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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]处理装置-CN200910000492.3有效
发明人：东条利洋;佐佐木和男 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2009-02-05 - 公布日： 2009-08-12 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种处理装置，当在处理容器内使处理气体流动对被处理体进行处理时，能够使处理的面内均匀性提高，并且能够抑制颗粒向被处理体的附着，处理装置的载置台被设置在处理容器的内部，用于载置被处理体；处理气体供给单元用于从该载置台的上方侧供给处理气体，对载置于该载置台上的被处理体进行处理。气体排气部用于从所述载置台的周围对处理容器内的气体进行排气；气流导向部件沿着该载置台的周方向设置在所述载置台的周缘部的上方，在与该周缘部之间向外侧引导气流。
处理装置

[发明专利]处理装置-CN200710107426.7有效
发明人：保坂广树;秋山收司;带金正 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2007-05-11 - 公布日： 2007-11-14 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种处理装置，该处理装置能够不增加已有的单装载类型的处理装置的占地面积，通过增设装载端口而改变成双装载类型的处理装置，而且，能够利用已有的自动搬送线实现晶片搬送的完全自动化。配置在第二装载端口(13B)的下方并且进行晶片的定位的副卡盘(18)；和配置在第一、第二装载端口(13A、13B)之间并且在副卡盘(18)与探针室(12)之间搬送晶片的具有能够旋转和升降的搬送臂(141)的晶片搬送装置
处理装置

[发明专利]处理装置-CN200510051760.6有效
发明人：中川良幸;村田和广 -专利权人：大日本网目版制造株式会社;独立行政法人产业技术综合研究所
申请日： 2005-03-01 - 公布日： 2005-09-28 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明的目的是提供一种具有优良的通用性且能以高效率进行规定的处理的处理装置。头部(10)通过按照来自控制装置全体的控制部(50)的动作指令使X轴驱动部(41)、Y轴驱动部(42、43)和Z轴驱动部(44)动作，可以沿X、Y、Z方向自由移动。
处理装置

[发明专利]处理装置-CN200510083076.6有效
发明人：秋山卓也;仲西真一;田村崇 -专利权人：京瓷美达株式会社
申请日： 2005-07-08 - 公布日： 2006-01-18 - 主分类号： B41J29/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种处理装置，其通过一个操作就能够使面板朝着装置主体侧方移动且能够将该面板上所带的操作部和/或显示部从朝上的姿势变更为横向的姿势。它是一种具有装置主体(2)以及可相对于装置主体(2)进行动作地被支撑的、具有操作部(5)和/或显示部(6)的面板(1)的处理装置(A)，该处理装置(A)具有支撑面板(1)的面板支撑机构(C)，从而与朝着面板(1)的装置主体(2)侧方的移动相联动，使操作部(5)和/或显示部(6)从朝上的姿势变更为朝着上述侧方的横向姿势。
处理装置

[发明专利]处理装置-CN200410097993.5有效
发明人：野口孝史;野田贵之;加藤博光;河野克己 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2004-12-01 - 公布日： 2005-07-13 - 主分类号： G06F17/60 文献下载
摘要：本发明提供处理装置。由于必须向每名担当人分配对于各个分析业绩信息的访问权限，因此在迅速而且正确地进行作业的方面存在界限，另外，在进行根据权限不同的多名担当人组合的圆滑地访问控制方面存在界限，本发明的分析装置具备受理个人认证信息的个人认证信息受理单元；安全信息DB；把上述个人认证信息处理单元所受理的个人认证信息变换为用户ID，检测与处理作业有关的事件，通过把上述事件与上述用户ID建立关系，生成或更新对于处理业绩信息的访问管理表，并存储在上述安全信息DB中，基于上述访问管理表控制对上述处理业绩信息的访问的处理信息管理单元。
处理装置

[发明专利]处理装置-CN201610258654.3有效
发明人：哈里什·维迪雅;拉凯什·拉曼;马诺基·拉文德拉纳特·卡马特 -专利权人：安华高科技股份有限公司
申请日： 2011-10-25 - 公布日： 2021-01-15 - 主分类号： H04W52/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种处理装置，所述装置包括：基于传输队列的深度确定从多输入多输出MIMO通信向单输入单输出SISO通信转变的模块，所述传输队列存储将从所述装置向与所述装置无线通信的节点发送的数据，基于所述确定，向所述节点发送消息，所述消息指明由所述装置从所述MIMO通信向所述SISO通信的转变的模块；以及在向所述节点发送所述消息之后，从与所述节点的MIMO通信向与所述节点的SISO通信转变的模块。
处理装置

[发明专利]处理装置-CN201610269430.2有效
发明人：笠原稔大 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2011-02-18 - 公布日： 2018-07-10 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种处理装置，具备使操作容易且不成为产生微粒的原因，能够适用于大型处理容器的防止散热构造。抑制散热单元(105)以覆盖处理容器(101)的各侧壁(101b)的外壁面的一部分或大致全部面的方式沿着侧壁(101b)配置。抑制散热单元(105)由多个板材(106)构成，各板材(106)安装在隔离件(107)上，该隔离件(107)配设于处理容器(101)的侧壁(101b)的外壁面。各板材(106)通过插装隔离件(107)而与处理容器(101)隔开间隔地安装，从而在中间形成空气隔热部(180)。
处理容器隔离件侧壁处理装置散热单元空气隔热部隔开间隔散热构造外壁面插装外壁覆盖配置

