专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种激光器分光装置-CN201120227500.0有效
  • 李彬彬 - 北京镭宝光电技术有限公司
  • 2011-06-30 - 2012-03-14 - H01S3/00
  • 本实用新型涉及一种激光器分光装置,包括沿激光入射方向依次设置在激光器入射轴上的基频组和若干倍频组,所述基频组包括设置于所述激光入射轴的第一反光镜和设置于第一反光镜反射光线路上的第二反光镜,任意一个倍频组包括设置于所述激光入射轴上的倍频晶体、第一分镜和位于第一分镜反射光线路上的第二分镜,所述第一反光镜可移动地设置于激光入射轴上;除最邻近吸光器的倍频组之外的任意倍频组中,第一分镜可移动地设置于所述激光入射轴上。并且,实现了多波长的同路输出。此外,倍频晶体可以固定设置,无需更换位置,简单且方便。
  • 一种激光器分光装置
  • [发明专利]全息显示系统及其全息显示方法及电子设备-CN202211733937.0在审
  • 曾洋;卢峰;郭万龙;吴曜东 - 上海天马微电子有限公司
  • 2022-12-30 - 2023-04-11 - G03H1/22
  • 本申请提供了一种全息显示系统及其全息显示方法及电子设备,全息显示系统,包括:在第一方向上依次设置的背光模组、空间调制器以及多个液晶光栅模组;背光模组用于出射背光光束;空间调制器用于对背光光束进行相位调制和振幅调制;多个液晶光栅模组在第一方向上依次设置;基于入射线的偏振方向,液晶光栅模组能够改变入射线的传播方向或保持入射线的传播方向;其中,至少一个液晶光栅模组的入侧具有第一旋器件,第一旋器件能够旋转入射线的偏振方向,使得在设定时间段,至少一个液晶光栅模组改变入射线传播方向,至少一个液晶光栅模组不改变入射线的传播方向。
  • 全息显示系统及其方法电子设备
  • [发明专利]透明目标的双表面三维重构方法、装置和系统-CN201611025064.2在审
  • 乔杨;徐熙平;潘越;徐昕阳 - 长春理工大学
  • 2016-11-17 - 2017-05-17 - G06T17/30
  • 本发明实施例提供了透明目标的双表面三维重构方法、装置和系统,通过发光端采用自然作为入射照射透明目标,入射经由前表面和后表面反射,获得反射,由第一相机端对反射进行接收,并由第二相机端对透明目标的透射进行接收在对前表面进行三维重构时,首先利用了偏振分析方法,根据由反射的偏振度求得了入射和反射的方向向量,在此基础上,利用了三角测量方法分别确定了入射的空间位置和反射的空间位置。由于同时采用了三角测量方法以及偏振分析方法获取重构所需信息,确定出入射的空间位置和反射的空间位置,依据两者交点进行重构,从而简化了三维重构的计算步骤。
  • 透明目标表面三维方法装置系统
  • [发明专利]掩模缺陷检测系统-CN202310208697.0在审
  • 沙鹏飞;吴晓斌;王魁波;谢婉露;户权;韩晓泉;李慧;罗艳;马赫;谭芳蕊;尹皓玉 - 中国科学院微电子研究所
  • 2023-03-06 - 2023-06-23 - G01N21/956
  • 本发明提供一种掩模缺陷检测系统,包括:光源,所述光源用于发射入射场;聚焦组件,所述聚焦组件用于所述入射场聚焦;掩膜,所述掩膜的检测面位于所述入射场的焦点上,所述检测面设有缺陷,所述入射场经所述检测面反射并形成反射场,所述入射场经所述缺陷反射并形成散射场;明场成像波带片、暗场成像波带片,所述明场成像波带片和所述暗场成像波带片中的其中一者设于所述反射场和所述散射场的照射路径上,以用于使所述反射场和所述散射场照射于所述明场成像波带片和所述暗场成像波带片中的其中一者
  • 缺陷检测系统
  • [发明专利]操纵装置-CN200880129043.2有效
  • P·拉科南 - 纳诺科普有限公司
  • 2008-05-05 - 2011-04-13 - G02B5/18
  • 本发明的操纵装置(1)包括光源(2)和透射型衍射光栅(3),所述光源布置成产生指向衍射光栅的光束(i),所述光束的入射角(θ)和光栅几何结构被调节成将入射功率聚集到与入射束的方向相反的R反射衍射级并通过所述衍射光栅将入射功率聚集到
  • 操纵装置

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