专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种定位印刷机构-CN201922106444.4有效
  • 谢名优;赵希华;王培学;纪树滨;王培法;辛滨;李春花 - 汕头东风印刷股份有限公司
  • 2019-11-29 - 2020-10-02 - B41J3/44
  • 本实用新型提供一种定位印刷机构,具有预涂膜由膜放卷装置供料,预涂膜由导辊牵引依次经过喷印单元、上胶单元、复合单元,预涂膜在复合单元与承印物进行图案转移,承印物由放卷机构供料,复合单元的复合辊配置有第一编码器,复合单元一侧设有对位检测装置,其中喷印单元、第一编码器、对位检测装置以及牵引导辊均由系统控制联动。本实用新型利用膜转移形成图案,通过对图案的检测及编码器对喷印到复合的计算,能够使预涂膜上的图案在承印物上定位精准,更具体到与承印物上的图案进行叠加,使图案更为立体且具备层次感。
  • 一种定位印刷机构
  • [发明专利]图案形成装置及图案形成方法-CN201410043945.1有效
  • 川越理史;增市干雄;上野博之;正司和大;芝藤弥生;上野美佳 - 大日本网屏制造株式会社
  • 2014-01-29 - 2014-08-06 - B41F7/02
  • 本发明涉及图案形成装置及图案形成方法。图案形成装置具有:第一保持单元(61),对在一面担载有图案形成材料(PT)的橡皮布(BL)以使图案形成材料的担载面朝上的水平姿势进行支撑;第二保持单元(41),将对图案形成材料进行图案成形的版(PP)或要被转印图案的基板(SB)作为处理对象物,以使处理对象物与第一保持单元(61)保持的橡皮布(BL)的上表面接近相向的方式,保持处理对象物;托起单元(641),从橡皮布(BL)的下表面侧局部托起橡皮布(BL)中央部的有效区域,使有效区域与被第二保持单元(41)保持的处理对象物抵接,托起单元(641)沿着橡皮布(BL)的下表面移动使橡皮布(BL)的托起位置变化。
  • 图案形成装置方法
  • [发明专利]图案形成装置及图案形成方法-CN201610539389.6有效
  • 川越理史;增市干雄;上野博之;正司和大;芝藤弥生;上野美佳 - 斯克林集团公司
  • 2014-01-29 - 2019-01-08 - B29C59/02
  • 本发明涉及图案形成装置及图案形成方法。图案形成装置具有:第一保持单元(61),对在一面担载有图案形成材料(PT)的橡皮布(BL)以使图案形成材料的担载面朝上的水平姿势进行支撑;第二保持单元(41),将对图案形成材料进行图案成形的版(PP)或要被转印图案的基板(SB)作为处理对象物,以使处理对象物与第一保持单元(61)保持的橡皮布(BL)的上表面接近相向的方式,保持处理对象物;托起单元(641),从橡皮布(BL)的下表面侧局部托起橡皮布(BL)中央部的有效区域,使有效区域与被第二保持单元(41)保持的处理对象物抵接,托起单元(641)沿着橡皮布(BL)的下表面移动使橡皮布(BL)的托起位置变化。
  • 图案形成装置方法
  • [实用新型]一种实现无缝拼接的装饰构件及其拼接而成的装饰部件-CN201120168453.7有效
  • 铁兵 - 铁兵
  • 2011-05-25 - 2012-04-04 - E04F13/072
  • 本实用新型提供一种实现无缝拼接的装饰构件及其拼接而成的装饰部件,该装饰构件由基板和固定在基板上的装饰图案单元构成,多个所述装饰构件之间能相互拼接,使装饰图案单元组合成装饰图案而设于基板上,所述装饰图案单元固定在基板上而与该基板形成部分重叠并对该基板的至少一个边缘形成部分或全部覆盖,且该装饰图案单元伸出基板边缘部分的背面设置有一个以上第一结合组件,所述基板上表面未与装饰图案单元重叠的区域设置有一个以上第二结合组件。所述装饰部件利用上述装饰构件拼接构成,通过第一结合组件与相邻装饰构件基板的第二结合组件相结合,装饰图案单元组合成装饰图案覆盖住基板间的缝隙。
  • 一种实现无缝拼接装饰构件及其部件
  • [发明专利]制造半导体器件的方法-CN202110226898.4在审
  • 崔允荣;李东均;李相晤;朴相在 - 三星电子株式会社
  • 2021-03-01 - 2021-09-03 - H01L21/033
  • 该方法包括:提供衬底,在该衬底中,限定了包括第一单元区域和第一外围区域在内的主要区域、和包括第二单元区域和第二区域在内的边缘区域;在衬底上依次形成模制层、支撑件层、掩模层和初步图案层;对初步图案层曝光,以分别在第一单元区域和第二单元区域的掩模层上同时形成第一图案和第二图案;在第二图案上形成蚀刻停止层;以及使用蚀刻停止层和第一图案来蚀刻掩模层,以在第一单元区域的模制层和支撑件层中形成孔图案
  • 制造半导体器件方法
  • [发明专利]装饰构件-CN201980032142.7在审
  • 金容赞;金起焕 - 株式会社LG化学
  • 2019-06-17 - 2020-12-22 - A45D33/18
  • 本说明书涉及一种装饰构件,其包括:基板;图案层,所述图案层包括设置在基板的一个表面上的两个以上的单元图案;以及无机层,所述无机层形成在图案层上,其中,无机层包括这样的区域,在该区域中,形成在每个单元图案上的无机层的厚度(t(x))根据布置单元图案的方向(x)而增加。
  • 装饰构件

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