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[发明专利]抗蚀剂下层膜形成用组合物-CN202180031906.8在审
发明人：志垣修平;石桥谦;柴山亘 -专利权人：日产化学株式会社
申请日： 2021-04-30 - 公布日： 2022-12-16 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：解决手段是一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含水解性硅烷混合物的水解缩合物，上述水解性硅烷混合物包含式(1)所示的水解性硅烷和烷基三烷氧基硅烷，上述水解性硅烷混合物中的烷基三烷氧基硅烷的含量基于上述水解性硅烷混合物所包含的全部水解性硅烷的总摩尔数为为与硅原子结合的基团，表示包含选自琥珀酸酐骨架、乙烯基、苯基和异氰脲酸骨架中的至少1种基团或骨架的有机基，R2为与硅原子结合的基团，彼此独立地表示可以被取代的烷基等，R3为与硅原子结合的基团或原子，彼此独立地表示烷氧基、芳烷基氧基、酰氧基或卤原子，a表示1，b表示0～2的整数，4‑(a+b)表示1～3的整数。)
抗蚀剂下层形成组合

[发明专利]用于制备防水透气制品的粘合剂组合物-CN202180064255.2在审
发明人： C·加尔尼尔 -专利权人：博斯蒂克股份公司
申请日： 2021-07-19 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： C08L29/10 文献下载
摘要：本发明涉及一种粘合剂组合物，其包含至少一种含有至少一个可水解烷氧基硅烷基团的甲硅烷基聚合物；至少一种聚乙烯基醚化合物；和至少一种交联催化剂，还涉及所述组合物作为粘合剂的用途，还涉及包含至少一个载体层和至少一个所述组合物的层的自粘制品
用于制备防水透气制品粘合剂组合

[发明专利]生产聚硅氧烷电荷迁移材料的方法-CN96123305.2无效
发明人：栉引信男;竹内贵久子;小林秀树;正富亨 -专利权人：陶氏康宁亚洲株式会社;陶氏康宁东丽西林根株式会社
申请日： 1996-11-06 - 公布日： 1997-11-19 - 主分类号： C08G77/04 文献下载
摘要：溶于聚硅氧烷树脂中的电荷迁移物质是芳族取代的叔胺，该叔胺已通过用含甲硅烷基的烃基取代一个或多个芳基进行改性，所述甲硅烷基具有可水解的取代基。
生产聚硅氧烷电荷迁移材料方法

[发明专利]具有高耐刮擦性和耐候性的涂层剂-CN200880121759.8有效
发明人： M·格罗纳沃尔特;G·克雷恩;A·波佩;S·黑森纳;W·施图贝;M·尼迈尔;S·霍尔特舒尔特;O·黑尔格;B·费尔德曼 -专利权人：巴斯夫涂料有限公司
申请日： 2008-12-18 - 公布日： 2011-01-19 - 主分类号： C08G18/28 文献下载
摘要：本发明涉及一种涂层剂，其含有(a)至少一种含羟基的化合物(A)，(b)至少一种具有游离和/或封闭的异氰酸酯基团的化合物(B)，以及(c)至少一种用于硅烷基团交联的催化剂(C)，其中，所述涂层剂的一种或多种成分含有可水解的硅烷基团
具有高耐刮擦性耐候性涂层

[发明专利]涂布剂组合物、包含该组合物的表面处理剂和用该表面处理剂表面处理过的物品-CN201880087290.4有效
发明人：森圣矢;酒匈隆介 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2018-12-03 - 公布日： 2023-02-17 - 主分类号： C09D183/08 文献下载
摘要：具有以50：50～90：10的质量比包含(A)选自由下式(1)表示的有机硅烷或硅氧烷化合物、及其部分(水解)缩合物中的1种以上和(B)选自由下式(2)表示的硅烷或硅氧烷化合物、及其部分(水解)缩合物中的1种以上的涂布剂组合物的表面处理剂可形成指纹低可视性优异的固化被膜。:Sup>1、或‑P(＝O)(OR1)2，R1为H、烷基、芳基或芳烷基，Y为2价有机基团，R为烷基或苯基，X为羟基或水解性基团，n为1～3。)(2)(Rf为全氟亚烷基或2价的全氟聚醚基。)
涂布剂组合包含表面处理物品

