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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]图像处理装置、物品处理装置以及图像处理方法-CN201610090097.9在审
发明人：松木洋;名取直毅;长谷部光威 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2016-02-17 - 公布日： 2016-08-24 - 主分类号： H04N1/00 文献下载
摘要：从对象物取得图像的图像处理装置具备照明、传感器部以及控制部，所述照明具有多个光源。多个光源向对象物分别照射不同颜色的光。
图像处理装置物品以及方法

[发明专利]装订处理装置、后处理装置及装订处理方法-CN201010245864.1有效
发明人：笹原克也 -专利权人：株式会社东芝;东芝泰格有限公司
申请日： 2010-08-03 - 公布日： 2011-03-23 - 主分类号： B42C1/12 文献下载
摘要：本发明提供一种装订处理装置、后处理装置及装订处理方法。该装订处理装置的特征在于，包括：装订器，所述装订器具有用于重叠插入多张纸张的开口部，并且进行装订这些纸张的一端的装订处理；第1、第2开关，在朝所述装订器的所述开口部插入所述纸张时，如果所述纸张的相邻两边的边缘部的每个按压了所述第1、第2开关，则所述第1、第2开关闭合；以及装订器驱动部，当所述第1、第2开关的两者都闭合时，指示所述装订器进行装订处理。
装订处理装置方法

[发明专利]基板处理装置和基板处理装置的处理方法-CN201710142173.0有效
发明人：天野嘉文;守田聪;池边亮二;宫本勲武 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-03-10 - 公布日： 2022-03-04 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：提供基板处理装置和基板处理装置的处理方法。使得即使在与基板的周缘部相向的位置配置拍摄装置也能够进行良好的拍摄。进行去除基板(W)的周缘部的膜的处理的基板处理装置(16)具备：旋转保持部(210)，其保持所述基板并使所述基板旋转；第一处理液供给部(250A)，其在通过所述旋转保持部而基板正在向第一旋转方向(R1)旋转时，向所述基板的周缘部供给用于去除所述膜的第一处理液；拍摄部(270)，其设置于比所述基板中的第一处理液的到达区域(902)靠所述第一旋转方向上的上游侧的位置来拍摄所述基板的周缘部。
处理装置方法

[发明专利]热处理装置、基板处理装置和热处理方法-CN201710609414.8有效
发明人：稻垣幸彦 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-07-25 - 公布日： 2021-06-25 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供可提高基板的面内温度均匀性的热处理装置、具备该热处理装置的基板处理装置以及热处理方法。热处理装置含有待机部、加热部和搬送机构。待机部含有多个支承销。
热处理装置处理方法

[发明专利]抛光处理装置、基板处理装置及抛光处理方法-CN201510651437.6有效
发明人：山口都章;小畠严贵;水野稔夫 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2015-10-10 - 公布日： 2019-05-28 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明涉及抛光处理装置、基板处理装置及抛光处理方法，抑制基板的损伤并且进行研磨。或者高效率地清洗去除粘性较大的异物等。用于对基板进行抛光处理的抛光处理装置具备：抛光台，所述抛光台是用于支承基板的抛光台，并构成为能够旋转；及抛光头，所述抛光头能够安装用于对基板进行抛光处理的抛光垫。用于向基板供给抛光处理用的处理液的内部供给线路形成于抛光头的内部。抛光处理装置还具备除所述内部供给线路以外另外设置的外部喷嘴，该外部喷嘴用于向基板供给处理液。
抛光处理抛光台抛光处理装置抛光头基板处理装置供给线路喷嘴对基板基板供给处理液方向移动基板供给支承基板研磨处理液高效率抛光垫抑制基外部异物去除清洗损伤

[发明专利]凝集处理方法、凝集处理装置及水处理装置-CN201410376554.1无效
发明人：石井聪之;冲代贤次;佐佐木洋 -专利权人：株式会社日立制作所
申请日： 2014-08-01 - 公布日： 2015-03-18 - 主分类号： C02F1/52 文献下载
摘要：本发明提供：把充分溶解的凝集剂水溶液添加至被处理水，能实现高效率凝集处理的凝集处理方法、凝集处理装置及水处理装置。该装置具有：具备搅拌机(5)的、贮存凝集剂水溶液的凝集剂水溶液贮存槽(1)，测定凝集剂水溶液贮存槽(1)内的凝集剂水溶液粒径分布的粒径分布测定装置(50)，混合被处理水与添加凝集剂的水溶液，形成凝集物的凝集槽(11)，从含凝集物的处理水除去凝集物的凝集物除去部(9)，以及控制搅拌机(5)的控制部(6)，是根据测定的粒径分布，以使凝集剂水溶液粒径分布的中值粒径为1.0μm以下。
凝集处理方法装置水处理

[发明专利]薄片处理装置以及薄片处理装置的处理方法-CN201110359488.3无效
发明人：泷裕之;寺尾康伸;大城敏明;杉崎芳晃;山本干夫 -专利权人：株式会社东芝;东芝泰格有限公司
申请日： 2008-06-18 - 公布日： 2012-06-27 - 主分类号： B65H31/24 文献下载
摘要：本发明提供薄片处理装置以及薄片处理装置的处理方法。其中，该薄片处理装置包括：承载部，用于堆码由图像形成装置输送的第一薄片至第三薄片，将所述第二薄片、第三薄片的后端从所述第一薄片的后端在输送方向后端侧错开堆码；挡块，配置于堆码在所述承载部上的所述薄片的后端侧
薄片处理装置以及方法

