专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]基板处理装置的控制装置和基板处理显示方法-CN201810205462.5有效
  • 山本智子 - 东京毅力科创株式会社
  • 2018-03-13 - 2021-11-30 - H01L21/67
  • 本发明提供一种基板处理装置的控制装置和基板处理显示方法。目的在于在按照系统制程执行基板的处理之前容易地掌握处理室内的处理的时序。基于系统制程来执行基板的处理的基板处理装置具有:创建部,其当接收到基板处理制程和多个调节处理制程的输入时,创建表示所接收到的所述基板处理制程和多个调节处理制程的执行过程的系统制程;以及显示部,在按照所创建的所述系统制程执行基板的处理之前,所述显示部以时间序列显示对基板进行处理的每个处理室中的基板处理和多个调节处理的执行顺序。
  • 处理装置控制显示方法
  • [发明专利]薄型玻璃基板的制作方法-CN201610065013.6有效
  • 郑自可 - 武汉华星光电技术有限公司
  • 2016-01-29 - 2019-03-12 - C03C15/00
  • 本发明提供一种薄型玻璃基板的制作方法,包括如下步骤:步骤1、提供玻璃基板(1),对所述玻璃基板(1)进行抛光制程;步骤2、对所述玻璃基板(1)进行薄化制程;所述薄化制程中通过向所述玻璃基板(1)的两侧表面喷淋蚀刻液,对所述玻璃基板(1)进行蚀刻;该方法通过在对玻璃基板进行薄化制程前先对玻璃基板进行抛光制程,减少玻璃基板表面的凹凸点、刮伤等不良,然后在对玻璃基板的薄化制程中采用向玻璃基板的两侧表面喷淋蚀刻液的方法,对玻璃基板进行蚀刻;在实现玻璃基板薄化的同时,有效避免了凹凸点、刮伤、碎亮点等不良的产生,提升了制程的良率。
  • 玻璃制作方法
  • [发明专利]一种基板抽检方法-CN201910637499.X有效
  • 王少朋;施俊卿 - 咸阳彩虹光电科技有限公司
  • 2019-07-15 - 2023-09-19 - G02F1/13
  • 本发明公开了一种基板抽检方法,包括:根据预设抽检参数对基板进行抽检和前值量测以获得所述基板的第一测量结果;将所述基板按照预先设定的顺序绑定至目标制程机台并执行相应制程;对所述基板进行后值量测以获得第二测量结果;根据所述第一测量结果和所述第二测量结果确定所述目标制程机台的制程能力。该基板抽检方法通过将经过前值量测的基板按照预先设定的顺序分配至目标制程机台,从而能够对所有制程机台的制程能力进行实时监控,有效避免了因分配不均导致某些制程机台未被定期监控的风险。
  • 一种抽检方法
  • [发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN202080082366.1在审
  • 后藤修平;金子知广;松本丈志 - 东京毅力科创株式会社
  • 2020-11-27 - 2022-07-15 - H01L21/304
  • 本公开的一个方式的基板处理装置(1)具备控制部(61),所述控制部(61)并行地执行第一制程和第二制程,所述第一制程和第二制程是包括从交接部(14)向液处理部(17)搬送基板的第一搬送处理、通过液处理部(17)进行的液处理、从液处理部(17)向干燥处理部(18)搬送基板的第二搬送处理以及通过干燥处理部(18)进行的干燥处理的两个制程,其中,至少液处理及干燥处理的处理时间在所述第一制程和与第二制程中互不相同当在执行针对多个基板中的第一基板的第一制程的期间开始执行针对多个基板中的第二基板的第二制程的情况下,控制部(61)以使针对第一基板的第二搬送处理的期间与针对第二基板的第二搬送处理的期间不重叠的方式决定针对第二基板的第一搬送处理的开始定时
  • 处理装置方法
  • [发明专利]基板转运设备-CN201110452786.7有效
  • 陈建名 - 致茂电子(苏州)有限公司
  • 2011-12-30 - 2012-07-11 - H01L21/677
  • 一种基板转运设备,用于接收自一进料位置取出的待处理基板以及将已处理基板送进一出料位置,于该进料位置以及出料位置间用于衔接一基板制程装置,该基板转运设备包括有一设置于该进料位置的导入机台、一设置于该出料位置的导出机台及至少两组于该些运行轨道及该基板制程装置之间作动的汲取装置,而该导入机台及导出机台皆具有升降模组、牙叉式轨道及运行轨道,其中导入机台能够输出基板,并由汲取装置将基板搬运至该基板制程装置,而基板制程装置所处理后的基板,能够再由汲取装置搬运及由导出机台接收来自该基板制程装置所输出基板,另外该汲取装置于搬运基板的过程中,旋转该基板的方向,以方便承接后续其他制程设备的使用。
  • 转运设备
  • [发明专利]薄膜沉积装置及其系统-CN201080020337.9有效
  • 裵勍彬;尹亨硕;姜敞晧 - 韩商SNU精密股份有限公司
  • 2010-05-06 - 2012-04-18 - C23C14/56
  • 本发明揭示一种薄膜沉积装置,包含:传送室,用以传送基板;以及第一制程室及第二制程室,分别连接至所述传送室的两侧,所述第一制程室与所述第二制程室分别均包含:第一基板固定器及第二基板固定器,被配置成相互间隔开;以及喷射单元,设置于所述第一基板固定器与所述第二基板固定器之间,用以依序供应沉积原料至所述第一基板固定器与所述第二基板固定器。本发明的装置具有多个用以执行相同制程制程室,所述多个制程室分别连接至每一传送室的两侧,故可同时对多个基板执行薄膜制程,借此改良处理速度。
  • 薄膜沉积装置及其系统
  • [发明专利]阵列基板的制备方法及阵列基板-CN202110223720.4有效
  • 张合静;刘振 - 重庆先进光电显示技术研究院;重庆惠科金渝光电科技有限公司
  • 2021-03-01 - 2023-06-02 - H01L21/77
  • 本申请提供了一种阵列基板的制备方法及阵列基板,包括在基板上依次沉积第一金属层、绝缘层、有源层和掺杂层;采用第一道光罩制程在掺杂层上形成光阻,并刻蚀处理形成栅极和沟道;在基板上沉积第二金属层;采用第二道光罩制程形成源漏极金属层;在基板上沉积钝化层;采用第三道光罩制程形成像素电极层。本申请通过第一道光罩制程形成栅极及沟道,通过第二道光罩制程形成源漏极金属层,通过第三道光罩制程形成钝化层及像素电极层。在第一道光罩制程与第二道光罩制程之间沉积第二金属层,从而可避免第二金属层的下方之两侧凸出有源层,从而减小TFT光漏电,提高面板的分辨率。本申请通过三道光罩制程制备阵列基板,可减少工艺流程。
  • 阵列制备方法

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