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[发明专利]电荷粒子照射系统以及电荷粒子照射方法-CN201280058710.9有效
发明人：藤井佑介;梅川彻;梅泽真澄;白土博树;梅垣菊男;宫本直树;松浦妙子 -专利权人：株式会社日立制作所;国立大学法人北海道大学
申请日： 2012-11-14 - 公布日： 2014-09-17 - 主分类号： A61N5/10 文献下载
摘要：本发明提供一种电荷粒子束照射系统以及电荷粒子照射方法，其在选通照射时照射对象产生不规则变动时也进行高效的照射，由此能够缩短照射时间，缩短治疗时间。根据基于规则的移动信号的规则出射许可结束信号的接收，停止射束的出射。另一方面，根据出射许可结束信号的接收，可出射状态维持功能(46b)工作。如果在待机中没有再接收到出射许可开始信号而经过了设定待机时间，则可出射状态维持功能(46b)结束工作。电荷粒子束产生装置(1)对射束进行减速。也有时根据照射中的不规则的出射许可结束信号的接收来停止射束的出射。另一方面，根据出射许可结束信号的接收，可出射状态维持功能(46b)工作，电荷粒子束产生装置(1)维持可出射状态。如果在待机中再接收到出射许可开始信号，则再开始射束的出射。
电荷粒子照射系统以及方法

[发明专利]产生两个平行激光焦线的光学系统和所属的激光加工方法-CN202080035731.3在审
发明人： M·胡翁克 -专利权人：通快激光有限责任公司
申请日： 2020-05-06 - 公布日： 2021-12-21 - 主分类号： B23K26/067 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于产生两个尤其平行激光焦线(2a,2b)的光学系统(1)，尤其用于同时激光加工一个工件(3)的两个彼此对置平行工件侧(3a,3b)，具有至少一个光学单元(10；20)，包括：至少一个第一光学元件(11)，将入射激光射束(2)在相对激光射束(2)射束轴线(z)垂直的第一方向(x)分成多个射束条带(4)，各射束条带(4)在至少一个第一光学元件(11)的焦平面(F)叠加成单一射束条带，其条带宽度至少符合焦平面(F)最宽射束条带(4)的条带宽度(B)并分别符合焦平面(F)两个激光焦线(2a,2b)的长度(L)；至少一个第二光学元件(13)，将入射激光射束(2)在相对第一方向(x)且相对射束轴线(z)垂直的第二方向(y)聚焦到至少一个第一光学元件焦平面(F)；几何型分束器(14)，在激光射束(2)射束路径布置在至少一个第一光学元件(11)和至少一个第二光学元件(13)后，将激光射束(2)在第一方向或第二方向对半划分成两个子射束(5a,5b)，其在焦平面
产生两个平行激光光学系统所属加工方法

[发明专利]用于使用快速离子束控制在固定射束离子注入过程中进行瞬态干扰恢复的方法和装置-CN200680019106.X有效
发明人：拉塞尔·J·罗;约瑟·C·欧尔森;大卫·R·汀布莱克;詹姆斯·R·麦克廉;马克·D·邵德尔;詹姆斯·J·康米斯;汤玛斯·B·卡拉汉;乔纳森·英格兰 -专利权人：瓦里安半导体设备公司
申请日： 2006-03-31 - 公布日： 2008-06-18 - 主分类号： H01J37/317 文献下载
摘要：本发明提供一种离子注入器，其包含：固定平面离子束的来源；一组射束线组件，其沿着由第一操作参数值确定的正常射束路径而导引离子束；终端站，其以机械方式横越正常射束路径而扫描晶片；以及控制电路，其在注入通过期间对离子束中的瞬态干扰作出响应以(1)立即将射束线组件中的至少一者的操作参数改变为第二值以将离子束引导远离正常射束路径且进而停止在晶片上的注入过渡位置处的注入，(2)随后将晶片移动到注入恢复位置，在所述注入恢复位置中，晶片上的注入过渡位置正好位于离子束的正常射束路径上，且(3)将操作参数改回到其第一值以沿着正常射束路径引导离子束且恢复在晶片上的注入过渡位置处的离子注入。操作参数可以是提取电源的输出电压或影响离子束的路径的射束线组件的其它电压和/或电流。
用于使用快速离子束控制固定离子注入过程进行瞬态干扰恢复方法装置

[发明专利]将寻呼所用信道数最小化的方法和装置-CN00809938.3无效
发明人： L·N·希夫 -专利权人：高通股份有限公司
申请日： 2000-05-03 - 公布日： 2003-01-08 - 主分类号： H04B7/185 文献下载
摘要：本发明涉及在卫星通信系统中寻呼用户终端(UT)(124、126)的方法和装置,该卫星通信系统具有至少一个网关(120、122)和一个或多个卫星(116、118),其中每个卫星产生多个射束(401－416,501－516),每个射束包括多个信道,其中一个或多个卫星(116、118)产生总数为m的射束。该方法还包括确定在t2时刻覆盖UT调用位置的射束组(g1)的步骤(706),其中g1t1。然后确定在t2时刻射束组(g1)中最强的射束(708)。在一个实施例中,通过确定在t2时刻射束组(g1)中哪个射束相对于调用位置在理论上具有最高的功率,以选择最强射束(710)。然后,在最强射束寻呼信道上将寻呼从网关发送到的UT(126、128)。因此,本发明可以使用单个射束的单个信道寻呼用户终端。
寻呼所用信道最小化方法装置

