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[发明专利]废微蚀液再生与铜回收装置-CN201010510952.X无效
发明人：罗忠凯;谢羽 -专利权人：罗忠凯
申请日： 2010-10-19 - 公布日： 2011-02-16 - 主分类号： C23F1/46 文献下载
摘要：一种废微蚀液再生与铜回收装置，它以电路板待加工工件于微蚀刻槽内形成已加工工件，在此过程中以过氧化氢-硫酸型溶液为微蚀刻液，脫除工件表面的氧化铜和极少量金属铜，使微蚀刻液铜离子浓度增加成为废微蚀刻液，经过脱除废微蚀液中残存过氧化氢,电积铜离子为金属铜,补充微蚀液中损失组分至合格微蚀液，合格微蚀液返回微蚀刻槽的再生循环过程。它克服了现有电路板企业的电路板微蚀刻工艺中的微蚀废液只经简单处理后即被排放，且处理过程浪费大，资源损失严重的缺陷；适合作各种电路板生产企业的电路板含铜废微蚀废液再生循环与铜回收。
废微蚀液再生回收装置

[实用新型]微蚀液的循环再生及铜的回收装置-CN201120327501.2有效
发明人：章晓冬;刘江波 -专利权人：广州市天承化工有限公司
申请日： 2011-09-02 - 公布日： 2012-06-13 - 主分类号： C23F1/46 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种微蚀液的循环再生及铜的回收装置，包括微蚀工作槽、电解回收及再生槽、PLC控制器，所述电解回收及槽与微蚀刻工作槽以管道相连，PLC控制器采用生产线入板信号控制电解回收及再生槽；所述电解回收及再生槽的槽体底部设置有喷管或打气管本实用新型能将微蚀废液再生并返回微蚀槽中使用，提供稳定的微蚀效果，更能创造良好的经济利益和环保效益；该系统与微蚀线相互连接后，自动循环运作，在回收金属铜的同时对微蚀液进行再生，经再生后的微蚀液可循环使用
微蚀液循环再生回收装置

[发明专利]电子发射元件及其制造方法、以及电光学装置、电子仪器-CN200510135780.1无效
发明人：篠崎顺一郎 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2005-12-28 - 公布日： 2006-07-12 - 主分类号： H01J9/02 文献下载
摘要：在元件基板(11)上，利用液滴喷出法将导电性功能液(30)进行图案配置，通过干燥而形成导电膜(12)。而且，在导电膜(12)上通过同样的工序将抗蚀剂膜(33)进行图案形成，将抗蚀剂膜(33)作为掩模，将导电膜(12)的外缘部(12a)进行蚀刻而除去。
电子发射元件及其制造方法以及光学装置电子仪器

[发明专利]半导体图案化光致抗蚀剂层的重作工艺-CN03143604.8有效
发明人：颜裕林;张庆裕 -专利权人：旺宏电子股份有限公司
申请日： 2003-07-25 - 公布日： 2005-01-26 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：一种半导体图案化光致抗蚀剂层的重作工艺。首先，提供一衬底，衬底上依序形成有第一抗反射介质涂层、第一光致抗蚀剂助黏层及第一图案化光致抗蚀剂层。接着，去除第一抗反射介质涂层上的第一图案化光致抗蚀剂层及第一光致抗蚀剂助黏层，例如以湿式剥离法完成。然后，形成第二抗反射介质涂层于第一抗反射介质涂层上。然后，形成第二光致抗蚀剂助黏层于第二抗反射介质涂层上。接着，形成第二图案化光致抗蚀剂层于第二光致抗蚀剂助黏层上。
半导体图案化光致抗蚀剂层工艺

[发明专利]抗蚀剂图案被覆用涂布液-CN201580049091.0有效
发明人：西田登喜雄;志垣修平;藤谷德昌;远藤贵文;坂本力丸 -专利权人：日产化学工业株式会社
申请日： 2015-09-18 - 公布日： 2020-02-07 - 主分类号： C09D201/06 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种新型的抗蚀剂图案被覆用涂布液。本发明涉及抗蚀剂图案被覆用涂布液以及使用该涂布液的抗蚀剂图案或反转图案的形成方法，所述抗蚀剂图案被覆用涂布液包含：A成分：含有至少1个羟基或羧基的聚合物；B成分：A‑SO
抗蚀剂图案被覆用涂布液

[发明专利]铜基材料缓蚀液及其制备方法、缓蚀方法-CN201910617642.9有效
发明人：李卫平;白鹭;刘慧丛;陈海宁;朱立群 -专利权人：北京航空航天大学
申请日： 2019-07-09 - 公布日： 2020-11-06 - 主分类号： C23F11/10 文献下载
摘要：一种铜基材料缓蚀液及其制备方法、缓蚀方法，该缓蚀液包括质量比为(1～100)∶(2～11)∶1000的疏水改性纳米粒子、缓蚀剂和有机溶剂。还提供一种缓腐方法，通过喷涂上述缓蚀液在铜基材料表面，疏水改性纳米粒子表面的微观结构与缓蚀剂之间形成一个空气界面层，起到缓蚀作用的同时，不影响铜基导电性能。
基材料缓蚀液及其制备方法

