专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果906839个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]图像处理方法以及图像处理装置-CN200680018546.3有效
  • 梶大介 - 柯尼卡美能达医疗印刷器材株式会社
  • 2006-05-19 - 2008-05-21 - A61B6/00
  • 以适宜的条件执行图像处理。具有:将包含在放射线图像中的骨部和软部作为重要区域检测的重要区域检测部件(120);生成让重要区域的像素具有规定权重的权重图的权重图生成部件(130);将权重图的权重和放射线图像的像素值相乘,根据该乘算结果算出加权直方图的直方图计算部件(140);用规定的评价函数评价加权直方图,算出评价结果为最大的位移值的评价部件(150);如用与得到位移值的评价函数的最大值对应的放射线图像的像素值得到规定的处理结果那样,决定图像处理条件的图像处理条件决定部件(160);根据图像处理条件执行图像处理的图像处理部件(170)。
  • 图像处理方法以及装置
  • [发明专利]基于点、线双重特征的快速图像拼接方法-CN201310717045.6有效
  • 方圆圆;张雷 - 江苏物联网研究发展中心
  • 2013-12-23 - 2014-03-26 - G06T3/40
  • 本发明提供了一种基于特征匹配的快速图像拼接方法。本发明利用Canny边缘检测算法和Harris角点检测算法,分别提取出图像的线特征和点特征,通过两种特征的结合得到最佳特征点,然后利用相似测度NCC对特征点进行粗匹配,随机采样算法RANSAC算法剔除错误匹配点提高图像配准的精度,采用LSM方法计算变换模型参数,最后采用加权平均法对拼接后的图像进行融合并消除拼接缝隙。本发明根据点、线双重特征来确定待匹配点,可以增强图像细节,避免因曝光不足、过度以及摄像机抖动等造成图像匹配误差,在一定程度上提高了图像拼接质量。
  • 基于双重特征快速图像拼接方法
  • [发明专利]图像风格转移方法及系统-CN202010554146.6在审
  • 叶俊彦;佘邵镔 - 杭州云汽配配科技有限公司
  • 2020-06-17 - 2020-10-02 - G06T3/00
  • 本发明公开一种图像风格转移方法及系统,其中方法包括以下步骤:获取原始图像,对所述原始图像进行特征提取,获得相对应的特征图;计算获得所述特征图的掩码图;基于所述特征图进行风格转移,生成相对应的转移特征图;计算获得所述转移特征图的反馈权重图;基于所述转移特征图和所述反馈权重图生成重构图;基于所述重构图和所述掩码图进行图像生成,获得目标生成图像。本发明通过根据原始图像的特征生成相对应的掩码图和反馈权重图,对进行风格转移后的转移特征图进行加权处理,从而根据原始图像的特征分别对原始图像中不同区域风格变化的幅度和范围进行限制,从而保证目标生成图像生成相应风格的同时,保留原始图像的细节。
  • 图像风格转移方法系统
  • [发明专利]自对准双重形化半导体器件的形成方法-CN202010251531.3在审
  • 叶滋婧 - 上海华虹宏力半导体制造有限公司
  • 2020-04-01 - 2020-06-16 - H01L21/033
  • 本发明提供一种自对准双重形化半导体器件的形成方法,通过在抗反射层上形成图案化的光刻胶层,所述图案化的光刻胶层定义了第一图形和第二图形;以所述图案化的光刻胶层为掩膜对所述抗反射层和所述核心层进行刻蚀,以形成第一图形层和第二图形层所述第二图形层包括部分核心层及覆盖所述部分核心层的部分抗反射层;分别在所述第一图形层和所述第二图形层两侧形成侧墙;去除所述第一图形层;以所述侧墙和所述第二图形层为掩膜对所述待刻蚀膜层进行刻蚀;去除所述侧墙和所述第二图形层,以形成自对准双重形由此,通过一图案化的光刻胶层形成自对准双重形。
  • 对准双重图形半导体器件形成方法
  • [发明专利]一种自对准双重形化的方法-CN202010446514.5在审
  • 郭晓波 - 上海华力集成电路制造有限公司
  • 2020-05-25 - 2020-08-28 - H01L21/308
  • 本发明提供一种自对准双重形化的方法,在待刻蚀层上形成含硅填充材料层、抗反射层和光刻胶图形;以光刻胶图形为掩膜,刻蚀含硅填充材料层并对其进行热处理,使含硅填充材料图形收缩,形成二氧化硅图形;淀积刻蚀掩膜层并回刻本发明利用含硅填充材料在高温热处理之后发生收缩的特性,获得较传统自对准双重形化工艺中更小的图形间距,有利于半导体器件的小型化;并利用含硅填充材料在高温热处理之后生成二氧化硅的特性,可以充当自对准双重形化方法中的牺牲层
  • 一种对准双重图形方法
  • [发明专利]一种基于成像的视觉权重图提取方法-CN201610081221.5在审
  • 赵巨峰;高秀敏;逯鑫淼;张辉朝 - 杭州电子科技大学
  • 2016-02-04 - 2016-07-27 - G06K9/20
  • 本发明公开了一种基于成像的视觉权重图提取方法,提出的系统基于单光路双傅里叶透镜成像,并且可直接对景物进行视觉权重的成像分析,能有效、快速获取高精度的视觉权重图。本发明包括如下步骤:(1)构造单光路双傅里叶透镜成像系统;(2)视觉权重图生成。本发明方法构造单光路双傅里叶透镜成像系统,在频谱面实现两次不同的滤波,达到不同低通滤波的效果,并用工业相机获取滤波结果,最后通过图像间的灰度差值的绝对值获取视觉权重图,其处理的结果接近人眼视觉系统。本发明只需将系统对着景物(满足物距大于透镜焦距的10倍以上),即可快速得到相应的视觉权重图
  • 一种基于成像视觉权重提取方法
  • [发明专利]一种基于稀疏和滤波器的红外和可见光图像融合方法-CN202010768408.9在审
  • 李启磊;周杨;杨晓敏 - 四川大学
  • 2020-08-03 - 2022-02-18 - G06T5/50
  • 本发明公开了一种红外图像和可见光图像融合方法,包括以下步骤:(1)从3组红外图像和可见光图像对中随机抽取一定大小的图像块得到训练图像样组,训练图像样组并得到学习字典;(2)分别输入测试红外和可见光图像,计算得到稀疏系数并保存,然后结合稀疏系数和学习字典得到初始权重图;(3)使用平均滤波器对红外和可见光图像进行分解得到图像的高频层和低频层;(4)对初始权重图采用引导滤波操作进行优化;(5)根据优化后的权重图分别融合红外和可见光图像对的高频层和低频层;(6)根据融合后的高频层和低频层计算得到最终的融合图像。本发明在融合红外图像和可见光图像上效果极佳,融合结果具有丰富的细节和梯度信息。
  • 一种基于稀疏滤波器红外可见光图像融合方法

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top