[发明专利]处理装置-CN200410038016.8有效
发明人：西本伸也;樋熊政一;武藤慎司;藤原尚;中山博之;岛贯义纪 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2004-05-12 - 公布日： 2004-12-01 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种处理装置，通过提高使静电夹头层和支承部粘接的接合层的热传导率，缩短基板稳定至规定温度所需的时间，还可抑制由等离子体产生的活性种引起的所述接合层的劣化。
处理装置

[发明专利]处理装置-CN201780089789.4有效
发明人：小崎成治;平明德;名仓健一 -专利权人：三菱电机株式会社
申请日： 2017-04-26 - 公布日： 2022-02-08 - 主分类号： G08G1/01 文献下载
摘要：本发明的处理装置(10)具有：物体识别部(103)，其根据由传感器(1‑1～1‑n)测定出的数据生成表示物体的状态的信息即物体识别信息；以及可靠度判定部(102)，其使用传感器(1‑1～1‑n)的个体信息
处理装置

[发明专利]处理装置-CN201780012926.4有效
发明人：玉野就大 -专利权人：三菱电机株式会社
申请日： 2017-07-11 - 公布日： 2020-03-31 - 主分类号： G01K7/00 文献下载
摘要：处理装置(100)在内部具有模拟电路，该处理装置具有：设置方向检测部(102)，其对处理装置(100)所设置的姿态进行检测；通电时间测量部(101)，其对向处理装置(100)的通电时间进行测量；以及控制部(104)，其基于设置方向检测部(102)中的检测结果和通电时间测量部(101)中的测量结果，对模拟电路中的处理结果进行校正。由此，处理装置(100)能够缩短模拟电路的稳定动作待机时间。
处理装置

[发明专利]处理装置-CN201880074074.6有效
发明人：藤里敏章;石坂忠大;望月隆;鸟屋大辅 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-10-12 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：在未形成等离子体的气氛下对基板进行处理时，能够可靠性较高地对该基板进行吸附，在基板的面内进行均匀性较高的处理。构成具备以下构件的装置：直流电源(35)，其正极侧与静电卡盘(3)的电极(32)和导电构件(4)中的一者连接，负极侧与静电卡盘(3)的电极(32)和导电构件(4)中的另一者连接，用于在处理容器(11)内未形成等离子体的状态下向位于与基板(W)相接的处理位置的导电构件(4)和电极(32)之间施加电压，利用由此产生的静电吸附力使基板(W)吸附于静电卡盘(3)的电介质层(31)；以及处理气体供给部(28)，在使基板(W)吸附于电介质层(31)的状态下，向该基板(W)供给处理气体并进行处理。
处理装置

[发明专利]处理装置-CN200910149488.3无效
发明人：南雅人;佐佐木芳彦 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2009-06-25 - 公布日： 2009-12-30 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种处理装置。在内部具备以包围基板的方式配置的用于抑制方形基板的周边区域的负载效应的整流部件的载置台中，当对该基板进行蚀刻处理时，抑制由该蚀刻处理生成的生成物所造成的基板污染。并且，通过使由基板蚀刻处理生成的生成物吸附在该多孔体的表面，提高生成物和整流部件的紧贴强度，抑制该生成物的脱落。
处理装置

[发明专利]处理装置-CN200910149131.5无效
发明人：南雅人;佐佐木芳彦 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2009-06-17 - 公布日： 2009-12-23 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种可以减轻设置在被处理体周围的整流壁的弯曲的处理装置，向处理容器(20)的内部供给处理气体，对载置台(3)上载置的被处理体(S)，例如进行蚀刻等处理的处理装置(2)中，整流部件(5)构成为，连接有沿着被处理体(S)的各边延伸的多个整流壁(51)，并包围该被处理体(S)，各整流壁(51)，其两端部被支撑部件(52)支撑，而且，其上缘形成为向该整流壁(51)的中央部逐渐升高的形状，另一方面，下缘形成为与上述载置台的上面平行
处理装置

[发明专利]处理装置-CN201110339978.7无效
发明人：福田达史;木内智一 -专利权人：奥林巴斯株式会社
申请日： 2011-11-01 - 公布日： 2012-07-04 - 主分类号： B65G49/06 文献下载
摘要：本发明提供一种能够防止基板和吸盘之间的吸附失误的处理装置。该处理装置包括：处理部，其用于对处理对象的基板实施规定的处理；以及输送台，其用于载置基板而输送该基板，其特征在于，输送台包括：支承部件，其具有在沿输送基板的输送方向观看时端部位于比中央部靠铅垂下方的位置的上表面并用于直接或间接地支承被配置在该上表面的上方的基板；保持构件，其用于以能够沿与输送方向平行地延伸的输送轴移动的方式保持基板；以及驱动部，其用于使保持构件沿输送轴移动；支承部件支承基板的支承高度在设置有处理部的处理部设置区域中与保持构件保持基板的保持高度相同，支承部件支承基板的支承高度在处理部设置区域以外的区域中低于保持高度。
处理装置

[发明专利]处理装置-CN201110042001.9无效
发明人：笠原稔大 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2011-02-18 - 公布日： 2011-09-21 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种处理装置，具备使操作容易且不成为产生微粒的原因，能够适用于大型处理容器的防止散热构造。抑制散热单元(105)以覆盖处理容器(101)的各侧壁(101b)的外壁面的一部分或大致全部面的方式沿着侧壁(101b)配置。抑制散热单元(105)由多个板材(106)构成，各板材(106)安装在隔离件(107)上，该隔离件(107)配设于处理容器(101)的侧壁(101b)的外壁面。各板材(106)通过插装隔离件(107)而与处理容器(101)隔开间隔地安装，从而在中间形成空气隔热部(180)。
处理装置

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