[实用新型]抗蚀剂层的薄膜化装置-CN201820185391.2有效
发明人：丰田裕二;后闲宽彦 -专利权人：三菱制纸株式会社
申请日： 2018-02-02 - 公布日： 2018-09-07 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：提供一种抗蚀剂层的薄膜化装置，前述抗蚀剂层的薄膜化装置在用于使形成有抗蚀剂层的基板的抗蚀剂层薄膜化而使用的抗蚀剂层的薄膜化装置中，能够解决薄膜化处理液向浸渍槽的上游侧逆流、抗蚀剂层的薄膜化量不均匀的问题在具备薄膜化处理单元的抗蚀剂层的薄膜化装置中，薄膜化处理单元具有装有薄膜化处理液的浸渍槽，借助对浸渍槽的入口辊对的上侧辊施加载荷的载荷机构，防止薄膜化处理液向上游侧的逆流。
抗蚀剂层薄膜化处理薄膜化装置浸渍槽薄膜化逆流施加载荷载荷机构上游不均匀入口辊侧辊基板

[发明专利]抗蚀剂剥离液组合物及利用该组合物的抗蚀剂剥离方法-CN201210299605.6有效
发明人：金圣植;李喻珍;高京俊;金正铉 -专利权人：东友FINE-CHEM股份有限公司
申请日： 2012-08-21 - 公布日： 2013-04-24 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及一种抗蚀剂剥离液组合物及利用该组合物的抗蚀剂剥离方法，更具体地涉及下述抗蚀剂剥离液组合物及利用该组合物的抗蚀剂剥离方法，所述抗蚀剂剥离液组合物通过包含(a)多面体倍半硅氧烷及(b)碱性化合物，抗蚀剂图案及干式及湿式蚀刻残渣去除力优异，对含有铝和/或铜的金属配线的配线防蚀性能及对剥离液的剥离性能优异，容易观察剥离液的色变，因此可以有效地适用于为了实现高分辨率而适用了微细图案的平板显示装置的制造工艺及使用了铜配线的平板显示装置的制造工艺中
抗蚀剂剥离组合利用方法

[发明专利]使用了两层型防反射膜的光致抗蚀剂图形的形成方法-CN200580040348.2有效
发明人：畑中真 -专利权人：日产化学工业株式会社
申请日： 2005-11-01 - 公布日： 2007-10-31 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种在半导体器件制造的光刻工序中、使用能用光致抗蚀剂用显影液进行显影的防反射膜、形成光致抗蚀剂和防反射膜都为矩形形状的图形的方法。本发明通过提供下述光致抗蚀剂图形的形成方法解决了上述课题，即，一种光致抗蚀剂图形的形成方法，其包括形成可溶于光致抗蚀剂用显影液的第1防反射膜的工序；在上述第1防反射膜上形成可溶于光致抗蚀剂用显影液并且对光致抗蚀剂用显影液的溶解速度比上述第1防反射膜小的第2防反射膜的工序；在上述第2防反射膜上形成光致抗蚀剂的工序；对由上述第1防反射膜、上述第2防反射膜和上述光致抗蚀剂被覆的半导体基板进行曝光的工序；和利用光致抗蚀剂用显影液进行显影的工序。
使用两层型防反射光致抗蚀剂图形形成方法

[发明专利]钢的宏观组织与缺陷腐蚀试剂及检测方法-CN201310640094.4在审
发明人：盖秀颖;刘金柱;刘艳梅;刘宏伟;王严沿 -专利权人：中国科学院金属研究所
申请日： 2013-11-30 - 公布日： 2015-06-03 - 主分类号： G01N1/32 文献下载
摘要：HNO320%～25%，H2O65%～75%，第二个子试剂为：HNO325%～35%，H2O65%～75%，第三个子试剂为：HNO33%～5%，H2O95%～97%；所述检测方法包括前处理、第一个子试剂浇蚀20～30分钟、第二个子试剂浇蚀10～20分钟、第三个子试剂浇蚀3～5分钟以及成像等步骤。
宏观组织缺陷腐蚀试剂检测方法

[发明专利]电路板微蚀废液再生循环工艺-CN201110031600.0无效
发明人：赵伟宏;史灿科;罗忠凯 -专利权人：深圳市惠尔能科技有限公司
申请日： 2009-07-15 - 公布日： 2011-07-20 - 主分类号： C23F1/46 文献下载
摘要：本发明实施例提供了一种电路板微蚀废液再生循环工艺。该电路板微蚀废液再生循环工艺包括以下步骤：步骤a，把微蚀废液泵入除过氧化氢槽；步骤b，脱除过氧化氢后，将微蚀废液泵入铜回收槽；步骤c，将微蚀废液泵入微蚀液组分补充配制槽；步骤d，将合格微蚀液自动返回生产线本发明实施例还提供一种电路板微蚀废液再生循环装置。本发明实施例的电路板微蚀废液再生循环工艺克服了现有PCB企业的电路板微蚀刻工艺中的微蚀废液只经简单处理后即被排放，且处理过程浪费大，资源损失严重的缺陷。
电路板废液再生循环工艺

