利权人： 武汉锐晶激光芯片技术有限公司
申请日： 2023-06-16 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： B08B9/28 文献下载
摘要：本发明提出了一种半导体芯片盒的自动清洁设备，包括机台、清洁胶带和下压组件，还包括转盘、芯片盒放置架、第一夹具组件、吹扫组件、顶杆组件、吸尘组件、台面相机检验组件、第二夹具组件和回收芯片盒放置架；所述转盘上径向设有多个放置孔，所述芯片盒放置架、第一夹具组件、吹扫组件、吸尘组件、台面相机检验组件、第二夹具组件和回收芯片盒放置架均设置于机台上表面，且围绕转盘依次设置；所述顶杆组件设于转盘下方，且位于吹扫组件和吸尘组件之间的放置孔的正下方，下压组件的正下方；所述顶杆组件顶部设有第一真空吸附孔。本发明的自动清洁设备集合胶带清洁、氮气吹扫、吸尘三重清洁，且配备相机检测清洁程度，无需人工检测，清洁效果好。
一种半导体芯片自动清洁设备方法

[实用新型]一种可调式开盖器-CN202320965144.5有效
发明人：李明;张亮;段会强;程谦 -专利权人： 武汉锐晶激光芯片技术有限公司
申请日： 2023-04-25 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： B67B7/14 文献下载
摘要：本实用新型涉及开盖工具领域，公开了一种可调式开盖器，包括：夹持件，具有容置腔；调节件，安装在所述容置腔内，所述调节件与所述夹持件的内壁配合形成夹持包装盖的夹持空间；伸缩件，与所述调节件连接，能够带动所述调节件相对所述夹持件运动，以调节所述夹持空间的大小。本实用新型的可调式开盖器能够适配多种规格尺寸的包装盖，有效提高了开盖器的兼容性和实用性，无须针对不同规格尺寸的包装盖配备大量不同型号的开盖器，降低了工具成本且便于携带。
一种调式开盖器

[实用新型]一种夹具传递工装-CN202223590503.8有效
发明人：杨希;胡韵爽;徐马记;贺慧婷 -专利权人： 武汉锐晶激光芯片技术有限公司
申请日： 2022-12-27 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： B65D43/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种夹具传递工装，包括主体、底座和盖体，在主体内设置顶部开口的空腔，并在主体的空腔内设置底座，底座上间隔布置有多个用于夹具插设的卡槽，将夹具插设置于底座上的卡槽中，多个卡槽的大小不同，以用于将不同尺寸规格的夹具分别进行精准的放置，然后通过盖体盖设在主体上，盖体封闭空腔的顶部开口，以形成对放置有夹具的空间的保护，有效避免杂质污染夹具表面，伴随主体整体进行传递，夹具可以稳定的插设在卡槽内，并保持夹具之间的相对位置关系稳定，避免摇晃倾倒发生碰撞，保持夹具稳定的精度要求，且主体进行的整体传递有效降低夹具直接掉落的风险，保持夹具安全、洁净的在不同的作业工序之间传递。
一种夹具传递工装

[发明专利]光刻方法及衬底结构-CN202310630861.7在审
发明人：王虎;安海岩;段会强;胡维;高文丽 -专利权人： 武汉锐晶激光芯片技术有限公司
申请日： 2023-05-31 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种光刻方法及衬底结构，光刻方法包括：提供半导体基底；在半导体基底上形成抗反射层；在抗反射层上形成光刻胶图案层，光刻胶图案层具有多个第一开口；对抗反射层进行刻蚀，以在抗反射层上形成与第一开口一一对应连通的多个第二开口；其中，抗反射层与光刻胶图案层的刻蚀选择比大于预设值，预设值大于1；对半导体基底未被光刻胶图案层遮挡的部分进行刻蚀，以在半导体基底的上表层内形成光栅结构；其中，光栅结构具有与第二开口一一对应连通的多个透光狭缝。利用该光刻方法可有效提高光栅结构的占空比。
光刻方法衬底结构