[发明专利]含琥珀酸酐基的环状有机硅氧烷、其制备方法、有机硅氧烷组合物及热固化性树脂组合物-CN201210398358.5有效
发明人：土田和弘 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2012-07-06 - 公布日： 2013-02-27 - 主分类号： C07F7/21 文献下载
摘要：(R¹为烷基或芳基，R²为氢原子或可以具有选自卤素原子、乙烯基、环氧基、硫杂丙环基、(甲基)丙烯酰基、巯基、异(硫)氰酸酯基、水解性甲硅烷基、琥珀酸酐基、全氟烷基、聚醚基和全氟聚醚基的取代基的烷基，其中以水解性甲硅烷基为取代基的R²为本发明由于在1分子中具有2个以上琥珀酸酐基，因此在调制与含有和该官能基具有反应性的有机基团的化合物的组合物时，可以表现出作为粘合剂的功能，此外，由于还含有水解性甲硅烷基，因此还可以期待作为硅烷偶联剂的效果
琥珀酸酐环状有机硅制备方法组合固化树脂

[发明专利]用于化妆品应用的甲硅烷基化聚氨酯－脲组合物-CN01822306.0无效
发明人：理查得·A·马洛;史蒂文·S·坎特纳;凯文·M·莱万多夫斯基;拉里·R·克雷普斯基 -专利权人： 3M创新有限公司
申请日： 2001-05-24 - 公布日： 2004-04-07 - 主分类号： C08G18/08 文献下载
摘要：组合物包括至少一种聚氨酯－脲聚合物，该聚合物由至少一种水解的或可水解的甲硅烷基官能化。当组合物用于头发护理时，它并不具有可再成形的效果。
用于化妆品应用硅烷聚氨酯组合

[发明专利]涂覆轮辋的方法及以此得到的防污和防制动粉尘的涂层-CN201680034773.9在审
发明人： M·马蒂厄;A·费格尔;M·格罗尼沃尔特;M·拉埃布施;H-P·斯坦纳;W·斯蒂博 -专利权人：巴斯夫涂料有限公司
申请日： 2016-06-01 - 公布日： 2018-02-27 - 主分类号： C09D5/16 文献下载
摘要：，特别是在轮辋上产生防污涂层的方法，其中将涂覆剂组合物(K)施加至需要的话已预先涂覆的金属表面上，其包含a)至少一种含多羟基的组分(A)，b)至少一种平均具有至少一个异氰酸酯基和平均至少一个式(I)的可水解硅烷基的组分(B)X‑Si‑R3sG3‑s，其中G＝相同或不同的可水解基团，X＝有机基团，R3＝烷基、环烷基、芳基或芳烷基，其中碳链可间隔有不相邻的氧、硫或NRa基团，其中Ra＝烷基、芳基或芳烷基，且s＝0‑2，c)至少一种用于交联硅烷基团的含磷和氮的催化剂(D)，以及d)至少一种用于羟基与异氰酸酯基反应的催化剂(Z)，其特征在于催化剂(Z)选自羧酸锌和羧酸锌铋，铝、锆、钛和/或硼螯合物，含锡的无机催化剂及其混合物
涂覆轮辋方法以此得到防污制动粉尘涂层

[发明专利]一种耐强酸磁性粒子-CN201510606816.3有效
发明人：白志平;刘福强;王栋;官凯文 -专利权人：南京大学
申请日： 2015-09-21 - 公布日： 2017-08-01 - 主分类号： H01F1/11 文献下载
摘要：氧化硅层由烷基氧硅烷水解包覆而成，疏水层由烷基氧硅烷和/或烷基氧烷基硅烷水解包覆而成。在该粒子上通过具有带功能基团的烷氧基硅偶联剂嫁接功能基团。
一种强酸磁性粒子

[发明专利]含有氟聚醚基的聚合物改性硅烷、表面处理剂和物品-CN201680071632.4有效
发明人：酒匈隆介;松田高至;山根祐治 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2016-10-17 - 公布日： 2021-11-02 - 主分类号： C08G65/337 文献下载
摘要：本发明提供能够形成滑动性优异的防水防油层的含有氟聚醚基的聚合物改性硅烷、和包含该硅烷的表面处理剂以及用该表面处理剂表面处理过的表面处理物(即，在表面具有该表面处理剂的固化被膜)的物品。由下式(1)(Rf为1价或2价的含有氟代氧亚烷基的聚合物残基，Y为可具有硅氧烷键和/或亚甲硅烷基的2～6价的烃基，R为碳数1～4的烷基或苯基，X为羟基或水解性基团，Q为可具有硅氧烷键和/或亚甲硅烷基的2价的有机基团，R'为1价的氟烷基、1价的含有氟代氧亚烷基的聚合物残基、碳数1～4的烷基或苯基，n为1～3的整数，m为1～5的整数，α为1或2。)表示的含有氟聚醚基的聚合物改性硅烷。
含有氟聚醚基聚合物改性硅烷表面处理物品