[发明专利]一种基于液相激光烧蚀制备ZnO/Zn2-CN201810646938.9有效
发明人：刘舒婷;邹友生 -专利权人：南京理工大学
申请日： 2018-06-22 - 公布日： 2020-06-19 - 主分类号： C01G9/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于液相激光烧蚀制备ZnO/Zn2SnO4纳米棒的方法。采用液相激光烧蚀与溶剂热法相结合的方式，通过激光烧蚀浸没在溶液中的高纯金属锌靶，获得高活性溶剂热前驱体，经过溶剂热法在较温和的条件下生长氧化锌纳米棒，再通过激光烧蚀浸没在溶液中的高纯金属锡靶，获得高活性溶剂热前驱体，并与上述制备的氧化锌纳米棒混合，进一步通过二次溶剂热法在氧化锌纳米棒上生长出结晶性良好的锡酸锌颗粒，并形成ZnO/Zn2SnO4
一种基于激光制备 zno zn base sub

[实用新型]微蚀液铜回收系统-CN201320041889.9有效
发明人：肖才新 -专利权人：东莞中盈环科节能科技有限公司
申请日： 2013-01-27 - 公布日： 2013-09-11 - 主分类号： C25C1/12 文献下载
摘要：本实用新型的微蚀液铜回收系统，包括生产设备﹑微蚀废液储存罐﹑储液灌和废液处理站，在微蚀废液储存罐和储液灌之间依次设置有循环槽和电解槽，循环槽上设置有为输送微蚀废液提供动力的防腐泵，电解槽内设置有电解微蚀废液中铜离子的阳极电解针和阴极电解针，分解提取微蚀废液中的铜，电解槽壁上设置有超温、过流、过压报警用的传感器﹑报警灯和报警铃。本实用新型微蚀液铜回收系统，微蚀废液通过电解铜冶金技术实现了微蚀废液中铜的回收,达到节能减排的效果，提高了能源的利用率，进一步落实企业清洁生产及节能减排工作，降低生产成本及保护环境，实现污染预防及资源的节约
微蚀液铜回收系统

[发明专利]一种冷冻结晶回收微蚀液的设备、工艺及其应用-CN202210905936.3在审
发明人：张宇;张岩;江克明;李作良;郑文清 -专利权人：广州源康精密电子股份有限公司
申请日： 2022-07-29 - 公布日： 2022-11-22 - 主分类号： C02F1/22 文献下载
摘要：本发明公开了一种冷冻结晶回收微蚀液的设备、工艺及其应用，该工艺的具体流程为：微蚀液收集、冷冻结晶、固液分离和微蚀液回收。通过微蚀液的成分的溶解度特性利用冷冻结晶工艺分离出五水合硫酸铜。与本发明工艺配套使用的设备包括依次连接的废液贮槽、第一离心泵、冷冻釜、第二离心泵、旋流器和回收液贮槽，冷冻釜内设有盘管，盘管内装有冰水，盘管与废液接触并使之降温，微蚀液中的无水合硫酸铜受冷在溶解度大幅度降低，形成结晶，得到固液混合物后送入旋流器，进行固液分离，底部的结晶主要成分为五水合硫酸铜，顶部的溶液主要成分为硫酸、过硫酸钠和少量的五水合硫酸铜，即为回收的微蚀液。该设备连接方式简便，适合大规模处理回收微蚀液。
一种冷冻结晶回收微蚀液设备工艺及其应用

[发明专利]一种用于铜箔切片观察的微蚀液及其配制方法与微蚀方法-CN202110501032.X在审
发明人：李红琴;江泱;杨红光 -专利权人：九江德福科技股份有限公司
申请日： 2021-05-08 - 公布日： 2021-08-10 - 主分类号： C23F1/34 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于铜箔切片观察的微蚀液及其配制方法与微蚀方法，该微蚀液的配制方法为：用去离子水将氯化铵固体溶解，继续边搅拌边加入浓氨水定容，得到pH=10的氨缓冲液；取pH=10的氨缓冲液，加入双氧水，得到微蚀液。本发明的微蚀液通过将氯化铵加入到氨水和双氧水的水溶液中，NH4+在溶液中起缓冲作用，能有效抑制氨水对铜的过度蚀刻作用，防止铜被咬蚀而出现氧化、异色等影响切片观察的现象，通过本发明所配制的微蚀液，处理PCB铜箔、锂电铜箔、覆铜板等铜材料制作的切片表面，用于观察铜牙、量测铜厚等存在明显的优势。
一种用于铜箔切片观察微蚀液及其配制方法

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