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[发明专利]纳米机电结构和它的制造方法-CN200880103589.0有效
发明人： S·V·哈特夫;V·K·涅沃林;M·M·西穆宁 -专利权人： S·V·哈特夫;V·K·涅沃林
申请日： 2008-05-28 - 公布日： 2013-04-17 - 主分类号： B82B1/00 文献下载
摘要：所述创造性方法的其中一个改变是基于对自组织和自校准机械设备的运用来生产纳米机电结构，由此与传统照相平板印刷术相比，使其基本几何参数不再受到限制，这使得集成度能够达到1016m-2或更高。
纳米机电结构制造方法

[发明专利]用以形成具倾斜角的结构的平版印刷术方法-CN202180086387.5在审
发明人：徐永安;傅晋欣;杨政翰;卢多维克·戈代 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-11-23 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本公开内容总体涉及形成光学装置的方法，所述光学装置包含设置在透明基板上的纳米结构。一种形成纳米结构的第一工艺包含在玻璃基板上沉积第一材料的第一层；在所述第一层中形成一或多个沟槽；和在一或多个孔至沟槽中沉积第二材料的第二层，交替的第一材料的第一部分和第二材料的第二部分的第一交替层。将第一工艺重复一或多次，以在第一交替层之上形成额外的交替层。每个交替层的每个第一部分设置成与相邻交替层中的相邻第一部分接触并且从所述相邻第一部分偏移一段距离。第二工艺包含从每个交替层移除第一部分或第二部分以形成多个纳米结构。
用以形成倾斜角结构平版印刷术方法

[发明专利]一种托槽定位导板及其使用方法-CN202010757196.4在审
发明人：胡敏;贾一凡;毛智;包幸福;张祎;姜欢;魏晓曦;齐慧川;于东升;高尚;李雨桐;王玉琢 -专利权人：吉林大学
申请日： 2020-07-31 - 公布日： 2020-10-09 - 主分类号： A61C7/14 文献下载
摘要：独立导板能够定位某一颗牙齿上的托槽的安装位置，选用合适形状的唇侧定位板的独立导板为各个牙齿的托槽安装进行定位，类似于活字印刷术，省去了个性化定制塑料板的工序，降低了托槽定位难度和定位成本。
一种定位导板及其使用方法

[发明专利]半导体装置的制造方法-CN200510092709.X无效
发明人：福水裕之;本田真悟 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2005-08-18 - 公布日： 2006-02-22 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：半导体装置的制造方法，包括如下工序：在半导体基板上依次堆积第1导电性阻挡膜、铝或铝合金的膜和第2导电性阻挡膜，形成层压结构的布线材料膜的工序；在第2导电性阻挡膜表面上依次形成有机材料膜、硅氧化膜和抗蚀膜的工序；通过平版印刷术形成抗蚀图形
半导体装置制造方法

[实用新型]一种数据交互智能主机终端-CN201820779332.8有效
发明人：赵明;陈敬茹 -专利权人：赵明
申请日： 2018-05-19 - 公布日： 2018-11-23 - 主分类号： G05B19/042 文献下载
摘要：隔离卡电路、协处理单元接口电路、串口隔离卡电路、综合通信卡电路、人机交互电路、PWM计数器隔离板电路、IO扩展卡电路和电源管理单元；本实用新型具有灵活的可拼装特性，提供了灵活的用户扩展模块接口，也如同活字印刷术一般
电路本实用新型数据交互隔离卡智能主机灵活的终端接力电源管理单元核心控制单元人机交互电路电路板活字印刷术抗干扰能力通信实时性协处理单元串口隔离机械制造即插即用交通运输接口电路模块接口通信总线用户扩展主机终端自动接通隔离板卡电路通信卡应答式拼装轻纺建材钢铁石油通信环保汽车改进生产

