专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]次分辨率辅助图形校正方法-CN200910045706.9有效
  • 李承赫 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2009-01-23 - 2010-07-28 - G03F1/14
  • 一种次分辨率辅助图形校正方法,包括:设置辅助图形,确定辅助图形参数的初始值;移动主图形的边缘,并计算主图形的边缘放置误差,获得对应于所述辅助图形参数的所述主图形边缘放置误差的最小值;根据主图形边缘放置误差的所述最小值,计算主图形边缘的图案参数,获得与所述主图形边缘图案参数最大值所对应的辅助图形参数;重复主图形边缘放置误差和主图形图案参数的计算步骤,对辅助图形参数进行更新,直至确定辅助图形,使对应的主图形的边缘放置误差为零以及具有最大的图案参数本发明有机地结合了辅助图形的产生、优化以及主图形的光学近邻校正,简化了掩模图形的校正过程,节省了大量的人力和物力。
  • 分辨率辅助图形校正方法
  • [发明专利]一种修正模型的建立方法及装置、掩模优化方法及装置-CN202010419225.6在审
  • 马乐;韦亚一;张利斌;陈睿 - 中国科学院微电子研究所
  • 2020-05-18 - 2020-07-24 - G03F1/36
  • 本申请实施例公开了一种修正模型的建立方法及装置、掩模图形优化方法及装置,预先基于历史掩模图形图形参数、历史掩模图形曝光得到的历史曝光图形的实际参数和历史掩模图形对应的历史权重建立修正模型,历史权重基于历史掩模图形图形参数和/或历史曝光图形的实际参数,以及历史掩模图形的初始权重确定,在获取待修正掩模图形后,可以利用修正模型,得到待修正掩模图形对应的待修正曝光图形的预测参数,基于预测参数以及待修正曝光图形的目标参数,对待修正掩模图形进行修正,以减小预测参数和目标参数的差值。这样确定的历史权重是具有针对性的,据此建立的修正模型也是较为准确的,对待修正掩模图形的修正也更加具有针对性。
  • 一种修正模型建立方法装置优化
  • [发明专利]一种自适应数码印花方法及其系统-CN201611163370.2在审
  • 寿华君 - 寿华君
  • 2016-12-15 - 2017-04-26 - B41J3/44
  • 本发明公开了一种自适应数码印花方法及其系统,包括接收印花图形,获取织物纹理图形参数、印花图形参数以及应用界面的显示参数,在应用中选择印花图形,并将印花图形与所述织物纹理图形相叠加,获取印花图形的显示参数,根据获取的印花图形的显示参数以及织物纹理的图形参数确定印花图形的缩放比例和相对于织物纹理的位置关系,根据缩放比例修改所述应用所在终端的显示参数,进行所述应用的自适应显示印花图形和织物纹理图形的叠加图形并锁定,将锁定的叠加图形进行四色电分,并设定调节曲线,根据调节曲线进行印花操作。
  • 一种自适应数码印花方法及其系统
  • [发明专利]一种自适应数码印花方法及其系统-CN201410301802.6有效
  • 陆佳寅 - 太仓市虹鹰印花有限公司
  • 2014-06-30 - 2017-05-31 - B41M1/26
  • 本发明公开了一种自适应数码印花方法及其系统,包括接收印花图形,获取织物纹理图形参数、印花图形参数以及应用界面的显示参数,在应用中选择印花图形,并将印花图形与所述织物纹理图形相叠加,获取印花图形的显示参数,根据获取的印花图形的显示参数以及织物纹理的图形参数确定印花图形的缩放比例和相对于织物纹理的位置关系,根据缩放比例修改所述应用所在终端的显示参数,进行所述应用的自适应显示印花图形和织物纹理图形的叠加图形并锁定,将锁定的叠加图形进行四色电分,并设定调节曲线,根据调节曲线进行印花操作。
  • 一种自适应数码印花方法及其系统
  • [发明专利]处理三维绘图数据请求的系统及方法-CN200310118827.4无效
  • 黄锡霖 - 威盛电子股份有限公司
  • 2003-11-28 - 2004-07-21 - G06T1/20
