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- [发明专利]一种干膜光刻胶-CN98119381.1有效
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俞在玉;崔铉硕;郑一荣;李炳逸;朴基振
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可隆株式会社
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1998-09-25
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1999-06-23
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G03F7/00
- 本发明涉及一种干膜光刻胶,其包括如下制备步骤制备一种用下述方法制备的光敏聚合物,即向作为粘合剂聚合物的丙烯酸共聚物中加入光聚合单体、光引发剂、光敏剂、成色剂、增塑剂和热稳定剂;干燥以预定的厚度涂布在聚对苯二甲酸乙酯支承体上的光敏聚合物;用安全的方法层压具有一定表面性质的聚对苯二甲酸乙酯膜。由于用于制造印刷电路板和引线框的本发明的干膜光刻胶使用具有优良表面性质的聚对苯二甲酸乙酯膜,可避免由该方法而产生的如空气混入的任何问题,这不同于现有技术使用聚乙烯膜作为覆盖膜,于是明显地减少了最终产品的次品率
- 一种光刻
- [发明专利]涂布装置和涂布方法-CN201610148078.7有效
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谷野圣;谷尚树;岸谷征典;木田威
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东丽薄膜先端加工有限公司;东丽工程株式会社
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2016-03-15
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2019-07-23
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B05C5/02
- 本发明的目的在于提供一种涂布装置和涂布方法,即使提高基材的搬运速度,并且使涂布膜的膜厚变薄,该涂布装置和该涂布方法也能够稳定地保持液珠,从而能够稳定地形成均匀的涂布膜。本发明的涂布装置具备狭缝模(10)和减压单元(20),狭缝模(10)具有用来喷出涂布液的喷出用狭缝(13),减压单元(20)设在狭缝模(10)的上游侧,减压单元(20)具备减压用狭缝(21)和减压室(22),减压用狭缝(21)与喷出用狭缝(13)相邻而设,减压室(22)与减压用狭缝(21)相连结,喷出用狭缝(13)的开口面的上游侧缘部(13a)与减压用狭缝(21)的开口面(21a)的下游侧缘部(21b)之间的距离(L)小于1.0mm,减压用狭缝(21)的开口宽度(W)小于1.0mm。
- 装置方法
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