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[实用新型]基板处理设备以及半导体生产线-CN202222981903.5有效
发明人：孙杰;朱建军;张璞;刘靖 -专利权人：苏州铂煜诺自动化设备科技有限公司
申请日： 2022-11-08 - 公布日： 2023-04-14 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型属于半导体技术领域，公开了一种基板处理设备以及半导体生产线。通过传递装置将基板从来料装置中取出，后通过测厚装置、切割装置、打标装置的操作，在厚度测量阶段，如基板厚度超出预设值，传递装置可将基板放入差品位，如基板厚度合格再经切割装置和打标装置对基板进行处理后将基板放入良品位上，从而实现了同时对基板厚度和尺寸参数的精准把控，同时对基板进行打标操作，方便后续工位对每块基板的快速识别，进而方便后续工位对不同厚度的基板进行相应的塑封粉补差操作，保证了产品的一致性。上述半导体生产线通过采用上述基板处理设备，能够使用合格的基板并根据此基板的信息作出相应的后续处理，保证产品的一致性。
处理设备以及半导体生产线

[发明专利]显示装置-CN200710186955.0无效
发明人：潘轩霖;施博盛;杨界雄;陈柏仰 -专利权人：瀚宇彩晶股份有限公司
申请日： 2007-11-15 - 公布日： 2009-05-20 - 主分类号： G02F1/133 文献下载
摘要：根据本发明，提供一种显示装置，包含基板、感应元件以及对向电极。其中，基板包括像素电极和第一导线，以及与基板对应的对向基板。感应元件配置于基板上，具有保护层，且电连接第一导线，并与像素电极绝缘。对向电极配置于所述基板与所述对向基板之间，并对应于感应元件，其中保护层与对向电极间具有可变间隙d，且d≤1μm。
显示装置

[发明专利]液晶显示装置-CN201310547951.6无效
发明人：米山正展;森田伸 -专利权人：株式会社日本显示器
申请日： 2013-11-07 - 公布日： 2014-05-21 - 主分类号： G02F1/1335 文献下载
摘要：液晶显示装置中具备具有相互对置的对置面的一对基板，该一对基板中的一个基板的对置面具有显示区域，在该显示区域中以矩阵状配置有像素。此外，在所述一对基板的所述对置面之间保持有液晶层，在所述一对基板中的一个基板的对置面侧形成有以包围所述显示区域的方式配置的第1遮光部，在该遮光部与所述基板中的一个基板的外周端之间还配置有第2遮光部，所述第
液晶显示装置

[发明专利]半导体装置的制造装置以及制造方法-CN201680070449.2有效
发明人：星野智久;滨田正人 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2016-11-22 - 公布日： 2020-05-12 - 主分类号： C25D5/00 文献下载
摘要：半导体装置的制造装置具有：基板保持部，其用于保持基板；处理液供给部，其用于对被该基板保持部保持的基板供给处理液；电解处理部，其与该基板保持部相向地配置，用于对被该基板保持部保持的基板进行电解处理；以及端子，其用于对基板施加电压，其中，电解处理部具有：直接电极，其与被供给到基板的处理液接触且用于在该直接电极与基板之间施加电压；以及间接电极，其用于在被供给到基板的处理液中形成电场。
半导体装置制造以及方法

[发明专利]基板制程、基板、显示面板及显示装置-CN201710186222.0有效
发明人：简重光 -专利权人：惠科股份有限公司;重庆惠科金渝光电科技有限公司
申请日： 2017-03-24 - 公布日： 2021-02-26 - 主分类号： G03F7/40 文献下载
摘要：本发明公开一种基板制程、基板、显示面板及显示装置，所述基板制程的步骤包括：提供一基板；对所述基板进行第一光阻涂布；对经所述第一光阻涂布处理后的所述基板进行真空干燥处理；对经真空干燥处理后的所述基板进行曝光处理，并使用光罩遮挡部分所述第一光阻；对经曝光处理后的所述基板进行显影处理，形成第一光阻阵列；对经显影处理后的所述基板进行第一次热风刀处理。本发明技术方案可得到成本低且良率高的彩色滤光片基板。
基板制程基板显示面板显示装置