[发明专利]基片处理装置、液处理装置和液处理方法-CN02141002.X无效
发明人：立山清久;元田公男;佐田彻也;宫崎一仁;筱木武虎 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2002-06-19 - 公布日： 2003-01-22 - 主分类号： G03F7/26 文献下载
摘要：目的在于在传输路径上以单位时间高效地从基片上去除处理液。当基片(G)偏离规定位置时，停止旋转传输滚轴(138)，使基片(G)静止。之后，操作驱动部(188)使升降轴(186)上升。
处理装置方法

[发明专利]信号处理装置、信号处理方法和介质处理装置-CN201480054755.8有效
发明人：杉山昭彦;宫原良次 -专利权人：日本电气株式会社
申请日： 2014-08-07 - 公布日： 2019-05-03 - 主分类号： H04R3/00 文献下载
摘要：为了强调目标信号和抑制其它分量而未增加阵列大小并且未增加传感器的数目，提出了一种用于强调目标信号的信号处理装置。这一信号处理装置包括：第一阵列处理单元，该第一阵列处理单元强调给定的信号，由此生成第一阵列处理的信号，该给定的信号是从多个传感器接收的信号中的一些信号；以及解相关器，该解相关器从第一阵列处理的信号抹去信号分量
信号处理装置介质方法程序

[发明专利]热处理方法和热处理装置、基板处理装置-CN200780020384.1无效
发明人：三好秀典 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2007-05-28 - 公布日： 2009-06-17 - 主分类号： H01L21/316 文献下载
摘要：作为热处理装置的热处理单元(4)具有：腔室(42)，收容形成有低介电常数层间绝缘膜的晶片(W)；蚁酸供给机构(44)，向该腔室(42)内供给气相的蚁酸；和加热器(43)，在通过蚁酸供给机构(44)供给蚁酸后的腔室
热处理方法装置处理

[发明专利]处理方法、数据处理方法、处理装置和数据处理装置-CN201710914731.0有效
发明人：张雅;方伟强 -专利权人：联想（北京）有限公司
申请日： 2017-09-29 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： G06F3/0488 文献下载
摘要：本公开提供了一种处理方法，应用于第一电子设备，包括：获得输入装置采集的操作数据；确定工作模式，其中，所述工作模式包括：第一模式，其中，在所述第一模式下，向第一电子设备传输所述操作数据；第二模式，其中，在所述第二模式下本公开还提供了一种数据处理方法、一种处理装置以及一种数据处理装置。
处理方法数据处理装置

[发明专利]热处理装置、基板处理装置、热处理方法及基板处理方法-CN201710704464.4有效
发明人：春本将彦;浅井正也;田中裕二;金山幸司 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-08-16 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开热处理装置、基板处理装置、热处理方法及基板处理方法。在该处理装置的室内容纳有加热板。在该室内存在含溶剂气体的状态下，在加热板的上方位置保持形成有DSA膜的基板。由此，对基板上的DSA膜进行热处理。
热处理装置处理方法

[发明专利]处理液处理装置和具备该装置的基板处理装置-CN200710104629.0无效
发明人：西川畅浩;田中幸雄;柏井俊彦 -专利权人：住友精密工业株式会社
申请日： 2007-05-18 - 公布日： 2008-02-13 - 主分类号： C23F1/08 文献下载
摘要：本发明提供一种能够延长处理液的更换周期、防止基板处理效率下降、抑制基板处理成本的基板处理装置等。基板处理装置(1)包括：第一处理液循环机构(20)，使处理液在贮存槽(11)与基板处理机构(12)之间循环；两个吸附塔(32、33)，吸附通过基板处理机构(12)的基板处理而包含在处理液中的金属离子；第二处理液循环机构(34)，有选择地向吸附塔(32、33)中的任意一个供给贮存槽(11)内的处理液并使其循环；和控制装置(28)，控制第二处理液循环机构(34)的动作，使得被供给处理液的吸附塔(32、33)按照规定时间间隔交替切换
处理装置具备

[发明专利]处理装置和处理方法-CN201410679924.9在审
发明人：大冢诚;恐神贵行 -专利权人：国际商业机器公司
申请日： 2014-11-24 - 公布日： 2015-06-17 - 主分类号： G06Q10/06 文献下载
摘要：为将认知性偏向的消费者的选择行为表示为可学习的模型，提供了生成选择模型的处理装置、处理方法和程序，该选择模型通过将对象对给予的选项的选择行为模型化而得到。该处理装置包含获取单元、输入矢量生成单元和学习处理单元，该获取单元被配置为获取包含至少一个用于学习的选择行为的学习数据，其中给予所述对象的选项是输入选项并且从所述输入选项中选择出的选项是输出选项，该输入矢量生成单元被配置为生成输入矢量，该输入矢量指示多个种类的选项中的每一个是否被包含在输入选项中，该学习处理单元被配置为使用与用于学习的输入选项对应的输入矢量和输出选项学习该选择模型。
处理装置方法

[发明专利]处理方法及处理装置-CN201710910038.6在审
发明人：李洪伟 -专利权人：联想（北京）有限公司
申请日： 2017-09-29 - 公布日： 2018-02-27 - 主分类号： G06F3/0487 文献下载
摘要：本申请实施例公开了一种处理方法及处理装置，第一电子设备向第二电子设备发送关联第一功能的界面数据，该界面数据对应的显示界面包括输入区域；第一电子设备接收来自第二电子设备的输入数据，其中输入数据是第二电子设备显示显示界面后
处理方法装置

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