[实用新型]一种托槽定位导板-CN202021557106.9有效
发明人：胡敏;贾一凡;毛智;包幸福;张祎;姜欢;魏晓曦;齐慧川;于东升;高尚;李雨桐;王玉琢 -专利权人：吉林大学
申请日： 2020-07-31 - 公布日： 2021-01-12 - 主分类号： A61C7/14 文献下载
摘要：独立导板能够定位某一颗牙齿上的托槽的安装位置，选用合适形状的唇侧定位板的独立导板为各个牙齿的托槽安装进行定位，类似于活字印刷术，省去了个性化定制塑料板的工序，降低了托槽定位难度和定位成本。
一种定位导板

[其他]金属层制版印刷术中作抗反射涂层用的无定形硅-CN85107650无效
发明人：汤志 -专利权人：英特尔公司
申请日： 1985-10-17 - 公布日： 1986-07-16 - 主分类号： H01L21/28 文献下载
摘要：本发明是对制版方法形成带图案金属层工艺的一种改进。在半导体器件上的金属层上制作抗反射涂层之前先形成一层无定形硅层。这种硅通过吸收光刻胶层的曝光用光，既可防止光从金属层上反射出来，也可防止在光刻胶层上产生凹陷。采用喷镀的无定形硅可省去抗反射层烘烤时所需的严格处理步骤及绕自身旋转抗反射层所需的喷淋显影技术。操作温度为低温，金属和喷镀硅的蚀刻同时进行。
金属制版印刷术中作抗反射涂层无定形

[发明专利]用于在金属封闭件上制造和提供平版印刷术的方法-CN201480040694.X在审
发明人： D.J.邦福伊 -专利权人：鲍尔公司
申请日： 2014-04-28 - 公布日： 2016-03-09 - 主分类号： B65D41/34 文献下载
摘要：本发明总体涉及从预涂覆金属片材的连续卷制造金属封闭件。更具体地，本发明涉及使用预涂覆铝片材的连续卷制造适于互连到容器的螺纹颈部的封闭件。在一种实施例中，营销标记或产品信息可以在封闭件的形成之后施加到所述封闭件。
用于金属封闭制造提供平版印刷术方法

[发明专利]可自组装的聚合物和用于平版印刷术的方法-CN201180027039.7在审
发明人： E·皮特斯;S·伍伊斯特尔;R·库尔 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2011-04-20 - 公布日： 2013-02-13 - 主分类号： C08F293/00 文献下载
摘要：公开了一种可自组装的聚合物，所述可自组装的聚合物具有第一和第二分子构型，其中对于可自组装的聚合物，第一分子构型与第二分子构型相比具有更高的Flory Huggins参数，并且通过施加刺激因素，所述可自组装的聚合物可从第一分子构型形成为第二分子构型，可从第二分子构型形成为第一分子构型，或者，可从第一分子构型形成为第二分子构型且可从第二分子构型形成为第一分子构型。该聚合物用于通过将处于其第二分子构型的聚合物有序化和退火并当它处于第一分子构型时固定该聚合物，从而在基板上提供聚合物的有序、周期性地图案化的层的方法。第二分子构型提供更好的有序化动力学并且允许缺陷在其有序/无序转变温度附近的退火，同时具有更高的有序/无序转变温度的第一分子构型为固定形成的图案提供低线边缘/宽度粗糙度。
组装聚合物用于平版印刷术方法

[发明专利]用于增加高指数纳米压印平板印刷术膜的折射率的方法-CN202180029867.8在审
发明人：安德鲁·塞巴洛斯;拉米·胡拉尼;大野健一;尤里·梅尔尼克;阿弥陀·乔希 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-02-19 - 公布日： 2022-12-16 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本公开内容的多个实施方式一般涉及光学致密的纳米压印膜和用于制作这些光学致密的纳米压印膜的工艺，以及含有光学致密的纳米压印膜的光学装置。在一个或多个实施方式中，一种形成纳米压印膜的方法包括将含有多孔纳米压印膜的基板定位在处理腔室内，其中多孔纳米压印膜含有纳米颗粒和在纳米颗粒之间的孔洞，且多孔纳米压印膜具有小于2的折射率。该方法亦包括在原子层沉积(ALD)工艺期间将金属氧化物沉积在多孔纳米压印膜上和孔洞的至少一部分内以产生光学致密的纳米压印膜。
用于增加指数纳米压印平板印刷术折射率方法

