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[实用新型]制备高光学均匀性CVDZnS球罩的设备-CN200620167585.7无效
发明人：苏小平;杨海;霍承松;付利刚;赵永田;魏乃光 -专利权人：北京有色金属研究总院
申请日： 2006-12-20 - 公布日： 2007-12-12 - 主分类号： C01G9/08 文献下载
摘要：一种化学气相沉积制备高光学均匀性硫化锌球罩的设备，是在高温真空炉内设有锌池、锌蒸汽喷嘴、硫化氢喷嘴、沉积室、和卸料箱，沉积室侧壁装有凹模形式的球罩模具，并在球罩模具的中心位置上设有挡板。本实用新型的沉积室侧板上的球罩模具、挡板结构，结合适用该设备的工艺路线，有效地解决了目前化学气相沉积制备硫化锌球罩工艺中厚度均匀性和光学质量均匀性问题。在本实用新型的设备中，在350mm宽的沉积室中可以制备Φ270mm×10mm～φ50mm×4mm的硫化锌球罩，并且光学质量均匀性良好，无明显的夹杂物。本实用新型的设备结构，以及工艺参数和工艺过程完全可以应用于大规模CVDZnS球罩的生产中。
制备光学均匀 cvdzns 设备

[发明专利]改善套刻精度面内均匀性的方法-CN201210567590.7有效
发明人：孟鸿林;郭晓波;刘尧 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2012-12-24 - 公布日： 2014-07-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种改善套刻精度面内均匀性的方法，该方法在离子注入工艺之后，用激光退火工艺推阱，然后在氧化层生长后，多晶硅生长前，再进行有选择的激光退火工艺。本发明利用激光退火抑制硅单晶热氧化过程中引入的氧化层错，同时通过实际的量测数据对硅片翘曲度进行补偿，从而提高了套刻精度的面内均匀性。
改善精度均匀方法

[发明专利]内衬及反应腔室-CN201811640636.7有效
发明人：刘辉;陈国动 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2018-12-29 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种内衬及反应腔室，包括遮挡结构、本体和与本体连接的环体，其中，环体用于环绕在基座的周围，且环体沿其周向间隔设置有多个供工艺气体通过的缝隙，遮挡结构设置在环体的下方，且能够遮挡至少部分环体的缝隙本发明提供的内衬及反应腔室，能够提高工艺气体在反应腔室中的分布均匀性，从而提高反应腔室内半导体加工工艺的均匀性。
内衬反应

[发明专利]一种无纺布的制备工艺-CN201410731215.0在审
发明人：梁文川 -专利权人：柳州市威腾汽车配件厂
申请日： 2014-12-05 - 公布日： 2015-04-01 - 主分类号： D04H3/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种无纺布的制备工艺，包括：将PP原料切片烘干后送入螺杆挤出机，经熔融挤压、过滤、计量后再经模头均匀分配从喷丝孔喷出形成初生纤维；初生纤维经气流冷却牵伸后，通过扩散风道均匀铺放在成网机网帘上本发明所述无纺布的制备工艺，可以克服现有技术中牢固性差、制备工艺复杂和人工劳动量大等缺陷，以实现牢固性好、制备工艺简单和人工劳动量小的优点。
一种无纺布制备工艺

[发明专利]具有部分冗余通孔的集成电路制作方法及集成电路-CN201110386297.6有效
发明人：李磊;胡友存;姬峰;张亮;陈玉文 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2011-11-28 - 公布日： 2012-05-02 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：本发明提出一种铜互连冗余通孔填充及双大马士革制造工艺，采用埋层冗余通孔金属刻蚀阻挡层工艺制作含有部分刻蚀冗余通孔的双大马士革结构，在部分传统制造工艺无法填充冗余通孔的区域添加冗余通孔，特别是可以在以前很多无法填充冗余通孔的孤立通孔周围添加冗余通孔，提高了光刻和刻蚀通孔的密度及密度均匀性，进而能够改善通孔光刻和刻蚀的均匀性，增加通孔光刻和刻蚀工艺窗口。
具有部分冗余集成电路制作方法

[发明专利]具有部分冗余通孔的集成电路制作方法及集成电路-CN201110386112.1有效
发明人：李磊;胡友存;姬峰;张亮;陈玉文 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2011-11-28 - 公布日： 2012-05-02 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：本发明提出一种铜互连冗余通孔填充及双大马士革制造工艺，采用埋层冗余通孔介电刻蚀阻挡层工艺制作含有部分刻蚀冗余通孔的双大马士革结构，在部分传统制造工艺无法填充冗余通孔的区域添加冗余通孔，特别是可以在以前很多无法填充冗余通孔的孤立通孔周围添加冗余通孔，提高了光刻和刻蚀通孔的密度及密度均匀性，进而能够改善通孔光刻和刻蚀的均匀性，增加通孔光刻和刻蚀工艺窗口。
具有部分冗余集成电路制作方法