[发明专利]无芯基板及其封装方法-CN201811624105.9有效
发明人：黄文迅;庭玉文;崔永涛 -专利权人：广州兴森快捷电路科技有限公司;深圳市兴森快捷电路科技股份有限公司
申请日： 2018-12-28 - 公布日： 2021-05-25 - 主分类号： H05K3/00 文献下载
摘要：本发明提供一种无芯基板及其封装方法。该无芯基板封装方法包括如下步骤：对所述基板进行贴膜；对所述基板进行曝光；对所述基板的金属层进行刻蚀开槽，以使所述金属层凹陷，并形成凹槽；将填充件压合于所述基板，以使所述填充件对所述凹槽进行填充；对所述基板进行层压、电镀、加工，以形成封装基板。这样可以防止药水渗入无芯基板，保证无芯基板的性能和使用寿命，并在一定程度上提高产品良率和成品相关电性能，保证PCB板的成型质量。
无芯基板及其封装方法

[发明专利]基板处理装置、半导体装置的制造方法和记录介质-CN201910198182.0有效
发明人：广地志有 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2019-03-15 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及基板处理装置、半导体装置的制造方法和记录介质。消除由基板处理装置等的基座的位置变化造成的对工序重现性的影响。本发明提供一种技术，具有：处理基板的处理室、向基板供给电磁波的电磁波供给部、对基板和抑制基板的边缘对电磁波的吸收的基座进行保持的基板保持部、搬运基板的基板搬运部、以及构成为通过基板搬运部修正基座位置的控制部
处理装置半导体制造方法记录介质

[发明专利]液晶显示面板-CN201110055107.2无效
发明人：许家郎;林廷政 -专利权人：友达光电股份有限公司
申请日： 2011-02-28 - 公布日： 2011-07-13 - 主分类号： G02F1/1335 文献下载
摘要：一种液晶显示面板，其包括一主动组件数组基板、一对向基板、一液晶层、一偏振片、一检偏片以及一盖板。液晶层配置于主动组件数组基板与对向基板之间，偏振片配置于对向基板上，且偏振片与液晶层分别位于对向基板的两对侧。检偏片配置于主动组件数组基板上，且检偏片与液晶层分别位于主动组件数组基板的两对侧。
液晶显示面板

[发明专利]用于基板的对位方法及系统-CN201780096338.3在审
发明人：胡康军 -专利权人：深圳市柔宇科技有限公司
申请日： 2017-12-29 - 公布日： 2020-07-10 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：一种用于基板的对位方法及系统，该对位方法包括：分别在第一基板(10)和第二基板(20)上形成一组电极对，该组电极对包括设置在第一基板(10)上的对位电极及设置在第二基板(20)上的电极阵列；向该组电极对输出驱动信号，检测该组电极对之间的耦合参数，并根据所检测的耦合参数及标准参数移动第一基板(10)和/或第二基板(20)，以使第一基板(10)和第二基板(20)处于对准位置。
用于对位方法系统

[发明专利]显示装置-CN201510074182.1有效
发明人：吕旻洲;李春生 -专利权人：友达光电股份有限公司
申请日： 2015-02-12 - 公布日： 2018-04-20 - 主分类号： G02F1/1335 文献下载
摘要：本发明揭露一种显示装置，包括第一基板、第一遮光层、第一光学膜、第二基板以及显示介质。第一遮光层位于第一基板上且具有第一对位图案。第一光学膜位于第一基板上。第一光学膜的侧边边缘具有第二对位图案。第一对位图案与第二对位图案重叠。第二基板位于第一基板的对向。显示介质位于第一基板与第二基板之间。
显示装置

[实用新型]基板清洗装置-CN201920574918.5有效
发明人：山下刚秀 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-04-25 - 公布日： 2019-12-06 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种基板清洗装置，用于基板的表面的清洗，具备：基板保持部，其将基板保持为水平并使其能够旋转；旋转机构，其与基板保持部连接，用于使基板保持部旋转；清洗机构，其设置于基板保持部的上方，通过液体喷嘴对基板的表面供给液体进行清洗；液体供给机构，其与清洗机构连接，对基板的表面供给液体进行清洗；气体供给机构，其与清洗机构连接，通过气体喷嘴对基板的表面供给气体；以及控制机构，其与旋转机构、清洗机构以及气体供给机构连接，以至少在部分期间一边使基板旋转一边对基板的表面供给液体来清洗、然后使基板旋转并使基板干燥的方式，来控制旋转机构、清洗机构以及气体供给机构。
清洗机构基板保持部对基板气体供给机构供给液体清洗基板旋转旋转机构基板表面供给气体基板清洗装置液体供给机构基板保持控制旋转气体喷嘴液体喷嘴

