专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]集成芯片及其制备方法-CN202111026981.3在审
  • 任奇伟;左丰国;刘琦 - 西安紫光国芯半导体有限公司
  • 2021-09-02 - 2021-12-14 - H01L27/108
  • 该集成芯片包括可编程门阵列单元,集成有第一键合区域和与第一键合区域连接的可编程门阵列;第一动态存储阵列单元集成有第二键合区域和与第二键合区域连接的第一动态存储阵列;可编程门阵列单元和第一动态存储阵列单元通过第一键合区域和第二键合区域层叠键合,可编程门阵列通过第一键合区域和第二键合区域连接第一动态存储阵列单元;测试模块集成于可编程门阵列单元或第一动态存储阵列单元,并连接可编程门阵列或第一动态存储阵列,用于对第一动态存储阵列进行测试、修复。
  • 集成芯片及其制备方法
  • [发明专利]半导体存储装置-CN201710969117.4有效
  • 金明珍 - 爱思开海力士有限公司
  • 2017-10-18 - 2021-12-17 - G11C7/10
  • 半导体存储装置可以包括存储单元阵列区域、外围区域和接口区域。存储单元阵列区域可以包括至少一个存储平面。外围区域可以被形成为与存储单元阵列区域的一侧相邻。接口区域可以被形成为与外围区域的一侧相邻,并且可以包括多个数据输入/输出焊盘。接口区域可以包括配置为将通过所述数据输入/输出焊盘输入的数据发送至所述存储单元阵列区域或者通过所述数据输入/输出焊盘输出从存储单元阵列接收的数据的至少一个SerDes区域
  • 半导体存储装置
  • [发明专利]非易失性存储装置和使用其的存储系统-CN202010118529.9在审
  • 尹正赫;李仁秀 - 爱思开海力士有限公司
  • 2020-02-26 - 2020-12-25 - G11C13/00
  • 非易失性存储装置包括多个单元阵列,每个单元阵列包括近区域和远区域。在近区域中包括多个存储单元,并且在远区域中包括多个存储单元。当多个单元阵列之中的至少一个单元阵列的近区域中所包括的多个存储单元中的存储单元基于地址信号而被选中时,非易失性存储装置基于所述地址信号来选择在其余的单元阵列的远区域中所包括的存储单元。非易失性存储装置对所述至少一个单元阵列中的被选中的存储单元执行第一读取操作,并且对所述其余的单元阵列中的被选中的存储单元执行第二读取操作。
  • 非易失性存储装置使用存储系统
  • [发明专利]投射型影像显示装置-CN200910009446.X有效
  • 木村展之 - 株式会社日立制作所
  • 2009-02-24 - 2010-03-31 - G03B21/14
  • 该投射型影像显示装置具备第一透镜阵列,具有使来自光源的射出光分割为多个光束的多个透镜单元区域;第二透镜阵列,具有来自第一透镜阵列的射出光束透过的多个透镜单元区域;聚光透镜,对来自第二透镜阵列的射出光束进行聚光;显示元件;投射透镜;和遮光单元,遮蔽从第一透镜阵列射向第二透镜阵列的光束,该遮光单元遮蔽第二透镜阵列的多个矩形透镜单元区域中除去与光轴连接的透镜单元区域后的所有透镜单元区域的至少一部分,与光轴连接的透镜单元区域的遮光面积比除去与光轴连接的透镜单元区域后的任一个透镜单元区域的遮光面积都小
  • 投射影像显示装置
  • [发明专利]投射型影像显示装置-CN201110320138.6有效
  • 木村展之 - 株式会社日立制作所
  • 2009-02-24 - 2012-01-18 - G03B21/14
  • 该投射型影像显示装置具备第一透镜阵列,具有使来自光源的射出光分割为多个光束的多个透镜单元区域;第二透镜阵列,具有来自第一透镜阵列的射出光束透过的多个透镜单元区域;聚光透镜,对来自第二透镜阵列的射出光束进行聚光;显示元件;投射透镜;和遮光单元,遮蔽从第一透镜阵列射向第二透镜阵列的光束,该遮光单元遮蔽第二透镜阵列的多个矩形透镜单元区域中除去与光轴连接的透镜单元区域后的所有透镜单元区域的至少一部分,与光轴连接的透镜单元区域的遮光面积比除去与光轴连接的透镜单元区域后的任一个透镜单元区域的遮光面积都小
  • 投射影像显示装置
  • [发明专利]半导体存储器装置-CN202210138247.4在审
  • 蔡昇完;金映奇;李钟一;曹恩雨 - 爱思开海力士有限公司
  • 2022-02-15 - 2022-10-18 - G11C16/10
  • 一种半导体存储器装置包括存储器单元阵列、行解码器、多个页缓冲器和电压切换电路。存储器单元阵列包括多个存储器单元。行解码器通过字线连接到存储器单元阵列。多个页缓冲器通过位线连接到存储器单元阵列。多个页缓冲器形成在第一单元下方区域和第二单元下方区域中的第一单元下方区域中,第一单元下方区域和第二单元下方区域在存储器单元阵列下方在第一方向上彼此相邻。电压切换电路的至少一部分形成在沿第二方向与第一单元下方区域和第二单元下方区域相邻的减薄区域下方区域中。
  • 半导体存储器装置
  • [发明专利]半导体存储器装置-CN201811515326.2有效
  • 吴星来 - 爱思开海力士有限公司
  • 2018-12-12 - 2023-09-26 - G11C11/4097
  • 多条选通线层叠在基板的设置在与第一方向交叉的第二方向上的第一单元阵列区域和第二单元阵列区域上方,并且被沟道结构穿过。多条布线层叠在基板的设置在第一单元阵列区域和第二单元阵列区域之间的间隔区域上方以及基板的在第一方向上设置在第一单元阵列区域和第二单元阵列区域以及间隔区域的两侧的第一联接区域上方。各条布线包括在第一方向上横穿间隔区域的线部分以及设置在第一联接区域上方的延伸部分。延伸部分的宽度大于线部分的宽度。
  • 半导体存储器装置
  • [发明专利]垂直存储器件-CN201810794960.8有效
  • 李光镐;金光浩;曹升铉;柳志桓 - 三星电子株式会社
  • 2018-07-19 - 2023-02-07 - H10B43/30
  • 一种垂直存储器件包括:衬底,其具有单元阵列区域和与单元阵列区域相邻的连接区域;多个栅电极层,所述多个栅电极层堆叠在衬底的单元阵列区域和连接区域上,并在连接区域中形成台阶结构;第一金属线,其划分所述多个栅电极层并连接到衬底的单元阵列区域和连接区域;以及第二金属线,其划分所述多个栅电极层的一部分并连接到衬底的连接区域。基于衬底的上表面,第二金属线的下端部分的深度可以大于单元阵列区域中的第一金属线的下端部分的深度。
  • 垂直存储器件

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