[发明专利]一种提高太阳电池扩散均匀性的装置及其方法-CN201510911534.4在审
发明人：郝杰杰;刘仁中;张斌 -专利权人：合肥海润光伏科技有限公司
申请日： 2015-12-11 - 公布日： 2016-05-04 - 主分类号： H01L21/223 文献下载
摘要：本发明公开了一种提高太阳电池扩散均匀性的装置及其方法，它包括：进气管、排气管、流量监控表和开孔，所述的进气管位于石英舟的下方，进气管的两端分别为开口端和封闭端，进气管的开口端上设有流量监控表，进气管上设有的开孔面对扩散石英管的底部，进气管的封闭端置于扩散石英管内，排气管位于硅片的上方,提高石英管内气体氛围的均匀性，提高了电池片片间及片内扩散均匀性。使得后续工艺参数可控性高，可以较好的保证电池性能和参数的稳定性。盖方法提高石英管内气体氛围的均匀性，提高了电池片片间及片内扩散均匀性。使得后续工艺参数可控性高，可以较好的保证电池性能和参数的稳定性。
一种提高太阳电池扩散均匀装置及其方法

[发明专利]一种组织和性能高均匀性的TB6钛合金大规格饼坯制备方法-CN202210537980.3有效
发明人：刘向宏;王涛;杨栋;王凯旋;何永胜;史蒲英;张丰收;杜予晅 -专利权人：西部超导材料科技股份有限公司
申请日： 2022-05-17 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： B21J5/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种组织和性能高均匀性的TB6钛合金大规格饼坯制备方法，其制备工艺采用高温均匀化热处理→开坯锻造→中间方坯锻造→中间棒坯锻造→饼坯成形锻造，全程精准控制各阶段的温度、锻造方式、锻造比等参数；通过高温使易偏析元素充分扩散，提高铸锭成分的均匀性，通过转变坯料变形技术，采用铸锭开坯阶段的圆形坯料，中间阶段的方形坯料，到最后阶段的圆形棒坯及饼坯成形锻造，提升了各位置的变形均匀性。在本发明制备方法，适用于工业化生产厚度在400～600mm，直径在1100～1300mm的组织和性能高均匀性的TB6钛合金大规格饼坯，其生产工艺先进，制备流程短，产品具有组织和性能高均匀性。
一种组织性能均匀 tb6 钛合金规格制备方法

[发明专利]一种以粘结化工艺制备粉末冶金铜基摩擦材料的方法-CN201710542616.5有效
发明人：曲选辉;张鹏;章林;刘婷婷;方智 -专利权人：北京科技大学
申请日： 2017-07-05 - 公布日： 2018-11-06 - 主分类号： C22C1/05 文献下载
摘要：一种以粘结化工艺制备粉末冶金铜基摩擦材料的方法，属于粉末冶金工艺制备铜基高速列车刹车片技术领域。在混料的过程中加入粘结润滑剂，并进行双锥喷雾粘结化处理，使得细小的粉末均匀包覆在大粒度的铜粉颗粒表面，将粉末按比例混合均匀后经过冷压成形，热压烧结后，得到以粘结化工艺制备的铜基粉末冶金刹车片。与传统刹车片制备工艺相比，粘结化工艺能够增强粉末混料的均匀性，降低了粉末在填充过程中所受的压力梯度，提高了材料在烧结过程中收缩的均匀性，使得材料成分、密度分布更加均匀，制得的粉末冶金铜基摩擦材料能够具有更好的摩擦磨损性能
粘结化粉末冶金铜工艺制备摩擦材料刹车片粒径均匀性混料粉末冶金工艺摩擦磨损性能铜基粉末冶金高速列车按比例混合均匀包覆冷压成形密度分布喷雾粘结热压烧结烧结过程铁粉粒径铜粉颗粒压力梯度原料粉末制备工艺质量分数大粒度镍粉粒润滑剂双锥铜粉铜基锡粉粘结制备填充收缩

[发明专利]涂层的形成方法-CN201410114618.0有效
发明人：章国伟 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2014-03-25 - 公布日： 2017-12-01 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：一种涂层的形成方法，包括提供半导体衬底，向半导体衬底表面喷洒涂层材料，所述涂层材料具有第一流动性；采用第一速率旋转半导体衬底进行第一旋涂工艺，使涂层材料覆盖于半导体衬底表面；对半导体衬底进行第一烘烤处理，形成第一材料层以及第二材料层，第一材料层的材料具有第二流动性，且第二流动性小于第一流动性；采用第二速率旋转半导体衬底进行第二旋涂工艺，使第二材料层的材料在第一材料层表面流动，形成具有均匀厚度的第三材料层本发明形成厚度均匀且固化的第一材料层后，进行第二旋涂工艺形成具有均匀厚度的第三材料层，提高形成的涂层的厚度均匀性。
涂层形成方法