[发明专利]基板清洗方法及成膜方法-CN201710589167.X有效
发明人：卢瑞 -专利权人：武汉华星光电技术有限公司
申请日： 2017-07-19 - 公布日： 2019-12-24 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供一种基板清洗方法及成膜方法。本发明的基板清洗方法，首先对基板进行前期清洗，然后在基板上形成超双疏膜层，最后用水对基板进行后期清洗，通过在经过前期清洗后的基板上形成疏水疏油的超双疏膜层，可避免后续水痕和油污问题的产生，实现成膜前基板清洁度的提升，进而可有效提高成膜质量，提升产品良率，并且对基板的电性不会产生影响。本发明的成膜方法，成膜前采用上述的基板清洗方法对基板进行清洗，实现了成膜前基板清洁度的提升，进而有效提高了成膜质量，提升了产品良率，并且对基板的电性不会产生影响。
清洗方法

[发明专利]半导体制造装置及基板支承装置的冷却方法-CN201710712078.X在审
发明人：高冈邦文 -专利权人：日新离子机器株式会社
申请日： 2017-08-18 - 公布日： 2018-05-29 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种半导体制造装置及基板支承装置的冷却方法。使用简单的结构在短时间内使基板支承装置的温度下降。半导体制造装置具备：收纳处理基板的第一收纳室；收纳伪基板的第二收纳室；对基板进行支承的带有加热功能的基板支承装置；及在各收纳室与基板支承装置之间进行各基板的搬运的基板搬运装置，其中，所述半导体制造装置还具备控制装置，控制装置在前面的基板处理中的基板处理温度比后面的基板处理中的基板处理温度高的情况下，在进行后面的基板处理之前对基板搬运装置进行操作，对温度比前面的基板处理中的基板处理温度低的伪基板进行搬运。
基板处理基板支承装置半导体制造装置收纳室控制装置对基板伪基板基板搬运冷却基板搬运装置搬运装置加热功能收纳处理收纳支承

[发明专利]一种显示面板、其对盒方法及显示装置-CN201610214081.4在审
发明人：范宇光;李建;王世超;李京鹏 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
申请日： 2016-04-07 - 公布日： 2016-06-01 - 主分类号： G02F1/1339 文献下载
摘要：本发明公开了一种显示面板、其对盒方法及显示装置，该显示面板包括：阵列基板、对向基板，以及位于阵列基板和对向基板之间的液晶层和多个隔垫物；隔垫物的一端形成于阵列基板或对向基板，另一端通过粘合胶与对向基板或阵列基板粘合具体地，本发明实施例提供的显示面板将隔垫物与阵列基板或对向基板上对应的位置通过粘合胶进行粘合固定，这样最大程度上减少了两者之间的位错。在应用于柔性显示时，显示基板在弯曲和挤压状态下支撑点不易发生相对位移，有效改善了由于隔垫物与对应基板发生相对位移导致的漏光现象，从而可以实现显示装置在弯曲和挤压下的正常显示。
一种显示面板方法显示装置

[发明专利]显示面板、制备方法及显示装置-CN202080002234.3在审
发明人：干泉;张明飞;王永灿;吕凤珍;邵贤杰;马睿 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
申请日： 2020-09-29 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： G02F1/1339 文献下载
摘要：本公开实施例提供的显示面板、制备方法及显示装置，包括：彩膜基板；阵列基板，与彩膜基板对向设置；其中，彩膜基板包括：对向基板；色阻层，设置于对向基板上；多个支撑结构，间隔设置于色阻层背离对向基板一侧；其中，阵列基板包括：衬底基板；多个辅助结构，间隔设置于衬底基板面向对向基板一侧；其中，多个辅助结构中的至少一个辅助结构与多个支撑结构中的至少一个支撑结构对应接触设置；其中，支撑结构包括：层叠设置的至少两个支撑层；至少两个支撑层包括远离对向基板一侧的平坦层；平坦层包覆至少两个支撑层中的其余支撑层，且支撑结构中的平坦层的坡度角大于其余支撑层的坡度角。
显示面板制备方法显示装置