  • 一种有效处理绘图基本图形数据的方法,其中绘图基本图形数据包含顶点坐标参数及顶点属性参数。绘图基本图形的顶点坐标参数为一同质坐标,用来评估绘图基本图形是否可形成。假如一绘图基本图形可形成,则回复该绘图基本图形的属性参数。假如一绘图基本图形无法形成,则删除该绘图基本图形的属性参数。通过只撷取可形成的绘图基本图形参数的方式,来增进其系统的执行效率。在一实施例中,预先撷取该绘图基本图形的属性参数,当该绘图基本图形被判定为无法形成时,即删除此预先撷取的数据,再重新撷取其它绘图基本图形数据。
  • 处理三维绘图数据请求系统方法
  • [发明专利]表面等离子体光刻图形的修正方法-CN202111288483.6在审
  • 马乐;韦亚一;张利斌;何建芳 - 中国科学院微电子研究所
  • 2021-11-02 - 2023-05-05 - G03F7/20
  • 本发明公开了一种表面等离子体光刻图形的修正方法,包括:在测试掩模上形成多个测试图形,每个测试图形至少由第一测试参数和与第一测试参数相关的第二测试参数表征;利用含有测试图形的测试掩模对光刻胶层进行曝光,形成多个光刻胶图形,每个光刻胶图形至少由第一曝光参数和与第一曝光参数相关的第二曝光参数表征;基于测试图形的第一测试参数和第二测试参数和光刻胶图形的第一曝光参数和第二曝光参数的对应关系建立第一数据表;根据第一曝光参数对第一数据表进行处理得到第二数据表;基于第二数据表对多个设计图形的第二测试参数进行修正,得到修正后设计图形,利用修正后设计图形制作用于曝光的掩模。
  • 表面等离子体光刻图形修正方法
  • [发明专利]型腔加工图形的设计方法、图形用户界面、设备及介质-CN202110084985.0在审
  • 山无陵;邹大卡;黎理明;黎理杰 - 深圳源明杰科技股份有限公司
  • 2021-01-21 - 2021-05-04 - G06F30/12
  • 本发明公开了一种型腔加工图形的设计方法、图形用户界面、设备及介质,若接收到创建图形指令,则获取所述创建图形指令中的刀具参数,根据所述刀具参数设置刀具半径;若接收到新建图层指令,则获取所述新建图层指令中的图形参数,根据所述图形参数与所述刀具半径生成基础图形,并将所述基础图形进行显示;若接收到基于所述基础图形图形调整指令,则根据所述图形调整指令中的调整参数对所述基础图形进行调整,得到目标图形;若接收到图形保存指令,则对所述目标图形进行保存,形成目标文件。本发明通过提高型腔加工图形设计的灵活性,以及提高型腔加工图形的可移植性,有效提高通过机器对设计的型腔加工图形进行生产时的效率。
  • 加工图形设计方法用户界面设备介质
  • [发明专利]几何图形显示方法及装置-CN202011119424.1在审
  • 方富文;范招纳 - 深圳砥成科技有限公司
  • 2020-10-19 - 2021-01-26 - G06T3/00
  • 本申请适用于智慧教育技术领域,提供了一种几何图形显示方法及装置,其中该方法包括:获取目标图形参数组,所述目标图形参数组包括多个图形关键点所分别对应的坐标参数和关键点依赖关系;基于所述坐标参数和所述关键点依赖关系,对各个所述图形关键点进行组合,以生成相应的第一几何图形;显示所述第一几何图形。由此,几何图形是由客户端利用图形参数而生成的,而不是直接接收图片类型的几何图形,可以保障几何图形的显示清晰度。
  • 几何图形显示方法装置
  • [发明专利]光罩的制作方法-CN201410698161.2有效
  • 田明静 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2014-11-27 - 2020-02-07 - G03F1/38
  • 本发明揭示了一种光罩的制作方法,该方法将主图形和SRAF图形分离,通过调节曝光线宽线性度分别获得适合主图形的线宽线性度参数和SRAF图形的线宽线性度参数,根据获得的主图形的线宽线性度参数和SRAF图形的线宽线性度参数进行光刻,获得光罩所需图形。本发明降低了制程线性误差对图形规格的干扰,使得获得的图形更加接近所需规格。
  • 制作方法

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