[发明专利]一种水性油墨制备工艺-CN201710891096.9在审
发明人：韩智勇 -专利权人：东莞市润科水墨有限公司
申请日： 2017-09-27 - 公布日： 2017-12-22 - 主分类号： C09D11/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种水性油墨制备工艺，是由以下重量份数的原料制做而成的树脂，色浆，助剂，水。采用该制作手法工艺简单，易于控制，产品质量稳定，适应性强，节能环保，使用方便等优点，细度好，漆膜均匀，光色效果好，呈色高档，相容性好，价格比高，涂层附着力佳、均匀。
一种水性油墨制备工艺

[发明专利]一种放射性粒子的源芯载体及其制备工艺-CN201310663321.5有效
发明人：崔海平;李忠勇;高惠波;周棱;张文辉;韩连革;金小海 -专利权人：原子高科股份有限公司
申请日： 2013-12-10 - 公布日： 2014-04-09 - 主分类号： A61K51/02 文献下载
摘要：本发明属于含有放射性物质的医用配置品技术领域，公开了一种放射性粒子的源芯载体及其制备工艺。该载体为表面均匀覆盖银层的载体棒，其中载体棒为碳棒。该制备工艺包括以下步骤：将载体棒置于由硝酸银、乙二胺四乙酸二钠、氢氧化铵、水合肼组成的混合溶液中，搅拌反应，使载体棒表面均匀覆盖一层银，并用水清洗。该源芯载体及其制备工艺具有制备简单、放射性核素利用率高的优点。
一种放射性粒子载体及其制备工艺

[发明专利]提升背光模组亮度均匀性的方法-CN201510276987.4在审
发明人：朱其云;骆志峰;陈小军;万锋;钟小平 -专利权人：深圳同兴达科技股份有限公司
申请日： 2015-05-27 - 公布日： 2015-08-19 - 主分类号： F21S8/00 文献下载
摘要：本发明公开一种提升背光模组亮度均匀性的方法，通过空气隔离墙将导光板划分为若干独立区域，再用发光均匀的标准背光源来检测导光板各个独立区域的发光亮度，从而调整待组装的LED背光源各个区域的亮度，并利用其替换标准背光源，从而使得背光模组发光均匀，生产工艺简单，以低成本实现背光模组亮度均匀这一效果；通过调整LED背光源局部的LED灯珠之间的间距来解决现有工艺给导光板带来缺陷这一问题，使得背光模组亮度均匀性好。
提升背光模组亮度均匀方法

[发明专利]基于切叶方式提高烟片结构均匀性的打叶复烤工艺-CN201410126847.4无效
发明人：张俊荣;李艳华;翟永明;高建亮;李劲松;李大庆;汪洪春;郑晓峰;赵威宇;王晓燕;张旭 -专利权人：云南昆船设计研究院
申请日： 2014-04-01 - 公布日： 2014-07-02 - 主分类号： A24B3/10 文献下载
摘要：基于切叶方式提高烟片结构均匀性的打叶复烤工艺，采用筛分设备把烟叶叶片筛分为合格烟片和外形最大尺寸大于10mm的大烟片，将大烟片采用切叶方式剪切为合格烟片，提高烟片结构均匀性。本发明提供了一种全新的适用于提高烟片结构均匀性的打叶复烤工艺，可提高烟片的结构均匀性。由于不采用冲击破碎的方式改变烟叶形状，只是采用剪切的方式改变烟叶形状，可减少烟片的造碎和损耗。
基于方式提高结构均匀打叶复烤工艺

[发明专利]一种富陷阱绝缘体上硅结构及其制备方法-CN202310572297.8在审
发明人：魏星;戴荣旺;徐洪涛;陈猛;汪子文;李名浩;李炜 -专利权人：上海新昇半导体科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所
申请日： 2023-05-19 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供一种富陷阱绝缘体上硅结构及其制备方法，其中富陷阱绝缘体上硅结构的制备方法包括以下步骤：提供第一衬底，所述第一衬底具有正面，通过沉积工艺在所述正面形成钉扎层；以及通过干法刻蚀工艺均匀化处理所述钉扎层的表面，以调整所述钉扎层的厚度均匀性，使得沉积获得的多晶硅薄膜的厚度均匀性达到一个良好的状态。
一种陷阱绝缘体结构及其制备方法