[发明专利]射束调节器-CN202080019601.0有效
发明人： W-D·拉赫尔;H·舒尔勒 -专利权人：纽珀有限公司
申请日： 2020-03-05 - 公布日： 2023-05-26 - 主分类号： E03C1/084 文献下载
摘要：本发明涉及一种射束调节器，所述射束调节器包括壳体、设置或构成在壳体中的射束分离装置，所述射束分离装置用于将单个射束分离成多个分开的液体部分，所述射束调节器具有至少两个穿流通道，所述穿流通道这样倾斜地定向，使得通过穿流通道限定的出射方向相遇，其中，插入件插入到射束分离装置的基体的特别是沿壳体的纵向定向的孔中，从而孔被划分为倾斜延伸的至少两个穿流通道，其中，从所述穿流通道流出的水射束在交叉点中相遇，并且所述插入件插入到基体中的凹槽中
调节器

[发明专利]具有对准传感器和射束测量传感器的带电粒子光刻系统-CN201380022770.X有效
发明人： P.I.谢弗斯;J.A.梅杰;E.斯洛特;V.S.凯珀;N.弗奇尔 -专利权人：迈普尔平版印刷IP有限公司
申请日： 2013-03-08 - 公布日： 2017-05-17 - 主分类号： H01J37/304 文献下载
摘要：一种多细射束带电粒子细射束光刻系统，用于将图案转移至基板的表面。该系统包括投射系统(311)，用于将多个带电粒子细射束(7)投射至该基板的表面上；卡盘(313)，可相对于该投射系统移动；细射束测量传感器(505、511)，用于确定一个或多个带电粒子细射束的一个或多个特征，该细射束测量传感器具有表面(501)，用于接收一个或多个带电粒子细射束；以及位置标记测量系统，用于测量位置标记的位置(610、620、635)，该位置标记测量系统包括对准传感器(361、362)。该卡盘包括基板支持部分，用于支持该基板；细射束测量传感器部分(460)，用于容纳该细射束测量传感器的表面；以及位置标记部分(470)，用于容纳该位置标记。
具有对准传感器测量带电粒子光刻系统

[发明专利]用于计划辐射处理的方法和系统-CN202110745428.9在审
发明人： M·罗普;M·罗西;P·兰索内尔;V·佩塔加 -专利权人：瓦里安医疗系统国际股份公司
申请日： 2021-07-01 - 公布日： 2022-01-04 - 主分类号： A61N5/10 文献下载
摘要：用于计划辐射治疗的计算机实现的方法被用来针对给定的等中心点和给定的射束能量，标识射束递送角度，针对该射束递送角度，射束场满足针对透射场的准则(具有显著或完全在患者体外的布拉格峰的场)。可以在执行剂量计算之前确定和评估那些射束角度。可以使用所选的、令人满意的射束角度来执行处理计划。
用于计划辐射处理方法系统

[发明专利]具有主动目标对象的测量系统-CN201380061826.2在审
发明人：安德烈亚斯·温特 -专利权人：喜利得股份公司
申请日： 2013-11-26 - 公布日： 2015-08-12 - 主分类号： G01C15/00 文献下载
摘要：一种测量系统(10)，其具有：发射搜索束(17)和测量束(18)的激光测量设备(11)、具有用于发射可见的第一发射束的第一发射装置的第一主动目标对象(12)和具有用于发射可见的第二发射束的第二发射装置的第二主动目标对象(13)，其中所述可见的第二发射束的光颜色与所述可见的第一发射束的光颜色不同。
具有主动目标对象测量系统

[发明专利]用于热风洒的装置-CN03815418.8有效
发明人：德特勒夫·马廷格尔;彼得·朔伊纳特 -专利权人：成娜股份有限公司
申请日： 2003-03-27 - 公布日： 2005-09-07 - 主分类号： A45D20/12 文献下载
摘要：用于热风洒(2)的装置(1)，具有一风扇(3)和一用来产生中央热空气射束(5)的加热器(4)以及一在喷出口(7)处的与它同心的冷空气射束(6)。设置一个做得可这样地与喷出口(7)连接的空气喷嘴罩(8)作为装置(1)，使空气喷嘴罩(8)由热风洒(2)的中央热空气射束(5)和同心的冷空气射束(6)产生一相互并排设置的热空气射束(9)和冷空气射束(10
用于热风装置