[发明专利]基于超薄四面体碳膜修饰Al纳米结构的表面增强拉曼衬底及其制备方法-CN201910732465.9在审
发明人：刘凡新 -专利权人：浙江工业大学
申请日： 2019-08-09 - 公布日： 2019-10-08 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：制备时，采用纳米球平板印刷术结合金属溅射沉积方法，制备纳米Al三角阵列结构的衬底；然后在纳米Al三角阵列结构衬底上沉积超薄四面体碳膜，在沉积之前，使用Ar离子等离子体清洁所有衬底以去除Al膜的氧化层。
四面体碳膜衬底纳米结构表面增强拉曼沉积修饰制备化学污染物拉曼检测三角阵列生物分子微量检测离子等离子体平板印刷术金属溅射纳米球氧化层去除应用清洁

[发明专利]一种三维石墨烯乳酸传感器的制备方法-CN201610033938.2有效
发明人：孙泰;魏大鹏;陈前伟;杨俊;于乐泳;史浩飞;杜春雷 -专利权人：中国科学院重庆绿色智能技术研究院
申请日： 2016-01-19 - 公布日： 2017-05-03 - 主分类号： A61B5/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种三维石墨烯乳酸传感器的制备方法，步骤为采用PECVD法以铜箔为基底生长三维石墨烯纳米墙；将三维石墨烯块漂浮在Fe(NO3)3溶液表面以刻蚀铜箔，经超纯水清洗后转移至PET基材；采用丝网印刷术在三维石墨烯
一种三维石墨乳酸传感器制备方法

[发明专利]用于OLED光提取的通过平版印刷术的选择性填料图案化-CN202180079126.0在审
发明人：陈重嘉;郭炳成;罗伯特·杨·维塞 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-11-04 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： H10K71/20 文献下载
摘要：本文描述的方法图案化填料并且通过不依赖于利用精细金属掩模的喷墨印刷或热蒸发而提供大面积、低成本、及高分辨率的EL装置形成。
用于 oled 提取通过平版印刷术选择性填料图案

[发明专利]用于电子基平版印刷术的高灵敏性抗蚀剂组合物-CN02829997.3有效
发明人：黄武松;李文杰;韦恩·莫若;戴维·E·梅代罗斯;卡伦·E·皮特里洛;罗特伯特·N·兰;玛丽·安杰洛波洛斯 -专利权人：国际商业机器公司
申请日： 2002-12-05 - 公布日： 2006-09-20 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：其选自抑制溶解的产酸剂，和(ii)第二辐射敏感性产酸剂，其选自不受保护的酸基官能化产酸剂和受酸不稳定基团保护的酸基官能化辐射敏感性产酸剂；这种组合物能够形成适用于EPL、EUV、软X射线和其他能量强度低的平版印刷成像领域的高灵敏性抗蚀剂这些抗蚀剂组合物还可用在其他平版印刷方法中。
用于电子平版印刷术灵敏性抗蚀剂组合

[发明专利]在浸没式平版印刷术中防止图案倒塌的等离子体表面处理-CN200810171681.2无效
发明人：金义勇;迪内士·帕德希;戴辉尚;梅休尔·B·内克;马丁·杰·西蒙斯;金柏涵 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2008-10-23 - 公布日： 2009-05-13 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明包括一种当在浸没式显影之后干燥光刻胶掩模时减少光刻胶掩模倒塌的方法。由于特征尺寸持续缩小，用于冲洗光刻胶掩模的水的毛细作用力接近大于光刻胶对ARC的粘附力的点。当毛细作用力超过粘附力时，由于当水变干时水将相邻特征拉向彼此，掩模特征可能倒塌。通过在沉积光刻胶之前在ARC之上沉积密封氧化物层，粘附力可超过毛细作用力并且光刻胶掩模的特征可不会倒塌。
浸没平版印刷术防止图案倒塌等离子体表面处理

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