[发明专利]包含含有二酮结构的有机基团的含有硅的形成抗蚀剂下层膜的组合物-CN201280006068.X有效
发明人：菅野裕太;佐久间大辅;中岛诚 -专利权人：日产化学工业株式会社
申请日： 2012-01-24 - 公布日： 2018-12-07 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：作为解决本发明课题的方法是一种形成光刻用抗蚀剂下层膜的组合物，其包含作为硅烷的水解性有机硅烷、其水解物或其水解缩合物，该硅烷包含下述式(1)：［(R¹)_aSi所示的基团，R¹表示烷基、芳基、芳烷基、卤代烷基、卤代芳基、卤代芳烷基、链烯基、或者具有环氧基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、巯基、氨基或氰基的有机基团、或者它们的组合。所示的水解性有机硅烷。
包含含有结构有机基团形成抗蚀剂下层组合

[发明专利]用于非陶瓷地面覆盖物的粘合剂-CN200680030155.3有效
发明人： D·乌尔班;A·森特内;A·布格哈特 -专利权人：巴斯夫欧洲公司
申请日： 2006-08-03 - 公布日： 2008-08-13 - 主分类号： A47G27/04 文献下载
摘要：用于将非陶瓷地面覆盖物粘结到基材上的方法，其中使用包含合成聚合物作为粘结剂的水溶粘合剂，且其中该粘合剂包含可水解硅烷基团。
用于陶瓷地面覆盖粘合剂

[发明专利]具有砜结构的含有硅的抗蚀剂下层膜形成用组合物-CN201280038944.7有效
发明人：中岛诚;佐久间大辅;菅野裕太;岸冈高广 -专利权人：日产化学工业株式会社
申请日： 2012-08-10 - 公布日： 2017-04-19 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：一种光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物，其中，含有作为硅烷的水解性有机硅烷、其水解物或其水解缩合物，该硅烷为下述式（1）所示的化合物，〔(R1)aSi(R2)(3‑a)〕b(R3) 式（1）式（1）中，R3表示含有磺酰基和吸光基、以Si‑C键与Si原子键合的有机基团，R1是烷基、芳基、芳烷基、卤代烷基、卤代芳基、卤代芳烷基、链烯基、或具有环氧基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、巯基、烷氧基芳基、酰基氧基芳基
具有结构含有抗蚀剂下层形成组合

[发明专利]树脂组合物及树脂成型体-CN200480034836.8无效
发明人：高桥俊;高田素树 -专利权人：株式会社资生堂;尤尼吉可株式会社
申请日： 2004-11-19 - 公布日： 2006-12-27 - 主分类号： C08L101/00 文献下载
摘要：本发明提供水解性得到降低、加热时的变色有所减轻的树脂组合物，及水解性得到降低、内容物变质有所减轻的树脂成型体。树脂组合物中含有树脂及层状有机硅酸，其中层状有机硅酸的层状聚硅酸上键合了带有被取代或未被取代烷基的被取代甲硅烷基。树脂成型体是通过含有树脂及层状有机硅酸的树脂组合物进行成型而获得的，其中层状有机硅酸的层状聚硅酸上键合了带有被取代或未被取代烷基的被取代甲硅烷基。
树脂组合成型

[发明专利]防雾剂-CN201680059081.X在审
发明人：佐藤正洋;北岛沙月 -专利权人：株式会社世可
申请日： 2016-10-07 - 公布日： 2018-10-23 - 主分类号： C09D7/61 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供作为即使暴露于水蒸气中也完全不会产生雾气的防雾剂的最佳的表面活性硅烷偶联剂的水解产物以及通过表面活性硅烷偶联剂的水解产物进行改性的改性金属氧化物溶胶。本发明的表面活性硅烷偶联剂水解产物的特征在于，其是作为下述式(1)所示的表面活性剂与硅烷偶联剂的反应产物的表面活性硅烷偶联剂的水解产物，其中所述硅烷偶联剂具有可与式(1)中的活性氢反应的官能团。R¹‑X‑(CH₂CH₂O)_n‑Y(1)，所述式中，R¹表示碳原子数为1～20的烷基，X表示
硅烷偶联剂式( 1 )表面活性水解产物防雾剂改性金属氧化物烷基表面活性剂水蒸气碳原子数活性氢氢原子雾气改性式中暴露

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