[发明专利]多射束描绘方法以及多射束描绘装置-CN202010661012.4在审
发明人：松本裕史 -专利权人：纽富来科技股份有限公司
申请日： 2020-07-10 - 公布日： 2021-01-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及多射束描绘方法及多射束描绘装置。本发明的一个方式的多射束描绘方法，进行基于射束偏转的第k次(k为自然数)的追踪控制，以使多射束的各射束统一并追随于工作台的移动，在进行第k次的追踪控制的同时，在各射束分别对应的以射束间间距尺寸包围的矩形的照射区域内，一边进行同时移位，一边进行多次束发射，在第k次的跟踪控制期间经过后，使跟踪位置返回到对第k次的跟踪控制开始的跟踪开始位置进一步附加了射束间间距尺寸的整数倍的偏移后的位置，作为第k+1次的跟踪控制的开始位置
多射束描绘方法以及装置

[发明专利]用于高生产量制图的自适应射束电流-CN201610861092.1在审
发明人： A·P·J·M·博特曼 -专利权人： FEI公司
申请日： 2016-06-30 - 公布日： 2017-02-22 - 主分类号： C23C16/48 文献下载
摘要：本发明涉及用于高生产量制图的自适应射束电流。提供了一种用于规划用于材料沉积的射束路径的方法，其中，具有变化尺寸的特征的结构图案被分析以确定每一个特征的尺寸。遍历结构图案的射束路径被确定，并且针对在结构图案中的每一个点所需的射束电流被配置。配置针对每一个点所需的射束电流包括确定针对该点的可接受的射束剂量。相对小的特征对于高精度要求低的射束电流，并且相对大的特征能够使用允许更快沉积的更高射束电流来形成。在结构图案中的每一个特征在允许特征的精确沉积可接受的最高的射束电流下被沉积。
用于生产量制图自适应电流

[发明专利]离子注入方法以及离子注入装置-CN201810010055.9有效
发明人：佐佐木玄 -专利权人：住友重机械离子科技株式会社
申请日： 2018-01-05 - 公布日： 2020-10-23 - 主分类号： H01J37/317 文献下载
摘要：离子注入装置具备：多级线性加速单元(110)，包含多级高频谐振器和多级收敛透镜；第1射束测量部(160)，设置于多级线性加速单元(110)的中途，构成为使射束轨道(Z)的中心附近的射束部分通过，另一方面测量在射束轨道(Z)的中心附近的外侧被电极体(164)屏蔽的其他射束部分的电流量；第2射束测量部(170)，设置于多级线性加速单元(110)的下游，构成为测量从多级线性加速单元(110)射出的离子束的电流量；以及控制装置，构成为根据第1射束测量部(160)以及第2射束测量部(170)的测量结果调整多级收敛透镜的控制参数。
离子注入方法以及装置

[发明专利]定向无线通信的方法和装置-CN97181797.9无效
发明人：马库斯·卡茨 -专利权人：诺基亚电信公司
申请日： 1997-02-13 - 公布日： 2000-03-01 - 主分类号： H04Q7/36 文献下载
摘要：确定第一站点接收第一信号的主要射束方向。在第一站点定义多个发送发射射束的射束方向。各个射束方向是可选的。在第一站点选择确定主要射束方向和至少一个其它的辅助射束方向。至少一个辅助射束方向与确定主要射束方向相邻。在选定射束方向上从第一站点向第二站点发送一个第二信号。
定向无线通信方法装置

[发明专利]图案描绘装置及基板处理装置-CN201811044160.0有效
发明人：加藤正纪;中山修一 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2016-09-27 - 公布日： 2021-08-06 - 主分类号： G03G15/04 文献下载
摘要：本发明是一种图案描绘装置(EX)，其是一面将来自光源(LS)的射束(LB)根据图案信息进行强度调变，一面将射束(LB)投射至基板(P)上而于主扫描方向进行扫描，藉此于基板(P)上形成图案者，且具备：扫描装置(14)，其是为了使射束(LB)于主扫描方向上扫描，而将包含使来自光源(LS)的射束(LB)偏向的偏向构件(PM)的多个扫描单元(Un)，以投射至基板(P)上的射束(LB)的扫描轨迹相互错开的方式配置；及电光偏向装置(BDU)，其是为了将来自光源(LS)的射束(LB)分时供给至多个扫描单元(Un)的各者，而将来自光源(LS)的射束(LB)切换为偏向状态或非偏向状态，并且为了使射束(LB)的扫描轨迹于与主扫描方向交叉的副扫描方向移位，而可调整射束(LB)的偏向角。
图案描绘装置处理

[发明专利]基板处理装置及基板处理装置的异常状况检测方法-CN201810027976.6有效
发明人：辻雅夫;池田文彦 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-01-11 - 公布日： 2022-02-08 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：该基板处理装置具有：检测部，沿着基板的上表面，射出向与搬运方向相交的方向行进的射束，根据检测到的射束的强度变化检测基板的异常状况；遮挡部，与搬运部一体移动且横穿射束行进路径来暂时遮挡射束。与遮挡部一体移动的保持部位，以使搬运方向上的基板的前端部向保持部位的搬运方向上的下游侧突出的方式，与基板的下表面局部抵接来保持基板，从前端部到达射束的行进路径之前到前端部到达射束的行进路径时为止，遮挡部连续遮挡射束在基板中的保持部位所抵接的部位到达射束的行进路径之前，遮挡部结束遮挡射束。
处理装置异常状况检测方法