[实用新型]一种用于晶圆片清洗后的干燥装置-CN202320559026.4有效
发明人：段会强;王虎;高文丽;尚书丽 -专利权人： 武汉锐晶激光芯片技术有限公司
申请日： 2023-03-17 - 公布日： 2023-09-01 - 主分类号： F26B21/00 文献下载
摘要：本实用新型提出了一种用于晶圆片清洗后的干燥装置，包括：机座；固定组件，固定设置在机座上，用于水平放置晶圆片；吹扫风刀，设置在固定组件上方，吹扫风刀内部具有容纳腔，吹扫风刀一端具有向容纳腔通入干燥介质的接口，吹扫风刀远离接口的一端具有条形风口，接口、容纳腔及条形风口相互连通，条形风口朝固定组件顶面倾斜，条形风口的长度方向与晶圆片表面的沟槽方向垂直；平移导轨，对称设置有两组，吹扫风刀可相对平移导轨水平移动。本实用新型通过吹扫风刀可以实现晶圆片表面及其沟槽内的残留水份边干燥边沿着沟槽方向被吹出，从而实现晶圆片表面各个位置均能够有效的进行干燥，提高干燥效率的同时，保证干燥后晶圆片各个表面均一性。
一种用于晶圆片清洗干燥装置

[实用新型]一种清理石墨盖板外延层的治具-CN202320810298.7有效
发明人：沈俊龙;赵阳;孙同享;胡维 -专利权人： 武汉锐晶激光芯片技术有限公司
申请日： 2023-04-13 - 公布日： 2023-09-01 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：本实用新型提出了一种清理石墨盖板外延层的治具，用于固定石墨盖板，包括底座和支撑杆，所述底座用于承载支撑杆；所述石墨盖板设置有固定孔；所述支撑杆设置有多个卡槽，所述支撑杆穿过所述固定孔，且所述卡槽卡接于所述石墨盖板。该清理石墨盖板外延层的治具通过石墨盖板设置有固定孔，所述支撑杆设置有多个卡槽，所述支撑杆穿过所述固定孔，且所述卡槽卡接于所述石墨盖板，实现石墨盖板的固定，可以减少对石墨盖板的遮挡，从而尽可能多的清理石墨盖板上的外延层，降低对砷化镓衬底上外延层的薄膜结构生长质量的影响。
一种清理石墨盖板外延

[发明专利]一种45度硅反射镜及其制作方法-CN202310649233.3在审
发明人：王虎;段会强;李林;尚书丽;安海岩 -专利权人： 武汉锐晶激光芯片技术有限公司
申请日： 2023-05-31 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： G02B5/08 文献下载
摘要：本发明提出了一种45度硅反射镜及其制作方法，包括如下操作步骤：步骤S1、采用(100)单晶硅片，在硅片正面沿(110)晶面方向定向刻蚀产生倾斜面以及沿(100)晶面方向定向刻蚀产生平行面，倾斜面与平行面之间的夹角为45°；步骤S2、将硅片的底面粗糙度等级抛光至镜面级，并保证该面与平行面保持平行；步骤S3、将硅片切割分离获得反射镜集合体；步骤S4、将反射镜集合体切割分离获得反射镜单体；步骤S5、将反射镜单体上的倾斜面作为贴装底面，以抛光后的硅片的底面作为反射镜面，即形成45°硅反射镜。本发明制作45度硅反射镜的制作工艺简单，成本低，且利于大批量推广使用。
一种 45 反射及其制作方法

