专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果2399980个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [实用新型]一种微在线循环再生系统-CN202222304058.8有效
  • 聂国勇;陈仁华;杨滔;彭君 - 长沙利洁环保科技有限公司
  • 2022-08-31 - 2022-12-27 - C23F1/46
  • 本实用新型提供了一种微在线循环再生系统,包括微缸和电解槽;所述电解槽包括槽体,槽体内设有阳极区、阴极区、阳极循环区、微循环区和阴极循环区;所述电解槽阳极区和阳极循环区通过管道相连,所述微循环区和电解槽阳极区溢流相连,所述微循环区与阳极循环区顶部连通;所述电解槽阴极区与阴极循环区底部通过管路连通,顶部溢流连通;所述微循环区连接过滤机,所述过滤机连接微缸,所述微缸连接废液收集桶,所述废液收集桶连接阳极循环区;所述阳极循环区与阴极循环区之间连接有微储存桶和再生储存桶;本实用新型可以将硫酸‑过硫酸钠微循环再生,再次直接利用,节约成本且稳定性高,做到废水零排放,从而保护环境。
  • 一种微蚀液在线循环再生系统
  • [发明专利]涂布装置-CN200610143525.6有效
  • 原田光治;内河喜代司 - 东京应化工业株式会社
  • 2006-11-10 - 2007-05-16 - G03F7/16
  • 本发明提供一种涂布装置,该涂布装置抑制颜料分散型抗剂的颜料成分凝聚。本发明所提供的涂布装置为将颜料分散型抗涂布于被处理基板上的涂布装置,该涂布装置具有:喷嘴,该喷嘴用于吐出颜料分散型抗;用于供给颜料分散型抗的涂布供给部;以及将由所述涂布供给部供给的颜料分散型抗导向喷嘴的配管由于本发明的涂布装置具有上述结构,因而即使颜料分散型抗通过导电管内,也可以抑制颜料成分的凝聚。
  • 装置
  • [实用新型]处理供给装置-CN201721148388.5有效
  • 佐佐卓志;石丸大辅;桥本克也;志手英男;若水信也;木村一彦 - 东京毅力科创株式会社
  • 2017-09-08 - 2018-05-18 - H01L21/67
  • 本实用新型提供一种能够与装置内的各部分的位置关系、配管、设置条件等无关地利用过滤器适当地去除处理内的微粒的处理供给装置。在以往的处理供给装置中,有时处理经过过滤器时的液压由于缓冲罐与过滤器的位置关系、两者之间的配管等而不成为期望的液压。本实用新型的抗供给装置对涂布喷嘴供给抗,所述抗供给装置具备:缓冲罐,其暂时贮存从用于贮存抗的抗供给源供给的处理;过滤器,其设置于涂布喷嘴与缓冲罐之间,用于将抗中的异物去除;以及泵,其将被过滤器去除异物后的抗向涂布喷嘴送出,其中,缓冲罐具有对贮存于该缓冲罐中的抗进行加压搬送的加压搬送功能。
  • 处理供给装置
  • [实用新型]剂层的薄膜化装置-CN201520724767.9有效
  • 丰田裕二;后闲宽彦;中川邦弘 - 三菱制纸株式会社
  • 2015-09-18 - 2016-03-02 - G03F7/30
  • 本实用新型的课题在于提供一种抗剂层的薄膜化装置,在具备通过浸渍槽中的薄膜化处理使抗剂层中的成分胶束化的薄膜化处理单元的抗剂层的薄膜化装置中,通过将基板上表面的抗剂层表面的薄膜化处理的覆盖量分布抑制在最小限度,能够解决抗剂层的薄膜化处理量不均匀的问题。抗剂层的薄膜化装置的特征在于,薄膜化处理单元具有用于向基板下表面的抗剂层赋予薄膜化处理的浸渍槽,设有用于通过辊涂敷向基板上表面的抗剂层赋予薄膜化处理的涂敷辊。通过上述抗剂层的薄膜化装置能够解决问题。
  • 抗蚀剂层薄膜化装
  • [发明专利]一种抗氯离子铜面微剂及其制备方法-CN202010232634.5在审
  • 黄钟扬 - 黄钟扬
  • 2020-03-28 - 2020-05-29 - C23F1/18
  • 本发明涉及金属表面处理剂技术领域,具体涉及一种线路板用的微剂及其制备方法。本发明提供的抗氯离子铜面微剂包括如下A、B,其中A组分成分:50%硫酸溶液:20‑200ml/L,50%过氧化氢:20‑200ml/L,自来水:余量;B组成成分:分散剂:10‑60ml/L,稳定剂:0.4‑4g/L,侧保护剂:100‑300mg/L,50%硫酸:2‑8ml/L,自来水:余量。本发明提供的铜面微剂可以有效控制微速率,对环境友好,不会造成环境污染,还具有较好的粗糙度,并且氯离子达100ppm时仍然具备很好的微效果(上述自来水含Cl‑液可按成分比例制备成浓缩;(2)本发明提供的微剂,过氧化氢的分解速率低,且根据加入B的量控制微剂的微速率,提高微效率;(3)本发明提供的微剂可有效抵抗含100ppm的氯离子水质
  • 一种氯离子铜面微蚀剂及其制备方法
  • [发明专利]金相试样自动擦-CN201811542017.4在审
  • 袁野;范绍华;周希 - 中核建中核燃料元件有限公司
  • 2018-12-17 - 2020-06-23 - G01N1/32
  • 本发明公开了一种金相试样自动擦机,它包括进样槽,进样槽内设有进样推杆,进样推杆穿过进样槽并与进样槽外部的进样推杆驱动电机连接,进样槽与擦槽连接,擦槽内安装有擦推杆,擦推杆与设置在擦槽外的擦推杆驱动电机连接,擦槽还与样滑槽连接,样滑槽安装在储样槽内,储样槽上还开有储样槽溢水孔,储样槽还与出样推杆连接,出样推杆与出样推杆驱动电机连接,擦槽上安装有盖板,盖板上安装有擦头,擦头与擦头驱动电机连接,擦头上设置有擦接口其优点是:使用本装置操作人员无需特别防护,浸蚀不会对设备、环境和操作人员造成损害。
  • 金相试样自动擦蚀机
  • [发明专利]图案的形成方法及显影-CN201080019592.1有效
  • 东野诚司;近重幸 - 株式会社德山
  • 2010-05-20 - 2012-04-11 - G03F7/32
  • 本发明提供一种抗图案的形成方法及抗剂用显影,所述抗图案的形成方法包括如下工序:抗膜形成工序:在基板上形成含有特定的杯芳烃衍生物的抗膜;潜像形成工序:使所述抗膜选择性地曝光于高能射线、形成图案的潜像;及显影工序:用含有选自由含氟烷基醚以及含氟醇组成的组中的至少一种的含氟溶剂的显影将没有曝光于高能射线的抗膜的部分除去,由此对所述潜像进行显影;以上述含氟溶剂作为抗剂用显影
  • 图案形成方法显影液

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top