[实用新型]一种带保护的晶圆托盘装置-CN202320567524.3有效
发明人：韩俊伟;谢唯;王虎;陈洲峰 -专利权人： 武汉锐晶激光芯片技术有限公司
申请日： 2023-03-22 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种带保护的晶圆托盘装置，包括用于带动晶圆回转运动发托盘本体；用于抵持晶圆的侧表面的不同位置的若干第一挡块，其一端与托盘本体远离地面的一端固定连接，另一端朝着远离托盘本体的方向朝外延伸；用于抵持晶圆靠近地面的端面的不同位置的若干第二挡块，其一端与托盘本体远离地面的一端固定连接，另一端朝着远离托盘本体的方向朝外延伸；修正晶圆相对于托盘本体的姿态若干夹持机构，其设置在所述托盘本体远离地面的一端，且与若干第一挡块交错设置，若干夹持机构选择性的抵持在晶圆靠近地面的端面的不同位置或者倾斜的抵持在晶圆侧表面的不同位置。
一种保护托盘装置

[发明专利]一种激光辅助加热退火的方法-CN201910085905.6有效
发明人：安海岩;于海;王威;王虎 -专利权人： 武汉锐晶激光芯片技术有限公司
申请日： 2019-01-29 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： H01L21/324 文献下载
摘要：本发明提供了一种激光辅助加热退火的方法，包括：根据所述加热退火装置内的待退火材料，确定激光的特定波长，选择激光器；根据所述待退火材料、所述加热区面积，获得所述待退火材料的退火要求；根据所述退火要求、所述特定波长的激光光束，调整所述激光器与所述加热区的位置关系及光学镜组角度；根据所述退火要求，控制所述激光器发射所述特定波长的激光光束，所述激光光束通过所述光学镜组，使所述激光光束聚焦于所述加热区并达到所述退火要求。解决对微小区域面积的退火不能进行特定精细分区加热的技术问题。实现自由空间区域的精密选择，针对不同退火材料选择合适激光器，通过激光聚焦直接加热的方式在退火温度及退火速率提升的技术效果。
一种激光辅助加热退火方法

[发明专利]石墨盘清洗装置-CN202111652045.3在审
发明人：胡维;王虎;安海岩 -专利权人： 武汉锐晶激光芯片技术有限公司
申请日： 2021-12-30 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：本发明涉及石墨盘清洗的技术领域，更具体地说，本发明涉及一种石墨盘清洗装置，所述石墨盘清洗装置包括：容纳部，所述容纳部设置有安装孔；放置部，设置在所述容纳部中，用于放置石墨盘；激光发射器，部分所述激光发射器穿设于所述安装孔。如此设置，通过激光对石墨盘表面的沉积物烧灼，利用振动效应使得沉积物脱离石墨盘，并利用烧灼效应使得沉积物熔化甚至气化，从而达到清除沉积物的效果的同时，不会损伤石墨盘，保证石墨盘表面的平整度和使用寿命。通过容纳部隔绝外界工作环境，避免激光发射器发射的激光对石墨盘表面的沉积物烧灼时，产生的烟雾散逸，影响外界工作环境。
石墨清洗装置

[发明专利]解离钝化系统-CN202111668861.3在审
发明人：徐豪;安海岩;王威;徐马记 -专利权人： 武汉锐晶激光芯片技术有限公司
申请日： 2021-12-31 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本申请实施例公开了一种解离钝化系统，包括：解离腔室；解离组件，设置在解离腔室内，解离组件包括：第一夹刀、驱动件、第二夹刀、劈刀和工作台；其中，第一夹刀包括移动部和夹持部，移动部可移动地设置在工作台上，夹持部可转动地连接于移动部，夹持部用于夹持待解离样品；其中，驱动件连接于移动部；其中，第二夹刀连接于工作台，与第一夹刀间隔设置；其中，劈刀设置在第二夹刀背离于第一夹刀的一侧。本申请实施例只需要控制驱动件的驱动行程和劈刀的工作节拍即可实现自动化解离，整个待解离样品的解离过程中无人工干预，能够保证样品解离的精度，保证了产品的一致性，同时能够避免外部污染源与样品产生接触，进一步地提高了产品的质量。
解离钝化系统

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